【事例紹介】液体の保温・加熱
伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、液体の保温・過熱の事例紹介です 【特徴】 ○半導体製造ラインにおけるシリコンウェハの洗浄 液晶製造ラインにおけるガラス基板の洗浄などに使用される 純水や薬液を保温・加湿することが可能 ○高品質の石英ガラスで2重に覆われた ハロゲンランプで構成されているため、不純物汚染が少なく 加熱効率95%以上と高効率に加熱することが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源による、液体の保温・過熱の事例紹介です 【特徴】 ○半導体製造ラインにおけるシリコンウェハの洗浄 液晶製造ラインにおけるガラス基板の洗浄などに使用される 純水や薬液を保温・加湿することが可能 ○高品質の石英ガラスで2重に覆われた ハロゲンランプで構成されているため、不純物汚染が少なく 加熱効率95%以上と高効率に加熱することが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
価格情報
-
納期
用途/実績例
【用途】 ○純水や薬液の保温・加湿
カタログ(2)
カタログをまとめてダウンロード企業情報
加熱、硬化、洗浄、改質、表面処理、接着、露光、照明、治療、計測、測定・・・「光」のことなら、ウシオにお任せください。光源からユニット、光の装置まで、独自の光技術で、お客さまの目的や用途に応じた最適な「光」をご提案いたします(共同実験、共同研究、デモ機・実験機のお貸し出しも承ります)。