洗浄機の製品一覧
- 分類：洗浄機
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！
- その他半導体
- 加工受託
- ウエハー
冬の現場はもちろん、毎日の頑固な汚れに対応！最大80℃の強力温水洗浄と万全の安全装置で一年中頼れる一台！
- 高圧洗浄機
- 高圧洗浄機
- 温水洗浄機
冷却管にたまりやすい水垢・錆・泥・藻類・微生物スライム等を除去！金型の冷却効率を維持して不良品の増加や生産効率低下を防ぎます。
- その他洗浄機
節水や省エネ対策におすすめ！衛生・防爆の規格に準拠。設置例などを掲載した資料進呈。食品・飲料・医療分野に
- ノズル
- 食品洗浄装置
- その他洗浄機
POWTEX 2026（粉体工業展）出展のお知らせ｜スプレードライ・タンク洗浄・ダクト洗浄ソリューションを展示
ティックコーポレーション株式会社は、2026年11月25日（水）～27日（金）に東京ビッグサイトで開催される「POWTEX 2026（粉体工業展）」に出展いたします。 POWTEX 2026で展示する主な製品 ■ DryMaster｜スプレードライ工程のメンテナンス性を向上 ■ タンク洗浄ノズル｜CIP・容器洗浄の効率化と自動化 ■ ダクト洗浄ノズル｜粉体付着・堆積物の洗浄を効率化 ■ TankCleanソフト｜タンク洗浄ノズルの配置・選定をシミュレーション このような課題をお持ちの方におすすめです。 ・スプレードライ工程のメンテナンス時間を短縮したい ・スプレードライヤーの設備稼働率を高めたい ・タンク洗浄やCIP工程を自動化したい ・タンク洗浄に使用する水や薬液を削減したい ・タンク洗浄ノズルの選定や配置を見直したい ・ダクトや配管内部の粉体付着を効率的に洗浄したい 展示会名： POWTEX 2026（粉体工業展） 会場： 東京ビッグサイト 会期： 2026年11月25日（水）～27日（金） 時間： 9:30～17:00 ブース番号： 1-D19
SONOSYS社製メガソニック洗浄装置 最新リーフレット公開のお知らせ
このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。
SONOSYS社製メガソニック洗浄装置 最新リーフレット公開のお知らせ
このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。
≪Lechler≫特殊形状ノズルで強力な衝撃力で洗浄します！この形状はレヒラーだけ！
- 高圧洗浄機
- ノズル
- ノズル
POWTEX 2026（粉体工業展）出展のお知らせ｜スプレードライ・タンク洗浄・ダクト洗浄ソリューションを展示
ティックコーポレーション株式会社は、2026年11月25日（水）～27日（金）に東京ビッグサイトで開催される「POWTEX 2026（粉体工業展）」に出展いたします。 POWTEX 2026で展示する主な製品 ■ DryMaster｜スプレードライ工程のメンテナンス性を向上 ■ タンク洗浄ノズル｜CIP・容器洗浄の効率化と自動化 ■ ダクト洗浄ノズル｜粉体付着・堆積物の洗浄を効率化 ■ TankCleanソフト｜タンク洗浄ノズルの配置・選定をシミュレーション このような課題をお持ちの方におすすめです。 ・スプレードライ工程のメンテナンス時間を短縮したい ・スプレードライヤーの設備稼働率を高めたい ・タンク洗浄やCIP工程を自動化したい ・タンク洗浄に使用する水や薬液を削減したい ・タンク洗浄ノズルの選定や配置を見直したい ・ダクトや配管内部の粉体付着を効率的に洗浄したい 展示会名： POWTEX 2026（粉体工業展） 会場： 東京ビッグサイト 会期： 2026年11月25日（水）～27日（金） 時間： 9:30～17:00 ブース番号： 1-D19
詰まり知らずの特許ノズル！均一スプレーで驚くほどスムーズ！ノズル490/491シリーズ
- ノズル
- その他洗浄機
- スプレー洗浄機
ドイツ老舗ノズルメーカー、レヒラー社のウエブサイトがリニューアルしました
ヨーロッパno.1のノズルメーカー、レヒラー社（ドイツ）のウエブサイトがリニューアルしました。 工業用スプレーノズル（一般、環境、鉄鋼）と農業用スプレーノズルがトップページからアクセスすることが可能です。 下記URLからアクセス可能ですので、お時間が御座いましたら是非一度閲覧してみてください。
≪Lechler≫レヒラー社製タンク洗浄スプレーノズル PopUp WhirlyにATEXバージョン（防爆タイプ）がラインアップ
- その他洗浄機
- 食品洗浄装置
- ノズル
POWTEX 2026（粉体工業展）出展のお知らせ｜スプレードライ・タンク洗浄・ダクト洗浄ソリューションを展示
ティックコーポレーション株式会社は、2026年11月25日（水）～27日（金）に東京ビッグサイトで開催される「POWTEX 2026（粉体工業展）」に出展いたします。 POWTEX 2026で展示する主な製品 ■ DryMaster｜スプレードライ工程のメンテナンス性を向上 ■ タンク洗浄ノズル｜CIP・容器洗浄の効率化と自動化 ■ ダクト洗浄ノズル｜粉体付着・堆積物の洗浄を効率化 ■ TankCleanソフト｜タンク洗浄ノズルの配置・選定をシミュレーション このような課題をお持ちの方におすすめです。 ・スプレードライ工程のメンテナンス時間を短縮したい ・スプレードライヤーの設備稼働率を高めたい ・タンク洗浄やCIP工程を自動化したい ・タンク洗浄に使用する水や薬液を削減したい ・タンク洗浄ノズルの選定や配置を見直したい ・ダクトや配管内部の粉体付着を効率的に洗浄したい 展示会名： POWTEX 2026（粉体工業展） 会場： 東京ビッグサイト 会期： 2026年11月25日（水）～27日（金） 時間： 9:30～17:00 ブース番号： 1-D19
次世代メガソニック技術で最大300mmウェハーも一瞬でクリアに
- フォトマスク
- その他半導体製造装置
- 超音波洗浄機
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
SONOSYS社製メガソニック洗浄装置 最新リーフレット公開のお知らせ
このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。