更新日： 集計期間:2025年11月19日～2025年12月16日
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1000℃以上の燃焼温度で完全燃焼！廃棄物をゼロに近づける焼却炉！
『ACE焼却炉4型』は、1000℃以上の燃焼温度で完全焼却し 廃棄物をなくす焼却炉です。 有害な排気ガスの放出を抑制。環境省の定める微煤煙除去排出基準を クリアし、煤煙・悪臭のほとんど無い焼却を実現しています。 内蔵構造がシンプルで電子制御を行う部分が少ないため、故障が ほとんどなく交換部品も少なく済みます。 【特長】 ■有害な排気ガスの放出を抑制 ■燃え残りが少なく、完全燃焼 ■煤煙・悪臭の少ない燃焼を実現 ■耐久性と安全性 ■シンプルな構造で操作が容易 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
省エネ・高精度の高温炉
「SUPER-BURN S6/S7シリーズ」は、温度分布精度の向上、消費電力を約20％削減、 直感的に操作ができるタッチパネルを採用した高速昇温電気炉です。 設置レイアウトに自由度が高く、電気炉･制御ユニット分離型を採用いたしました。 また、ガス導入孔やガス排気孔、専用架台などのオプションもございますので ご要望の際は、お気軽にお問い合わせ下さい。 【特長】 ■省エネ設計 ■精密温度分布 約±3℃ ■シンプル操作のタッチパネル採用 ■安全設計 ■設置に自由度がある ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデル。ユニテンプジャパン製
『RSO-210』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒10℃の超スピード昇温、さらに水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度650℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。『ユニテンプジャパン製』
『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒4℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 ユニテンプジャパン製
当製品は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、試作開発～量産まで 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと、抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2.5℃のスピード昇温、水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度450℃対応（オプションで650℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製
『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製
『RSS-110-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガイドワイヤーの熱処理に好適！炉体の小型化により、省スペース・省エネが実現可能
『MOH-100V 140W』は、ガイドワイヤー等の線材を対象とした小型加熱炉です。 赤外線輻射及び高温雰囲気の対流加熱により急速加熱が可能。 素早いヒーターレスポンスにより設備の暖機時間の短縮ができます。 また、線材など細い対象物に対して大型炉を使用せず設備の小型化、 省エネに貢献いたします。 【特長】 ■加熱可能ワーク：φ10mm以下 ■加熱温度：常温～400℃程度 ■炉体の小型化により、省スペース・省エネが実現 ■ヒーターを連結するだけでワークの搬送速度に対応 ■電源コントローラ：HYK-210Lと組み合わせ、±2℃の温度制御可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
お客様の要求仕様に合わせて専用設計にて製作！シンプルな構造で低コストを実現
当製品は、1バッチ3,000kg処理用の『台車式熱処理炉』です。 炉内断熱材はセラミックファイバーを使用。 シンプルな構造で低コストを実現しました。 お客様の要求仕様に合わせて専用設計にて製作いたします。 【特長】 ■ハイスピードバーナーを使用し炉内温度分布を向上 ■炉内断熱材はセラミックファイバーを使用 ■台車は耐火キャスタブルとセラミックファイバーの複合構造 ■シンプルな構造で低コストを実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
上下加熱、最高400℃までの加熱に対応、卓上型リフロー炉（加熱炉）
昇温速度と温度均一性の更なる向上を目的に、SVO-1の上位機種として 新たにラインナップに追加した卓上型リフロー炉 SVO-1 Plusです。 炉内の上下にヒーターを配置し、各ヒーター出力も個別に設定できます。 対象ワークに適した加熱温度設定やヒーター出力の最適化により、 サイクルタイムの短縮およびワーク温度の均一性の向上を図ることができます。 リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での長時間運転も可能なため、 基板の乾燥や、熱硬化等の用途にもご利用いただけます。 【特長】 ■基板の上下加熱に対応 ■ 各ヒーター出力の設定が可能 ■ 最大400℃までの加熱に対応 ■ 最大8ゾーンまでの温度プロファイル設定 ■ 一定温度で最長10時間までの継続運転 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
信頼性、品質性、経済性、生産性を兼ね備えた真空炉です
「真空焼結炉 高温真空・加圧焼結炉」は、超硬合金、希土類磁石、ファインセラミックスの焼結に適した高温真空焼結炉です。 減圧フローガスを利用して、脱脂から予備焼結、本焼結、冷却まで１バッチ完全自動処理が可能です。信頼性、品質性、経済性、生産性を兼ね備えた真空炉です。 適用材質は粉末ハイス、高合金鋼、超硬合金、ファインセラミック、有効寸法は300×300×600、500×500×1000、最高温度は1300℃、1600℃、2200℃、発熱体はグラファイトとなっています。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
RWFシリーズは、高速昇温が可能なチャンバー炉で、3つのサイズと最高温度1100℃、1200℃の組み合わせを選択出来ます。
優れたヒーターと高性能断熱材の組み合わせで、高速昇温が可能です。 10分で炉内温度を1000℃まで急速昇温可能
「ＳＥＧＭＥＸ−２０００」はサンエンジニアリング（株）のガス式硝子溶解炉１００基以上の実績の中から誕生しました。
豊富なノーハウやデータの蓄積により開発された究極の溶解炉です。 電気式ガラス溶解炉（SEGMEXシリーズ）は、どなたでも簡単に溶解ガラスが得られる、電気式硝子溶解炉として開発されました。
レドックス触媒反応時間を大幅に短縮！光反応における標準化を目指します
『Photoreactor m1』は、 各種光源、撹拌ドライバおよび温度調整を兼ね備えたシステムです。 時間・光強度・撹拌速度温度などのパラメータを標準化しており、 これらはすべて前面パネルのタッチスクリーンから直感的に入力できます。 酸化還元触媒反応時間を大幅に短縮し、光反応における標準化を目指します。 【特長】 ■光源をモジュール式に設計しており、さまざまな波長での使用が可能 ■360度全ての方向からの光を照射する設計により、試料に均一に光を照射する ■光を遮断するインターロック機構で有害な光線をカット ■光源のモジュール設計により様々な波長が選択可能 ■直感的なタッチスクリーンコントロール ■2001年第2四半期のIntertekETL、CEマーク、およびCBを達成
軽量小型で低価格！排ガスや温度ムラが発生しにくい保温炉
『アルミ・亜鉛溶解保持炉』は、従来のガス燃焼方式に比べ、 大幅なCO2排出量削減、排ガスが発生せず、作業環境の改善に貢献する保温炉です。 レンガを使わないで、軽量・小型・簡便な焼成ユニットで、組上げ断熱効果抜群。 炉内壁面に均等に取付けたヒーターで、ルツボ内の溶湯に温度ムラがありません。 また、ヒーター交換が極めて簡単なほか、部品の準備だけで炉体の修理ができます。 【特長】 ■ガス燃焼方式に比べ、大幅なCO2削減 ■軽量・小型・簡便な焼成ユニット ■湯温の均熱 ■容易な保守管理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
