ブラシ洗浄、超音波洗浄、リンス洗浄、N2ブロー乾燥の処理を行う装置です！
省スペースで、両面洗浄可能なメカグリップ機構の枚葉式スピン洗浄装置です。 メンテナンスが容易で高速、スピン乾燥、Ｎ２乾燥、によりウオーターマークを軽減します。（特許第3558543)
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基本情報
【特徴】 省スペース、メンテナンス容易 高速、スピン乾燥、Ｎ２乾燥、によりウオーターマークを軽減 両面洗浄可能なメカグリップ機構（特許第3558543) 対応試料サイズ: Ф225以下 ウエハー、液晶ガラス、セラミック基板、その他 Work : (Ф225 Wafer, Liquid , Crystal , Ceramic) カップ径 cup size : Ф350 sus316 本体サイズ main body size : W900×D950×H1750
価格帯
納期
用途／実績例
特徴 省スペース、メンテナンス容易 高速、スピン乾燥、Ｎ２乾燥、によりウオーターマークを軽減 両面洗浄可能なメカグリップ機構（特許第3558543) 装置仕様 対象ワークを手動にてセット、スピン回転により、ブラシ洗浄、超音波洗浄、リンス洗浄、N2プロー乾燥の処理を行う装置です。 対応試料サイズ: Ф225以下 ウエハー、液晶ガラス、セラミック基板、その他 Work : (Ф225 Wafer, Liquid , Crystal , Ceramic) カップ径 cup size : Ф350 sus316 本体サイズ main body size : W900×D950×H1750
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企業情報
2009年7月経済産業省より中小企業ものづくり基盤技術の高度化に関する研究開発計画の認定を受ける。 2010年6月太陽電池用ガラスエッチングについて、産業技術総合研究所と共同開発を開始 2011年2月3次元半導体研究センターに8インチケミカル洗浄装置を受注搬入 2011年7月埼玉県より次世代産業参入支援事業受託 2011年11月アルカリスピンエッチング装置開発。 仕様：大型基盤用（300角） 2012年2月埼玉県次世代産業参入支援事業終了 2012年4月太陽電池用シリコンウエハセパレーター新開発。