ウェハーに付着した有機物除去する装置
製造工程で発生するウェハーNG品に着目し、機密流失の保護やウェハーの 再利用及び再生コストを低減する為、ウェハーに付着した有機物除去を目的とした装置 【特長】 ◆廃棄物、委託再生時の機密流失の保護。 ◆委託再生時の有機物除去費用の削減。 ◆試験用ウェハーの再利用による予備品費の削減。 ◆無破損ウェハーの再利用による製造コストの削減。 ※詳細は【資料請求】まで
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基本情報
製造工程で発生するウェハーNG品に着目し、機密流失の保護やウェハーの 再利用及び再生コストを低減する為、ウェハーに付着した有機物除去を目的とした装置 【特長】 ◆廃棄物、委託再生時の機密流失の保護。 ◆委託再生時の有機物除去費用の削減。 ◆試験用ウェハーの再利用による予備品費の削減。 ◆無破損ウェハーの再利用による製造コストの削減。 ※詳細は【資料請求】まで
価格情報
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納期
用途／実績例
【用途】 太陽電池、LED、集積回路製造の各分野で使用されています。
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企業情報
前工程(フォトリソ関連)装置各種、マニュアル式のスピンコーター(Si、液晶ガラス、化合物 他)など、試験研究用の装置から生産用自動装置各種を設計、製造、販売しております。 [半導体・液晶用試験研究開発、生産関連機器] 各種洗浄機（ウェット、ドライ）、スピンコーター、マスクアライナー、現像・エッチング装置、各種真空装置、プローバー、膜厚測定用ドリラー など