UHV対応の小型蒸発源です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に優れる点が特徴です。
超高真空対応の小型蒸発源です。電子衝撃加熱蒸発源の一種です。静電場収束によって熱陰極から発生する電子を蒸発材料に照射して蒸発を得ます。磁場収束型の電子衝撃加熱に比較して小型です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に優れる点が特徴です。
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基本情報
超高真空対応の小型蒸発源です。電子衝撃加熱蒸発源の一種です。静電場収束によって熱陰極から発生する電子を蒸発材料に照射して蒸発を得ます。磁場収束型の電子衝撃加熱に比較して小型です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に優れる点が特徴です。
価格情報
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納期
用途／実績例
高融点金属薄膜の生成、多層膜作製（多元同時蒸着も可能） 低次元構造試料作製
企業情報
オリジナルな実験機器を考案しても、なかなか製作者に意図が伝わらないなどの経験はありませんか？真空を使う実験では、「真空」は本質的な実験系の場を提供するに過ぎない場合が多いと思います。しかし、「真空」を利用する為に多くの制約が生じ、系の考案には様々な工夫が必要となります。サイエンスの要求をエンジニアリングの手法で提案し、実際に製作して系を確立するという完結したサービス体制が特徴です。
