加熱装置・炉の製品一覧
- 分類：加熱装置・炉
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アイソレーターをお持ちの方へ。高い薬品耐性と作業性を実現。低価格、短納期も実現可能なグローブボックス・アイソレーター用グローブ
- 作業用手袋
【2026年5月20日(水)～22日(金)】「インターフェックスWeek東京」出展のご案内
株式会社イトーは、幕張メッセで開催される「インターフェックスWeek東京」に出展致します。 当展示会は、世界25の国と地域から医薬品・化粧品・再生医療の研究・製造に関するあらゆる製品・サービスが出展する展示会として、日本最大の規模で開催。 世界中から医薬品・化粧品メーカー、再生医療企業が来場します。 当社ではTron Power社製「グローブボックス/アイソレーター用グローブ」を出展致します。皆様のご来場をお待ちしております。
グローブボックス内作業を最小に◎固体電解質材料スクリーニング/温度特性別インピーダンス評価◎複数均一・短時間・正確に試験評価
- リチウムイオン電池
- 2次電池・バッテリー
- 電気炉
《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献！高温下で内部構造の変化を直接観察
「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT（光コヒーレンストモグラフィー）を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。
《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献！高温下で内部構造の変化を直接観察
「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT（光コヒーレンストモグラフィー）を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- その他ヒータ
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
分析・評価装置の温度制御を高精度で支援。安定した熱源を提供するフィルムヒーター。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
均一な熱で焼き上げ・乾燥・保温を実現。食品設備の品質を支えるシート状のポリイミドヒーター。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
薄く、軽く、確実に発熱。電子機器の性能を支える温度制御技術で、限られたスペースでも効果を発揮する薄型ヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
体温管理から美容デバイスまで。精密な熱制御で、安心・安全な製品を実現する薄型ヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
クリーンルーム環境でも安定稼働。精密工程を支える高精度な温度制御技術で、有したフィルムヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス