加熱装置の製品一覧
- 分類：加熱装置
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！
- その他半導体
- 加工受託
- ウエハー
端子台接続で他社製ヒーターも高精度温調。プログラム制御・安全機能も
- 加熱装置
- その他理化学機器
有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとしても使用できる高性能真空蒸着ソースです。
- 蒸着装置
- 加熱装置
- 電気炉
【SH 真空 基板加用 高温プレートヒーター_Max 1100℃】CVD, PVD真空薄膜用
テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, ALD, PVD（スパッタ・真空蒸着）等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。 ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN） 基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品ご要求にも対応致します。 又、ヒーターコントローラは従来の据置型に加え19inchラックマウントも取扱います。
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- CVD装置
- アニール炉
- 加熱装置
【SH 真空 基板加用 高温プレートヒーター_Max 1100℃】CVD, PVD真空薄膜用
テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, ALD, PVD（スパッタ・真空蒸着）等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。 ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN） 基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品ご要求にも対応致します。 又、ヒーターコントローラは従来の据置型に加え19inchラックマウントも取扱います。
真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 1500℃、としても利用できるバーサタイルなヒーターユニット
- 蒸着装置
- 加熱装置
- 電気炉
【SH 真空 基板加用 高温プレートヒーター_Max 1100℃】CVD, PVD真空薄膜用
テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, ALD, PVD（スパッタ・真空蒸着）等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。 ◉ 最高使用温度850℃（SH-IN）、1100℃（SH-BN） 基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品ご要求にも対応致します。 又、ヒーターコントローラは従来の据置型に加え19inchラックマウントも取扱います。
水素ガスバーナー最新ラインナップや低炭素設備をご紹介！【サーマルテクノロジー2024】（10月10～11日 グランフロント大阪）
- 加熱装置
- 工業炉
- 乾燥機器
【出展情報】サーモテック2026 第9回 国際工業炉・関連機器展
このたび、ガスバーナーおよび工業炉メーカーである 正英製作所は東京ビッグサイトで開催される「サーモテック2026」に出展いたします。 本展示会は「環境・熱・未来 ～ともに考えよう 高効率な熱技術と持続可能な未来～」をテーマに掲げた、 カーボンニュートラル、高効率化、省人化や進展する生成AI・DXへの対応など次世代の熱技術を広く発信する展示会です。 弊社ブースでは「脱炭素燃料に対応したガスバーナ」「脱・低炭素型工業炉」「省エネシステム」「自動化省人化」など幅広い製品技術を紹介いたします。 ぜひブースへお立ち寄りください。 ブース：南ホール1 G016
炉からの放熱や熱伝導でお悩みの方へ！温度計算に基づく適正な素材選定と緻密な加工で設備の寿命延長と省エネを両立
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