0.5インチウェーハに対応させるための独自のレジスト処理方法を搭載！
当社では、ミニマルファブ技術研究組合に参加し、ミニマルの レジストコータ及びデベロッパの開発を行っています。 ミニマルファブは、世界中で使っていただける柔軟な汎用性と 超低コスト、高信頼性を併せ持ったイノベーショナルなシステムです。 研究開発、試作、少量多品種生産向けに、必要な生産量や目的に 合わせた設備規模や投資額に抑えられます。 【ミニマルコータ/デベロッパ 仕様】 ■基板：0.5インチウェーハ ■基板搬送 ・ミニマルシャトル＆搬送システム PLAD ・独自の局所クリーン化技術によりクリーンルーム不要 ■装置サイズ：294mm(W)×450mm(D)×1,440mm(H) ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピンコータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。
