各種ウェハーの基板洗浄や各種フォトマスク、磁気ディスク等の洗浄に最適
ファインシリーズ洗浄ユニット 『ファインソニック』は、サブミクロン以下のパーティクルを除去し、特殊型振動素子により効率よく音波を伝搬させ、ワークにダメージを与えません。多彩な周波数を選択可能（750/1000/1500/2000ｋHz）で、微細な出力調整ができ、1W刻みの安定した出力調整が可能です。最大出力がアップし、洗浄エリアの拡大が可能です。また、通信機能も強化され、発振器状態の監視、外部設定が可能になります。各種規格（FCC/CE/RoHS）にも対応しております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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基本情報
【特徴】 ○ニーズに応えて、さらに進化したバッチ式高周波洗浄ユニット ○サブミクロン以下のパーティクルを除去 ○特殊型振動素子により効率よく音波を伝搬させ、ワークにダメージを与えない ○外部信号により、８段階出力切替が可能 ○信頼性の高いCPU制御で、シーケンサーなど外部機器との接続が容易 ○均一な音圧を実現 ○多彩な周波数を選択可能：750/1000/1500/2000ｋHz ○微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整が可能 ○最大出力がアップし、洗浄エリアの拡大が可能 ○通信機能も強化：発振器状態の監視、外部設定が可能（PT-150MV) ○各種規格対応：FCC/CE/RoHS ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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用途／実績例
【用途】 ○シリコンウェハー、GaAs等ミラー後のファイナル洗浄 ○半導体デバイスに於ける拡散前、イオン注入後、RCA洗浄 ○ウェハー用カセット（キャリア）の洗浄 ○各種フォトマスクの成膜前後の洗浄、ブランクス、レチクル洗浄 ○磁気ディスクの成膜前及びファイナル洗浄 ○液晶ガラス等の成膜前洗浄 ○各種ウエハー基板洗浄（シリコン、ポリシリコン、化合物半導体、石英ガラス） ○各種電子部品 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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企業情報
私たちプレテックは、1982年の設立以来、一貫して超精密洗浄の各分野でスーパークリーニングシステムを創造して参りました。とくにメガソニック洗浄のファインシリーズやカセットレス洗浄は、早期に開発を手がけ国内外問わず高い評価をいただいております。 またプレテックは産学共同研究を基に新技術の開発を推進。東北大学との省エネ・ハイクオリティな枚葉式洗浄機の開発をはじめ山形大学、東京工業大学、中央大学とも共同開発をしております。 今後も、顧客第一優先の徹底、品質保証体制の確立とその維持、最先端技術の開発とその応用という３つの方針を実現するとともに、お客様の信頼と満足を得られるような魅力ある商品を創造・提供し、また、環境及び安全衛生の向上を目指して社会に貢献し続けたいと考えます。 そして、真のベンチャー企業として成長発展するために精密洗浄における最先端技術の更なる研究開発を続け、日本発の技術として世界に向けて発信し、技術立国日本を確固たる姿にするため社員一同いっそうの努力をして参ります。