半導体製造装置の製品一覧

  • 分類:半導体製造装置

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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  • その他搬送機械

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JIS・ISO規格の解説資料進呈。豊富な製品シリーズから好適な安全柵をご提案!デモキット無料貸出。

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  • その他安全・衛生用品

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コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライナ)です。

  • その他半導体製造装置

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Ø2”~6”対応全自動露光装置(マスクアライナ)

  • その他半導体製造装置

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Ø200mm Ø300mm対応露光装置(マスクアライナ)

  • その他半導体製造装置

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精密洗浄に適する高い周波数洗浄機(500kHz、1MHzHz)----<<テスト機レンタル(有償)、お問い合わせください>>

  • その他半導体製造装置

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製品構造確認など幅広いニーズに対応!不良品解析に役立つサービスをご紹介

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  • 解析サービス
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使用材料別の放熱特性を比較!過渡熱抵抗測定を行った事例をご紹介

  • 半導体検査/試験装置
  • 基板設計・製造
  • LEDモジュール

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陽極接合装置

  • 油圧機器
  • 造粒装置
  • その他半導体製造装置

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物理的・電気的なダメージを与えることなくパッケージの除去が可能!高選択性のエッチング

  • エッチング装置
  • 超音波洗浄機
  • 乾燥機器

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フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理が可能

  • CVD装置

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多彩なプラズマソースが搭載可能!CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計

  • CVD装置

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放射性汚染を最小限に抑制!用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能

  • イオン注入装置

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KrFエキシマレーザを使用した次世代パッケージ基板への微細加工技術をご提案します!

  • その他半導体製造装置

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金属、誘電及び有機膜成膜!熱蒸着装置をご紹介

  • 蒸着装置

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最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能

  • CVD装置

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ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能!クオーツ製チューブ型チャンバー

  • アニール炉

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ターボポンプ搭載可能!低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター

  • アニール炉

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最大156mm×156mm基板対応!真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能

  • アニール炉

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アニール処理後急速冷却機構!Annealsys社の高速熱処理装置をご紹介

  • アニール炉

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SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能!搬送チャンバーは3種類から

  • CVD装置

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ICPパワーによるイオン密度の制御!低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現

  • CVD装置

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高選択性エッチング!ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化

  • その他半導体製造装置

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トップクラスのスループット!柔軟性のあるモジュール化されたデザイン

  • その他半導体製造装置

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量産に必要な多くの安全対策仕様!コンパクトな装置サイズで成膜温度50~285℃

  • その他半導体製造装置

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500℃ウエハステージ!プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

  • その他半導体製造装置

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研究開発用、小規模バッチ用!簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trap標準搭載

  • その他半導体製造装置

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基板バイアス機構!当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご紹介

  • エッチング装置

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最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載!イオンビームスパッタ装置をご紹介

  • スパッタリング装置

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最大200mm径基板!ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP)

  • スパッタリング装置

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メカニカルクランプ又は静電チャック対応!サブナノメーターエッチング機構

  • エッチング装置

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最大150又は200mmウエハ基板対応!エッチング角度及びステージ傾斜・回転機構

  • エッチング装置

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インターロックカバーもご用意!研磨作業の更なる効率化を実現しました

  • ウエハ加工/研磨装置
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研究開発用の試料作製に好適!振動と騒音を大幅に抑えることに成功しました

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主軸に高精度アンギュラベアリングを採用!基準テーブル上で±10μm以内の面振れ精度を実現

  • ウエハ加工/研磨装置
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真空チャック式ホルダーや貼付けホルダーなど、豊富なラインアップをご用意!

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械
  • その他機械要素

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高精度・高効率性を追求した研磨技術!精密研磨装置の総合カタログをプレゼント

  • ウエハ加工/研磨装置

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固定砥粒盤から遊離砥粒盤、ポリシングクロスまで多種多様な研磨盤をご紹介いたします。

  • CMP装置
  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械

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手動で研磨盤にダイヤモンド液を吹き付けるよりも経済的!自動噴霧装置をご紹介します

  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他加工機械
  • その他理化学機器

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エッジのダレが無く、介在物の脱落も無いためEPMA等での評価に適しています!

  • ウエハ加工/研磨装置
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断面観察用試料が精密かつ容易に作成可能!試料を直接手で触れたり、押さえる必要がありません

  • ウエハ加工/研磨装置
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小さい試料を研磨する際に好適!1つの目的に対して1台を使用できるように設計開発されています

  • ウエハ加工/研磨装置
  • CMP装置
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精度や納期でお困りな方必見!微細性・平滑面に対し研磨を中核とする超仕上げを駆使し、超微細・超平滑面を実現いたします。

  • ウエハ加工/研磨装置

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【メルマガ配信】フィルム、液晶、電池業界向け「塗工用ヘッドを製造」/オーケーディー株式会社

精度や納期でお困りな方必見!微細性・平滑面に対し研磨を中核とする超仕上げを駆使し、超微細・超平滑面を実現いたします。 FDPや各種フィルム・電池製造装置の塗工用ヘッドに要求される微細性・平滑面に対し研磨を中核とする超仕上げを駆使し、 超微細・超平滑面を実現いたします。 材質はSUS等が製作可能です。 ご要望の精度は当社加工技術により保証致します。 納期については工程ごとに部分受託を行います。 例えば研磨加工のみ、機械加工のみ等で時間短縮可能! 【精度一覧】 ■全長    4000mm以下 ■先端真直度 0.001mm~0.010mm以下 ■内面平面度 0.001mm~0.010mm以下 ■先端面粗さ 0.1S以下 ■内面粗さ  0.05S~0.2S以下 塗工用ヘッド(ダイコーター)を依頼される際に確認しておきたいポイントをお纏めした資料を進呈中! ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

ラッピング加工技術で、高精度の仕上げ加工が可能。研磨駆動動力が少なく、省エネルギー設計で環境配慮も実現。【機械要素技術展に出展】

  • 加工受託
  • ウエハ加工/研磨装置
  • その他工作機械

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【1月23日より】精密加工特集に掲載されます!

『研磨機では平面精度が出せない』や『面粗さがクリアできない』などお困り事がある際は、直接お問い合わせください。 【ラッピング加工の特長】 ○湿式加工によりワークに高温をかけること無く加工する為、加工歪みが少い ○ワークをチャッキングしない状態で加工する為、ワークに加工応力が入りにくく加工後の経年精度変化が少ない ○ターニングやマシニング、研削では出し切れなかった平坦度も、ラッピング加工では可能 ○精度仕上げ加工(研削、マシニング)前に、基準面のラッピング加工を行うことで高性能の仕上加工が可能

112Gbpsまでの高速テストに対応可能の金属製同軸テストソケット

  • 半導体検査/試験装置
  • その他検査機器・装置

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研磨加工の納期が1ヶ月以上かかっているというお悩みの お客様の課題解決事例をご紹介します!

  • ウエハ加工/研磨装置

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【研磨加工課題解決事例】他社製、海外製超硬カッターも研磨可能

研磨加工の納期が1ヶ月以上かかっているというお悩みのお客様の 課題解決事例をご紹介します。 ■お悩み  これまでの取引先では研磨加工を依頼した際に納期が1ヶ月以上かかって  おり、急ぎの際は間に合わず、在庫を多めに持っておく必要がありました。  それでも間に合わない時は生産ラインを止めるしかなく困っていました。 ■ご提案  研磨加工の納期短縮 ■結果  急ぎの研磨加工依頼品を送った3日後には手元に戻してもらえるころができ、  止まっていた生産ラインをスピーディーに復旧することができました。  在庫も必要最低限の数量でよくなり管理も楽になりました。 ■事例まとめ ・課題:納期が1ヶ月以上かかっていた、間に合わない時は生産ラインを  止める必要があった ・ご提案サービスのポイント:お客様の都合に合わせスピーディーに対応

独自の技術でプラズマを発生/高周波、マイクロ波電源等は使いません。 AC100Vプラグ接続のみで即稼働!

  • その他半導体製造装置

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