更新日： 集計期間:2025年11月12日～2025年12月09日
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研究開発・実験用 分裂型管状炉 最高温度 1100℃ 1500℃ 標準横型、オプションで縦型 大口径炉心管対応
＜説明＞ 研究や実験で使用される分裂型管状炉です。 標準は横型、オプションで縦型分裂炉もございます。 異なる作業管の使用/都度交換や、その他の被加熱物へのアクセスが容易です。 ＜特長＞ 温度制御器ボックス 別置き型 または 一体型 高品質の断熱材 高い均一性 長寿命の高品質ヒーター（Kanthal-Superthal/Super Globar）
■ 最高温度1100℃ ■ ステンレス圧延板の本体 ■ 高品質のファイバー断熱
＜説明＞ ■ 特に灰化の目的にご利用いただけます。 ■ 空気流入／排出の特殊システムにより、1分につき6回以上の空気入換えが行われます。 ■ 流入した空気は予熱され、それにより良好な温度均一性が保持されます。 ■ 交換が容易な作業管と、シリーズで取り揃えられた付属品との構成により、広範な応用範囲へのフレキシブルな適用が実現します。 ■ 高品質のファイバー断熱材は短時間での昇温と冷却を可能にします。他方、作業管に平行して取り付けられたSIC棒状発熱体は優れた温度均一化を保証します。この温度域では本機は低価格で抜群の性能を誇ります。 詳しくは、カタログをダウンロードいただくか、お問い合わせください。
設計、製作、据付、メンテナンスやアフターフォローまでトータルでサポートする工業炉メーカーの 線材光輝焼鈍炉
線材光輝焼鈍炉 とは、線材（針金の材料）をコイル状に巻いたものを伸ばした状態で加熱し、巻き取りながら加熱（または冷却など）する熱処理炉のことです。 サンファーネスでは連続式の『線材光輝焼鈍炉（ストランド炉）』を得意としています。 ヒータ交換や定期メンテナンス作業の簡略化、焼鈍管の炉内への出し入れがスムーズに行えるような築炉構成をいたします。制御盤のプログラムの工夫により電力コスト削減や作業効率を上げることも可能です。 【サンファーネス 線材光輝焼鈍炉の特長】 ■炉体、焼鈍管を自由設計 処理スピードや線径、導入ガスの処理条件による炉の長さや大きさ、前後装置との兼ね合いや、設置場所による炉のメンテナンスを考慮した形状等、全ての条件が満たされるよう、柔軟に対応することが可能です。 ■コスト低減 通常運転時のランニングコストを抑えられる設備の提案が可能です。放熱を抑えた好適な築炉構成にて施工します。週末など炉を使用しない場面でも自動での温度制御、供給ガス制御が可能でコスト低減します。 ■品質 ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定いたします。
線材、板材からパイプまで。冷却と過時効の温度域コントロールで安定品質を実現します。
溶接後の歪取り・加工品の変形防止・表面の油分の除去・溶体化などの目的で使用されます。ステンレス鋼は耐食性や強度などに優れているため、機械部品や建築物に使用されています。サンファーネスでは設計、製作、据付、メンテナンスまでトータルでサポートします。また、ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定いたします。 【特長】 ● 帯鋼や線材などの光輝熱処理が可能です。 ● 線材を熱処理する『ストランド式線材焼鈍炉』の取扱いがあります。 ● 工業炉内の温度計測の設定、安全装置などカスタマイズも可能です 【ステンレス鋼の鋼種による熱処理方法】 ● オーステナイト系：固溶化（溶体化）、安定化、応力除去、時効 ● フェライト系 ：焼きなまし ● マルテンサイト系：焼きなまし、焼きならし、焼入れ、焼戻し 【製品例】ステンレス熱処理炉でつくられる身近な製品例 ■ CVT部品 ■ 印刷機用ブレード ■ 電子材料 ■ ラミネート素材 ■ バネ材 ■ クラッド材 ステンレス熱処理のお悩みがございましたらお気軽にご相談ください。
半導体熱処理や工業用熱処理まで、各種形状、各種発熱体に対応、高温炉に対応可能な管状炉です
管状炉とは、カンタルワイヤーをコイル状に加工し、断熱材、円筒形の外枠で組み立てたもので、チューブ炉とも呼ばれ、その名の通り管（筒）状の電気炉で工業炉の中でも一角を担う存在です。 【特徴】 ■精密な温度制御や温度勾配が可能 ・炉内が筒状なので温度精度に優れ、均一加熱に適した電気炉でゾーン制御(※)を行うことにより、 精密な温度制御や温度勾配が可能な電気炉となります。 ■御要望の電気炉を一台から製作可能 ・小型精密管状炉に使用している小口径から半導体製造装置（拡散炉）や工業用に使用される大口径 のものまで様々な管状炉を製作しています。 ■カンタル(高温使用できる合金)を耐熱材料や耐熱金具としても加工致します。 (※)ゾーン制御 炉内において部分的に温度を制御する事で温度精度を向上させる技術 【仕様】 ・発熱体 カンタル AF / A-1 / APM ・最高温度 発熱体 約1400℃（炉内最高 約1300℃） ※詳しくはお問い合わせください。
丸祥電器社が取り扱う『露点制御式高温雰囲気炉』
露点制御式高温雰囲気炉は、セラミックス、電子部品等の様々な研究開発、少量生産 用として、還元雰囲気、露点制御雰囲気などの高度な雰囲気制御下で使用でき、ユー ザーの要望による特別仕様にも対応可能です。 ■□■特徴■□■ ・炉内寸法 W150mm×D150mm×H180mm〜W300mm×D300mm×H300mm ・使用温度 常用1600℃ 最高1700℃ ・真空置換型 ・露点制御システム（ウエッター最高80℃）を装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
緻密なテンションコントロール技術により、板厚3μmmのステンレス材の熱処理炉の製作が可能です。
ステンレス鋼は耐食性や強度などに優れているため、機械部品や建築物に使用されています。サンファーネスでは設計、製作、据付、メンテナンスまでトータルでサポートします。また、ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定いたします。 【特長】 ● 帯鋼や線材などの光輝熱処理が可能です。 ● 線材を熱処理する『ストランド式線材焼鈍炉』の取扱いがあります。 ● 工業炉内の温度計測の設定、安全装置などカスタマイズも可能です 【ステンレス鋼の鋼種による熱処理方法】 ● オーステナイト系：固溶化（溶体化）、安定化、応力除去、時効 ● フェライト系 ：焼きなまし ● マルテンサイト系：焼きなまし、焼きならし、焼入れ、焼戻し 【おもなステンレス熱処理炉】 ■ ブライトアニール炉（光輝焼鈍炉） ■ テンションアニール炉（張力焼鈍炉） ■ ストレスリリーフ炉（歪取焼鈍炉） ■ メッシュベルト式焼鈍炉 ■ ローラーハース式焼鈍炉 ■ ストランド式光輝焼鈍炉 ステンレス熱処理のお悩みがございましたらお気軽にご相談ください。
タイマー機能を用いて炉内の温度制御を自由自在に設定し、スタートアップも待ち時間がありません。
週末や炉設備を稼働しない場合は、炉を完全に停止するよりも低温域で温度キープしたままのほうがコスト面や装置劣化の面でよい場合があります。盤内の機器組み合わせ次第で週末は低温で温度キープし、週明け操業時には自動で炉内を設定使用温度にすることが可能です。 【仕様】 ● 温度：1150℃ ● 有効寸法：20A×L2000×4本 ● 雰囲気：水素 / 窒素 ● 用途：各種パイプ焼鈍 ● 処理物：ステンレス / 真鍮パイプ ● 処理量：160kg/h ● 電気容量：13kW 【サンファーネス 線材光輝焼鈍炉の特長】 ■炉体、焼鈍管を自由設計 処理スピードや線径、導入ガスの処理条件による炉の長さや大きさ、前後装置との兼ね合いや、設置場所による炉のメンテナンスを考慮した形状等、柔軟に対応することが可能です。 ■コスト低減 通常運転時のランニングコストを抑えられる設備の提案が可能です。 ■品質 ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定いたします。 ＊詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
自動車部品などアルミ鋳造現場の作業効率化に貢献。酸化物の発生を抑え、面倒な保持室の清掃が激減。（半年～1年に１回程度！）
酸化物抑制炉：SMHシリーズ （アルミ手許溶解保持炉・アルミ集中溶解炉） 【特長】 ◇保持室での低雰囲気温度(800℃以下)を保持し、 残存酸素濃度1％以下に抑えることでアルミ酸化皮膜の保護作用を活用し、 酸化の進行を遅らせる新発想の炉構造 ◇保持室内で溶湯に直接火炎を当てることなく 湯面を揺動させないために新開発フラットフレームバーナを搭載し また排ガスを活用した熱交換器による省エネルギー化を図っています （電気ヒーターを採用したハイブリッド仕様もございます。） ◇炉構造のマッチングから強制対流伝熱を大きくとるために 火炎長、火炎径、火炎速度を考慮した新開発溶解バーナを搭載しています 【期待される効果】（弊社の従来炉との比較） 酸化物抑制炉にすることで… ○保持室の清掃回数の削減（最長1年間不要の実績） 〇フラックス処理の不要（ドロス量によっては溶解室で実施） ○溶湯品質の向上（溶湯中の水素ガス、介在物の低減） ○材料ロスの削減による歩留まり向上 ○保持室での排熱回収による省エネで燃費が向上 ○炉表面温度の低減により作業環境が改善
金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデル。ユニテンプジャパン製
『RSO-210』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒10℃の超スピード昇温、さらに水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度650℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。『ユニテンプジャパン製』
『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒4℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 ユニテンプジャパン製
当製品は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、試作開発～量産まで 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと、抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2.5℃のスピード昇温、水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度450℃対応（オプションで650℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製
『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製
『RSS-110-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
縦型抵抗加熱方式を採用！扉式に比べヒータ内への異物巻き込みを極力低減します
『アニール炉』は、二珪化モリブデンヒータを4面縦型に配置し、高温下でかつ、 広範囲にワークを加熱することができる装置です。 縦型抵抗加熱方式を採用する事で、均熱特性が良く、扉式に比べヒータ内への 異物巻き込みを極力低減し、装置占有面積も小さくすることを実現。 また、炉床昇降機構及び、炉床台車引出し機構を装備しているため、より安全 かつ容易に炉床台へのワークの出し入れが行えます。 【特長】 ■縦型抵抗加熱方式を採用 ■二珪化モリブデンヒータを採用 ■大気雰囲気で最大1800℃まで昇温可能 ■炉床昇降機構、炉床台車引出し機構を装備 ■より安全かつ容易に炉床台へのワークの出し入れが行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
