N2 パージの製品一覧
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ワークを回転させながら照射させるため、ウェハー全領域に均一なUV照射を行なう事が可能
- その他半導体製造装置
- ウエハ加工/研磨装置
- 紫外線照射装置
レベル計＋冷却ボックスで、高炉、焼却炉などの高温環境でも難なく計測！
- レベル計・レベルスイッチ
- その他計測・記録・測定器
- その他
ボンベ残量の心配無用！スイッチを押すだけで数分後に窒素ガスが供給されます。
- 窒素ガス発生装置
- ガス発生装置
- その他実験器具・容器
ニードルバルブ付！N2、Air、H2、He、Ar、O2、CO2等の気体が対象となります！
- 流量計
最大流量は100mL/min～20L/min！オプションでパネル取付ナット付Rc1/8をご用意
- 流量計
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
Ti,Zr,W,Mo,Ta,Nb,Hf合金中の酸素・窒素分析のレポート
- その他計測・記録・測定器
- 分析機器・装置