薄膜蒸着における低い工程温度
高純度フィルムの形成が可能な、真空蒸着システム
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基本情報
プラズマを利用したＣＶＤで、source gas などで分解させ、そこで発生する グロー放電を利用する薄膜合成法です。 Glow discharge を起こさせるために、0〜13.56MHzの多様な周波数領域の powerを利用します。 ■□■メリット■□■ ■高純度フィルムの形成が可能 ■Source Gas によって多様な薄膜の形成が可能 ■大面積をコーティングする時にも、均一なuniformityと高い蒸着率 ■CONTROLが簡単で、大量処理が可能 ■薄膜蒸着における低い工程温度 ●その他詳細は、資料請求またはカタログをダウンロードして下さい●
価格情報
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納期
用途／実績例
真空蒸着システム
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先端技術の追求は、同時に自然環境に対する負荷を極限まで小さくする取り組みと私たちは考えています。この美しい地球の海、川、山に住む生物たちとの共存を可能にするため、私たちのテクノロジーが、ものづくりのプロセスのなかで活躍しています。 エコロジーに対する思いやりをもちながら、私どもはサーマルサイエンスのフォアランナーとして、無公害自動車開発へ向けての機械機能向上技術などスペシャリティを追求した付加価値の高い製品開発を推進しています。そして、多角的な経営展開と競争力のある製品技術の新規分野への参入など積極的な事業展開により、経営基盤の安定化を図っています。また、世界最高レベルの技術を保持するトップリーダー各社との技術提携により、新しい時代感覚と高度な技術力を蓄えて、世界中のユーザー様から厚い信頼を得ております。