2～12inchシリコンウェハ用のめっき装置です。
電流密度分布とめっき液の循環を考慮した特殊な水槽と治具で構成されています。専用の治具を使用することで、半導体・MEMSの精密なめっきが行なえます。常時ろ過を行いながら水槽底部からゆるやかな対流を起こし、オーバーフローする構造で、1面オーバーフロータイプと、高速撹拌が可能になった2面オーバーフロータイプがあります。直接の撹拌にはパドル撹拌を利用します。 ウェハ用めっき装置として20年の実績があり、多数の特許を取得しています。治具一つからの特注対応もしておりますので是非ご用命下さい。
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基本情報
基板素材 シリコンウェハだけでなくSiC、ガラス、GaAs、InP等の素材の基板へもお使いいただけます。 特注製作について 標準装置をベースに、お客様のサンプルに合わせた形状の治具や両面めっき用治具へカスタマイズできます。また、陽極酸化・アルマイト用治具などの装置の製作実績もございます。治具の種類も、完全密閉型、非密閉型治具、水平式等がありますので、ぜひご相談ください。
価格情報
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納期
用途／実績例
標準サイズは2〜12inchとなりますがご要望により、ご希望の装置を製作致します。
企業情報
山本鍍金試験器はめっき用試験器・分析器・研究用小型装置の専門メーカーです。 1950年から培ってきたノウハウと1000点を超える製品を駆使して、あなたにあった“唯一”をお作りいたします。めっきだけでなく、液体を扱う技術を活かし医工学や航空宇宙分野など広く様々な研究をサポートしています。 ハルセル試験装置や分析器から、バレルやウェハのめっき装置、筆めっきなど主に小型のめっき用器具を製造販売しております。