更新日： 集計期間:2025年11月12日～2025年12月09日
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小型・高気密設計！複雑な反応条件下での焼成プロセスを1台で再現可能
「マルチ雰囲気炉」は、真空や不活性雰囲気に加え、NH3・H2・O2など 多様な雰囲気ガスを流通させながら加熱できる汎用型炉です。 さらにガスを加湿して湿潤雰囲気での焼成も可能なため、 幅広い反応条件に対応。 材料の還元、酸化、窒化、加湿処理など、複雑な雰囲気制御が 求められる研究・製造現場で威力を発揮します。 【特長】 ■真空、不活性雰囲気(N2、Ar)、酸化雰囲気(O2)、還元雰囲気(H2、NH3)まで対応 ■加湿装置(wetter)による特殊熱処理が可能 ■最高温度1700℃まで対応し、昇温速度は10℃/min ■アルミナシースヒーター＋アルミナ断熱材により、耐食性と安定加熱を両立 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
炉の出入口にエアの侵入を防ぐシール構造を採用しているため雰囲気ガスが漏れにくく特殊雰囲気ガスの使用も可能です
熱処理の用途に応じて雰囲気ガスを炉内に充填させて加熱処理する雰囲気炉が多く用いられています。充填する雰囲気ガスは、窒素やアルゴンなどの不活性ガスをはじめ、水素やAXガスなど、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります。 雰囲気炉メーカーであるサンファーネスでは、気密性が高い炉を仕様要件に沿って、オーダーメイドで製作いたします。 【特長】 ● 熱処理中にガスの切替が可能です。 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【製品例】雰囲気熱処理炉でつくられる身近な製品例 ■ エンジン部品 ■ カテーテル用マーカーパイプ ■ 表示管ガラス ■ フライパン ■ ドライブトレーン部品 ■ カーエアコン部品 ■ 磁性材料 ■ 通電検査機器用精密管 ■ CPUヒートパイプ 【おもな雰囲気熱処理炉】 ■ バッチ型還元炉 ■ 竪型還元ろう付け炉 ■ ベル型窒化炉 ■ ピット型滴注浸炭炉 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。
熱源最適化！4つの熱源でテスト可能。ガス/電気/ハイブリッド熱源でワークに好適な熱設備をご提案！お客様と共に徹底テストが可能です
QCOテスト設備 ■実際の生産現場に近い環境で塗装～乾燥の工程をテストいただけます。 ワークの温度測定を行うことができますので、 熱源を変えながら好適な加熱パターンを導き出すことが可能。 ワークは大物・長尺物にも対応可能ですので、お気軽に条件をご相談ください。 ■ガス熱風＆ジェット加熱ゾーン 350℃＆50m/secの噴流で塗装乾燥は勿論その他の加熱用途に対応可。 水素燃焼も可能ですので製品への影響を評価できます。 積載ワーク：800Wx800Dx1400H（最大） 50kg/ハンガー（最大） 搬送方式：トロリーコンベア（ハンガーピッチ300mm） 搬送速度：1～10ｍ/min 塗装ブース：ノーポンプ型 乾燥炉：ガス赤外線バーナ（底面23kWx2、側面35kWx2、Max.800℃） ガス遠赤外線パネル（116kWx1 Max.350℃） ガス熱風&ジェット加熱（233kWx1、Max.350℃、50m/sec）※1 電気赤外線ヒータ（底面11kWx2、側面17.5kWx2、Max.800℃） ※１水素燃焼はご相談ください。
高い保持温度精度を実現する真空熱処理炉
『PQシリーズ』は、幅広い冷却ガス圧に対応可能な横型真空炉です。 加熱室内面はシールド板で被覆することで断熱材の飛散を抑制。 オプションとしてモリブデン板で被覆することで、加熱室内の放射効率を高め 温度分布均一性および均一加熱性を向上します。 また、低温度から高温度までの広範囲において、熱処理品の均一加熱と 分布の均一性を最良にするため、ヒータを上下および両サイドの4面に配置し、 前後方向に3分割制御しています。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ドアを採用し加圧下での安全性向上 ■加熱室下方からの冷却ガス吹き込み ■減圧：87kPa、加圧：130kPa～200kPa（オプション：280kPa）による冷却が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
電気炉
ファニー eKCB シリーズは、安全で扱いやすさを追求した小型タイプの電気炉です。 炉壁には高品質断熱レンガ、セラミックファイバー、スーパーボード、シリカボードを 4 層に重ね断熱保温効果を高めています。 発熱体は、世界的に信頼性の高いスウェーデンのカンタルヒーター線を採用し、ヒーターの表面積あたりの負荷を低く抑えていますので丈夫で長寿 命です。またヒーターはスパライル方式で溝に収納されていますので製品 の出し入れや線の交換が容易です。 焼成温度の制御は、プログラム式 PID 制御で、安定した昇温とキープができ、プログラムの変更が簡単なので、自分の焼成パターンを自由に組むことが出来ます。上扉の開閉は三箇所で止まりますので効果的な除湿、冷却ができます。オプションの還元バーナーをセットすれば本格的な還元雰囲気焼成も出来ます。
RHFシリーズは、シリコンカーバイド製ヒーターを使用したチャンバー炉です
RHFシリーズは、シリコンカーバイド製ヒーターを使用したチャンバー炉で、４種の炉内容積と最高使用温度1400℃、1500℃、1600℃の3種の組合せ（合計１２機種）から選択可能です。 堅牢な作りと高速昇温（1400℃到達時間が40分以内）を可能にする高性能ヒーター素子、そして長寿命が特徴です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
品質の向上！省力化！一般的な遠赤外線加熱炉の特徴についてご紹介
有限会社AMKは、工業用遠赤外線ヒーターと加熱装置・乾燥装置を取り扱っている会社です。 遠赤外線ヒーターを配置した面に平行に被加熱物を連続的に搬送させ加熱することが一般的な遠赤外線加熱炉であります。 これにより加熱処理時間の短縮、品質の向上、工程合理化、省力化ができるのが大きな特徴です。 そのため、熱風炉から連続式遠赤外線炉への転換が進んできたことは知られていることです。 ただし光と同じ作用であることから、陰になる所、立体形状でヒーターからの距離が部位により異なる場合、ファンを併用しても均一加熱は難しいことが多いのです。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上サイズ 省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分（1500℃）、降温1500℃→100℃まで約40分（真空、およびガス置換雰囲気） ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
エージング処理などの用途に！900℃まで対応の連続式燃焼雰囲気炉
電気炉、変圧器、製缶、電気機器の製造・販売・修理を行う 株式会社日本電炉工業では、多様な電気炉を取り揃えております。 『連続式燃焼雰囲気炉』は、900℃まで対応の雰囲気路です。 エージング処理などの用途に適しています。 その他、各種炉のカスタム対応も可能です。 【仕様】 ■炉内：マッフル構造 ■駆動：全自動プッシャー ■冷却：水冷 ■温度：～900℃ ■雰囲気：燃焼ガス λ＝0.8～1.0 ■ヒーター：パネルヒーター ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
長年のシール設計・加工精度・組立手順により微小リークを抑制！長時間運転でも低O2をキープ
当社で取り扱う小型カーボン炉について、なぜ低酸素・超高温が実現できる のかをご紹介します。 カーボン炉材が残留酸素と反応し、“漏らさない"設計と製作ノウハウが 特長で、真空ポンプ＋置換で粉末内部の空気まで除去します。 放射率の高いグラファイトヒーター×均熱ホットゾーン×高断熱で効率よく 加熱し、局所過熱を避けつつ3000℃クラスまで安定到達が可能です。 【小型カーボン炉の特長】 ■3000℃まで昇温可能：グラファイトヒーターの輻射熱で短時間に超高温へ ■低酸素での焼成がしやすい：炉内カーボンが残留O2と反応 ■粉末内部の空気も置換：真空→不活性ガスの繰り返しで粒子間のO2を低減 ■温度ムラを抑制：均一に温める"均熱ゾーン"で中央/端部/厚み方向の差を縮小 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット） ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御） ◾️ ヒーター材質： ・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気： ・真空（1x10-2Pa）、不活性ガス（Ar, N2） ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転（オプション） ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール（MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御） ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力
タングステン・モリブデン製ホットゾーンの設計からメンテナンスまでトータルサービスを提供。
真空中や制御雰囲気の炉内では、最高温度 が3000℃にも及ぶ事があります。その様な過酷な環境では、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブが最適な材料です。 特に高度な焼結技術、熱処理技術、真空ロウ付け、最先端研究などで使用される高温炉のホットゾーン構造体には、プランゼーの高温安定性とクリープ特性に優れた高品質材料と、長い経験とノウハウに裏付けられた確かな設計力が必要不可欠です。 プランゼーは創業以来90年に及ぶ粉末冶金技術と、最新の材料・接合技術・シミュレーションを活用し、お客様に最高品質の高温炉構造体と周辺部品をお届け致します。
