更新日： 集計期間:2025年09月17日～2025年10月14日
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真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのUV・加熱などに最適！
「PU-201-V型」は最高温度200℃対応の真空UV照射バッチ炉です。 小型バッチ炉タイプで、真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
高温下でのセラミックスの焼結、ガラスの溶融状態等の炉内観察用炉
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『高温挙動観察炉』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法：W100mm×D100mm×H150mm ■最高温度：1400℃ ■プログラム酸素濃度制御 のぞき窓、天井1カ所、側面2カ所 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
気相法による小型実験製造装置（カーボンナノファイバー製造装置）
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術の エキスパート企業、丸祥電器社が取り扱う 『特殊炉【小型カーボンナノファイバー製造装置】』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■気相法による小型実験製造装置 ■均一なガスの分散と精度な温度制御により、 均質なナノファイバーを作る事ができる ■カーボンナノファイバー及び、カーボンナノチューブまでの 実験生産に使用することができる ■詳細は、お問い合わせ下さい。
型式：TITANH6！IoT制御システムや閉鎖型冷却システムなど搭載
当社の『HV9』をご紹介いたします。 リモート、クラウドを経由した遠隔監視、遠隔制御システムの「Vacuprof」や、 クラウドサーバー対応予測保全システム「PdMetrics」を搭載。 CCコンポジット炭素繊維強化複合材料により放射効率を向上し、 4層グラファイトフェルトによる高断熱構造。効率的な昇温、冷却が可能です。 【特長】 ■閉鎖型冷却システム ・冷却水を閉鎖循環とし、炉体の腐食の予防とポンプ制御による省エネルギーの実現 ■冷却ファンインバータ制御 ・冷却ファンを真空下からインバータ制御し、省エネルギーを達成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガスパージ・プログラム温度調節が可能！温度ムラを極力抑えた角形焼成炉
「CHP-400-2G型」は、窒素ガスなどのパージを行いながら昇温出来る角形焼成炉です。 焼成炉の構造は、簡易気密構造で、ガスパージ中における外気の進入を抑えます。 焼成炉は4面パネルヒーター加熱方式で、常用1000℃の使用が可能です。さらにプログラム温度調節計により、高精度なプログラム運転が可能です。 また、オプションにて酸素ガスによるパージも可能です。 【特徴】 ○4ゾーン式角形加熱方式 ○焼成炉内部にガスパージ可能 ○プログラム温度調節計による温度制御 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
炉内は横3.5m、縦3.5m、奥行7.0m。大型ワークの熱処理が可能！
制御システムを導入し、炉内全体の測定温度が±15℃以内に入れることができた事例をご紹介いたします。 新たに増設した工場に大型の熱処理炉の設置を所望されていた。 ただ、大型故に温度が設定温度に達した際に、公差範囲に温度分布が入らいない可能性が高く、 均熱という点に大きな課題があった。 そこで、弊社が製作した炉を2021年に導入後、2025年の温度分布測定においても各バーナのHIGH-LOW時間を個別に設定するインパルスバーンシステムを導入していることにより、 設定温度625±15℃に入るどころか、625±10℃以下にすることを実現できており、導入先にも高い評価を頂いております。もっと高温でも対応可能です。 インパルスバーンシステムの特徴： 高速バーナを複数設置、出力100%のバーナの出力時間を調整することで炉内を撹拌でき、雰囲気温度の均一化を実現しています。 【事例概要(一部)】 ■対象業界：金属加工業 ■工程：熱処理工程 ■機械装置区分：熱処理炉 ■導入先情報：金属加工（溶断） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
優れた製品加工技術、洗練された設計、高度の信頼性が特徴のマッフル炉
このマッフル炉は研究室での平常の使用に最適の機種です。優れた製品加工技術、近代的デザイン、そして高度の信頼性がこのシリーズの特徴をなしています。これらのマッフル炉は前開き扉、または上下スライド扉のどちらも値段の追加なしにご注文いただけます。
省エネ構造！高精度バネの加工をサポートする省スペース小型テンパー炉
『CS-50D/100D』は、設置場所をとらない省スペース設計で加工機との 直結に適したコンベア式テンパー炉です。 加工機との直結により異物混入・変形等を防ぎ高品質バネの生産をサポート。 新設計の炉体構造により、従来比20%以上の省電力を実現しました。 また、当社のオレンジストッカー「OS-Dシリーズ」との直結運転により、 長時間無人運転が可能です。 【特長】 ■加工工程のライン化で高品質バネの生産をサポート ■設置場所をとらない省スペース設計 ■省エネ構造 ■高品質テンパーを実現 ■攪拌ファンによる強制対流方式を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小型 高温電気炉『FT-107FMW』
最高温度1,700℃・160Ｗ×200Ｄ×150Ｈの広々炉内で本体サイズは、350Ｗ×500Ｄ×650Ｈの省スペース・超低価格・即納OK！な卓上型高温電気炉です。。前面より試料を出し入れする扉方式で手軽に３０分で１５００℃まで急速昇温可能な高性能高温小型電気炉です。パソコン通信制御対応プログラムコントローラーとガス導入ユニット(ニードル式フローメーター)標準装備で手軽に使用可能です。また、オプションで１，８００℃仕様も可能です。
るつぼ式溶解保持炉 スパイラル炉
炎がスパイラル状に回転することで、有効熱がルツボ全体に伝熱！ 炉内圧を制御して最適燃焼を図る溶解保持炉 【特徴】 ○昇温がスピードアップ フレームガイドに沿って炎が廻る為、ルツボ全体を炎で包み ルツボ全体に熱を伝えることで昇温スピードがアップ ○不良率の低減 溶解温度のムラが無くなり、製品品質の向上に貢献 ○長寿命 ルツボの表面負荷が均一なため、ルツボの一部のみに 負荷がかかるのを防ぎ、ルツボの寿命を延ばす事が可能 ○高い省エネ効果 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい
フィルム延伸の新たなるステップに！基礎研究やプロセス検討に最適な延伸装置
『FITZ』は、画期的な搬送機構を採用し、横方向だけでなく縦方向の倍率を 自在に変更可能な連続式の装置です。 高精度な温度制御により、高品質な同時二軸延伸を行うことができます。 同時二軸をはじめ、様々な延伸パターンのテストが可能であり フィルムの基礎研究やプロセス検討に最適です。 当社ではテスト装置を常設し、高機能素材の開発をお手伝いいたします。 【特長】 ■画期的な搬送機構を採用 ■細かな倍率設定・変更が可能 ■高精度な温度制御により、高品質な同時二軸延伸が可能 ■様々な延伸パターンのテストが可能 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最高1100/1500℃の高温状態で反応管を回転しながら熱処理を実施できます。
OSK 481TVシリーズの回転炉は、回転角と傾斜角のオプションを備えたマルチゾーンの分割炉です。 傾斜角度の設定、マルチゾーンの利用、安定した温度の作業長により、様々な熱処理プロセスに適しています。 反応管の選択により、連続処理やバッチ処理に適用可能です。サンプルは作業管の一方の端からもう一方の端まで均一に搬送されます。 炉の開閉が可能なため、作業者は異なる形状の炉心管、反応管、その他のインライン加熱材を炉に使用することができます。 エポキシ塗装に亜鉛メッキを施した構造により、長寿命で美観にも優れています。
堅牢な軽量耐火レンガ張りにより優れた特性を発揮
堅牢な軽量耐火レンガ張りによって優れた特性を誇ります。ガラス溶解などのプロセス中に刺激性のガスや酸が発生する場合に、この設計をお薦めします。 機械的損傷を防ぐため発熱体が保護されています。
独自開発の炉材を採用し、燃料使用量やCO2排出量の低減に貢献。精密に温度をコントロール可能
『省エネ高温炉』は、独自に開発した高温用炉材と高効率な熱回収熱交換器の採用により、 燃料等の削減を可能にした高温炉です。 当社従来製品からの切替で、燃料原単位を52.5％、CO2排出量を36.0％削減した実績あり。 （従来の焼成炉と同一の焼成カーブで実施。効果はお客様の使用条件によって削減率は変動します。） 従来製品同様、自社開発バーナーと温度制御システムによる柔軟な熱処理が可能です。 約100℃の低温域から、2℃/hの精密な温度コントロールを実現し、最高温度1600℃に対応可能です。 【特長】 ■独自開発した高温用炉材、高効率な熱交換器を使用する事で、燃料使用量の削減が可能 ■精密な温度調整、均一焼成が可能 ■従来と同様に焼成温度管理や各種インターフェースによる精密調整が可能 ■生産量の調整・焼成温度のパターン変更が容易 ※現在、弊社HPにて熱処理・工業炉の用語集を掲載中。 お問い合わせもお気軽にどうぞ。
マイクロプロセッサーコントローラ搭載！動作パラメーターの制御が可能
『OSK 59BS13 AFIシリーズ』は、電気抵抗、ガス、 オイルタイプの炉に対して経済的な誘導溶解炉です。 LCDディスプレイを備えたマイクロプロセッサーコントローラが搭載され、 設定、電力、温度制御に加え供給電圧や冷却水の圧力等の 動作パラメーターの制御が可能。 定格電圧が単相の「AFI-02」や三相の「AFI-03」、 「AFI-05 」などをご用意しております。 【特長】 ■グラファイト熱電対カバーを使用せずに溶融プロセスを制御 ■LCDディスプレイを備えたマイクロプロセッサーコントローラが搭載 ■るつぼの容量、るつぼのタイプ、出力により様々なモデルをご用意 ■るつぼはセラミックカバーに埋め込まれており、炉室を熱的に保護 ■セラミックカバーは再利用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
