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炉(制御) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年11月12日~2025年12月09日
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炉の製品一覧

406~420 件を表示 / 全 441 件

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<非鉄金属用工業炉> 省エネ炉ではじめる カーボンニュートラル

適正燃焼・排ガス温度・材料投入制御等の見直しにより、溶解原単位を向上させることが可能

TOKAIでは、アルミ溶解保持炉をはじめとした各種工業炉をラインナップしております。 中でも、脱炭素化社会の実現に向け、省エネ貢献可能な工業炉のご提案に力をいれています。 エネルギー事業が根幹のTOKAIだからこそ、 脱炭素化社会に向けた企業様のエネルギー低減活動をサポート致します。 クリーン熱源へのエネルギー転換、ヒーターを付加した熱源のハイブリッド化、 制御の工夫による省エネ化可能な運用方法などをご提案させて頂きます! 当資料では、省エネ炉ではじめるカーボンニュートラルについてご紹介。 排ガス温度低下の為の制御の工夫、排出部への自動開閉蓋の設置など、 ちょっとした思考の転換で省エネ出来た事例は多々ございます。 【省エネ炉‐紹介内容】 ■鋳造工場の脱炭素化のポイントとは ■エネルギーベストミックスとは ■材料予熱、排ガス活用の有効性とは ■ちょっとした思考の転換で簡単に省エネ化できた導入事例 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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コンベア型乾燥炉NTシリーズ ※顧客希望サイズにカスタマイズ可能

印刷後の乾燥、アニール、硬化など多くの用途にご利用いただける乾燥炉です。【乾燥炉・工業炉・アニール炉・産業用乾燥炉】

『コンベア型乾燥炉NTシリーズ』は、遠赤外線セラミックヒータを 使用したコンベア型の工業用・産業用乾燥炉です。 印刷後の乾燥、アニール、硬化など多くの用途にご利用いただける 汎用型の工業用・産業用乾燥炉です。 【当社の『乾燥炉NTシリーズ』の特長】 ■ユーザー希望のサイズにカスタマイズ可能 ■温度調節計とS.C.Rパワーコントローラーによる連続比例制御 ■NT-2000、NT-2400:2ブロック温度制御 ■NT-3000、NT-4000、NT-5000:3ブロック温度制御 ■アニール炉、産業用乾燥炉等をお探しの方、まずはご相談ください。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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1800℃高温チューブ炉加熱長300mm『OSK93TI143』

頑丈な扉付き、ガス雰囲気使用の高温チューブ電気炉です。

常用温度1650°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 シリコンカーバイト製発熱体により、優れた耐久性を持ちます。 ガス交換実験に適します。 セラミック製断熱材により、軽量且つ温度上昇速度が速い。 便利なデザインにより、試料のセットや取出しが容易。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器(1プログラムに9セグメント)内蔵。 過熱防止装置付き/CE認証品。 半導体制御整流回路(SCR)とプログラム制御により、低ノイズ及び正確な温度制御(±1℃)を実現。 チューブサイズ:直径50/80/100/120mm。 チューブの材質:石英、セラミック、アルミナ、合金。

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ガス置換マッフル炉『OSK75YU IGMシリーズ』

材料の出し入れが便利な箱型構造を採用した、マッフル炉です。

最高温度1,200℃、1,400℃及び1,700℃の3タイプからお選びいただけます。 エネルギー効率を最大限に保つため、高純度繊維状アルミナ断熱材を使用。 炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 30 セグメントのPID制御による温度管理。

  • 電気炉

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高温ボックス型マッフル炉『OSK 75YU BMシリーズ』

材料の出し入れが便利な箱型構造を採用した、マッフル炉です。空冷システムが装備されており、庫内温度の冷却、上昇を迅速に行います。

最高温度1,200℃、1,400℃及び1,700℃の3タイプからお選びいただけます。 エネルギー効率を最大限に保つため、高純度繊維状アルミナ断熱材を使用。 炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 30 セグメントのPID制御による温度管理。

  • 電気炉

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アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

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真空るつぼ炉 『OSK75YU 12VCM』

直径240 x H180mmのチャンバーのるつぼ炉にステンレス鋼のフランジが追加され、真空つるぼ炉を形成しております。

直径240 x H180mmの大きなチャンバーサイズ *角型も承ります。 最大温度 は1,200 °C(作業温度は 1100°C ) 30セグメントPID制御による温度管理 真空は-0.1Mpaで保護ガスを挿入することもできます。

  • 電気炉

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カーボン炉<極低酸素×3000℃級×真空置換で再現よく>

前処理~本焼成を1台で。研究〜少量量産の温度レシピ出しに好適

当社で取り扱う「カーボン炉」は、“極低酸素×3000℃級×真空置換"で 再現よく高温相転移・結晶化・焼結できます。 相転移・再結晶化の促進/粒成長制御(高温域での相安定化)や セラミックス・難焼結材料の緻密化焼結、表面・界面のエネルギー制御 (低酸素下での表面安定化)などのプロセスに使用可能。 研究〜少量量産の温度レシピ出しに適しています。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧をつくる ・真空引き→Ar/N2置換(必要に応じ希薄H2※)で酸素ポテンシャルを段階低下  ※H2は装置の安全設計範囲(例:4%以下目安)で運用 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存O2を吸収し、副反応を抑制 ■3000℃級の高温安定 ・常用~2800℃/最大~3000℃、緩昇温→保持で相転移・結晶化・焼結を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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連載Part4:小型カーボン炉の主な用途

高温材料の合成・焼結や炭素系材料の高結晶化に!主な用途例をご紹介

前回は、小型カーボン炉の"原理"について紹介しました。 今回は、実際にどのような用途で使われているのか、またどのような 研究・開発に応用できるのかを紹介します。 ■主な用途例 1.高温材料の合成・焼結(~3000℃) カーボン炉ならではの極低酸素環境により、炭化物·窒化物などの 高融点材料を酸化させずに焼成可能。 2.炭素系材料の高結晶化 グラファイトやカーボンナノチューブなどの高結晶化に好適。 3.金属材料の高温処理·還元反応 金属酸化物を低酸素下で還元し、微細構造や相制御が可能。 4.高温ガス反応の評価 N2、H2、Arなど多様な雰囲気で、反応性ガスとの相互作用や材料安定性を検証。 5.研究開発·試作スケールでの材料プロセス評価 短時間で条件最適化を行うためのR&D用途として。 今後は、より精密な酸素分圧制御を活かした新素材開発への応用を検討して います。次回は「仕様」について詳しく紹介します。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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小型塩素炉<高温腐食評価の新たな実験プラットフォーム>

小型塩素炉の高耐食構造と精密雰囲気制御を活かし、金属・合金・セラミックスなどの腐食メカニズム研究への応用を

当社では、塩素・塩化水素雰囲気での腐食挙動を再現できる「塩素炉」を 取り扱っております。 高温×腐食性雰囲気を安全に再現できる実験炉。塩素ガスによる高温腐食機構の 基礎研究や耐塩素性材料(高合金・被膜材・セラミックス)の耐久評価、腐食防止 コーティングの試験プラットフォームなどへの応用が理論的に期待されます。 また当社では、テスト機もご用意いたしております。 【特長】 ■塩素・塩化水素など腐食性ガス対応 ■減圧・温度の同時制御 ■乾式構造による高純度雰囲気 ■常時減圧雰囲気によるプロセスガスの漏洩リスクを低減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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メタル炉<セラミックス-金属の気密封着を“高純度雰囲気"で>

セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、クリーン雰囲気で強固に封着

当社では、全金属ホットゾーンの「メタル炉」を取り扱っております。 接合(封着・ろう付け・拡散接合)では、微量O2/H2O/炭化水素が 濡れ性・界面反応・気密に直結。メタル炉は真空10^-5Pa級+(Mo/W) ホットゾーンで、炭素・有機由来の汚染源を排除します。 薄膜・電極・光学部材の高純度アニール/封止などに応用可能です。 【特長】 ■高真空(10^-5Pa級)~還元雰囲気運転対応 ■金属炉構造(Mo/W)で清浄雰囲気を維持 ■±1℃以内の温度均一性と長期安定制御 ■金属治具や荷重加圧機構との組合せが容易 ■試料の小型化・局所加熱試験にも対応 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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小型塩素炉<セラミックス粉の金属不純物を乾式塩素化で除去>

セラミックス粉に混在するFe/Ni/Crなどを、塩化揮発で選択的に揮発する!

「小型塩素炉」は、負圧運転と酸素分圧制御で相や粒径を保ち、洗浄レスで 廃液を最小化する製品です。 Cl2/HClを用いた選択塩素化により、セラミックス粉(SiO2/Al2O3/Si3N4) 製造時に混入した金属不純物を乾式で除去。 また、塩化揮発により母相の組成・結晶相・粒度分布を保持しつつ、 短時間で不純物を低減。水洗工程を省けるため再乾燥、廃液処理コストを 抑えられます。 【特長】 ■選択塩素化×温度段階化:金属塩化物のみを優先揮発、母材相を維持 ■乾式プロセス:水洗不要で廃液・再乾燥の負担を最小化 ■物性保持設計:酸素分圧・滞留時間制御で結晶相・粒径・比表面を維持 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉<有毒ガス発生を伴う焼成を、安全×再現性>

真空置換→雰囲気制御→加熱→排ガス無害化(スクラバー/触媒酸化/熱酸化)まで、一気通貫で設計します

当社では、NH3・COなどの発生ガスに対応した「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 真空置換→雰囲気制御→加熱→排ガス無害化(スクラバー/触媒酸化/ 熱酸化)まで、一気通貫で設計。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【当社カーボン炉が黒鉛化で効く理由】 ■NH3・COなどの発生ガスに対応:ガス種特性に合わせた材質・配管温調・  計装で設計 ■真空システム内蔵:処理前後に真空置換→所定ガス置換が可能で、  炉内解放時の残留ガスリスクを低減 ■角型サヤ×棚積み:トレイ設計の自由度が高く、同条件・多検体の並行DOEで  スケールアップの当たり条件を短サイクルで抽出 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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