更新日： 集計期間:2025年06月18日～2025年07月15日
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【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1050SPX(MD) 高速度タイプはFS-1050UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ
【昇降ステージ】リニアエンコーダ内蔵により10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを内蔵した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
ローコスト！一体弾性ヒンジ機構の摩擦レス動作により移動精度が優れています！
『ML-20XYL』は、薄型設計のXY軸・高速応答・薄型ピエゾステージです。 変位センサ内蔵タイプはピエゾコントローラと組合せることで高精度な 位置決めが可能。 他にも、可動部中央に大型の透過窓があり光軸を導入可能な「Z軸・高速応答・ 透過窓付きピエゾステージ」などをご用意しております。 【特長】 ■薄型 6mm ■透過窓 □20mm ■ローコスト ■一体弾性ヒンジ機構の摩擦レス動作により移動精度が優れる ■変位センサ内蔵タイプはピエゾコントローラと組合せることで高精度な 位置決めが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
手動で制御する精密位置決めステージ
ピエゾアシストステージとは20nmという最小分解能でかつ粗動(mmオーダー)を備えた微動粗動手動ステージです。 主な用途はテーブルの精密位置決めや微小荷重のコントロールを要する用途（ナノインデンテーション）でも容易に実現できる手動精密ステージです。 大きさもコンパクトで簡単に持ち運びすることができ、使用方法もとても簡単です。 低予算で導入することができるリーズナブルな商品です。（*1nm=10億分の1m)
高分解能インクリメンタルリニアエンコーダ！一方向再現性は0.1μmです
『V-738』は、モータタイプがアイロンレス3相リニアモータで、 150x150mmの大きな開口部が特長のPIMag 高精度開口部付XY ステージです。 移動範囲は、102 mm×102 mm（4 "）。 速度は、500 mm/sです。 リファレンスリミットスイッチは光学式です。 【特長】 ■移動範囲：102 mm×102 mm（4 "） ■150x150mmの大きな開口部 ■一方向再現性：0.1μm ■速度：500 mm/s ■三相リニアモータ ■高分解能インクリメンタルリニアエンコーダ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ロングストローク】エンコーダを内蔵した高分解能・高い位置再現性・高い位置保持性を持った位置決めステージ
光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 ストロークが長いため試料の移動と精密位置決めをこれ１台で行うことができます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411又はFC-111との組み合わせ
【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』または『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-414またはFC-114との組み合わせ
堅牢なつくりで高剛性・高精度位置決め精度を誇ります。
Piezo System Jena(ピエゾシステムイエナ)社のピエゾアクチュエーターは堅牢なつくりで高剛性・高精度位置決め精度を誇ります。コンパクトなXYZ３軸ステージ、ティルトミラー、スタックタイプ対物レンズ用、スリット用ファイバースイッチなど幅広い分野にお使いいただいています。ストレンゲージセンサー、インダクティブセンサー、キャパシティブセンサー等を使用しフィードバック制御をおこなったモデルもございます。光学系のアライメントや干渉計・精密加工・精密計測・半導体関連装置などの高い位置精度が求められる分野において多数お使いいただいています。専用ドライバーも高性能･低ノイズ（3mVP-P）のため高い分解能が実現できます。 特に低ノイズが要求されるアプリケーション用に、200NVという超低ノイズドライバーも御用意しています。 【ラインナップ】 ○対物レンズフォーカシングアクチュエーター ○高剛性オリエンテーションフリーステージ ○高剛性薄型高進直性ステージ（X,X-Yステージ） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【精密位置決め装置】50nm又は100nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高いZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等の特徴を備えています。
250μm行程 X向运动 电压信号驱动 250μm travel in X, controlled by voltage
P60.X250 pieozステージは、薄型のピエゾナノポジショニングステージであり、その移動範囲はXで200μmに達することができ、閉ループフィードバックセンサーを選択してより高い精度を得ることができます。 カスタム低温真空バージョンが利用可能です。 P60.X250 pieoz stage is a low-profile piezo nanopositioning stage, its travel range can reach 200μm in X, and a closed-loop feedback sensor can be selected to obtain higher precision. Custom low temperature vacuum versions available.
真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
パネル形状の透明ガラスヒーターをユニット化
・透明なまま発熱するパネル形状のガラスヒーターをホルダに組み込み、各種サイズにてユニット化しました。 ・温度制御装置が付属しているので、届いたその日から直ぐに使えます。 ・部品ごとに在庫していますので短納期で対応します。特注にも対応可能です。
