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炉(温度制御) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年11月12日~2025年12月09日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

376~390 件を表示 / 全 400 件

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<非鉄金属用工業炉> 省エネ炉ではじめる カーボンニュートラル

適正燃焼・排ガス温度・材料投入制御等の見直しにより、溶解原単位を向上させることが可能

TOKAIでは、アルミ溶解保持炉をはじめとした各種工業炉をラインナップしております。 中でも、脱炭素化社会の実現に向け、省エネ貢献可能な工業炉のご提案に力をいれています。 エネルギー事業が根幹のTOKAIだからこそ、 脱炭素化社会に向けた企業様のエネルギー低減活動をサポート致します。 クリーン熱源へのエネルギー転換、ヒーターを付加した熱源のハイブリッド化、 制御の工夫による省エネ化可能な運用方法などをご提案させて頂きます! 当資料では、省エネ炉ではじめるカーボンニュートラルについてご紹介。 排ガス温度低下の為の制御の工夫、排出部への自動開閉蓋の設置など、 ちょっとした思考の転換で省エネ出来た事例は多々ございます。 【省エネ炉‐紹介内容】 ■鋳造工場の脱炭素化のポイントとは ■エネルギーベストミックスとは ■材料予熱、排ガス活用の有効性とは ■ちょっとした思考の転換で簡単に省エネ化できた導入事例 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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電気炉

電気炉

ファニー eKCB シリーズは、安全で扱いやすさを追求した小型タイプの電気炉です。 炉壁には高品質断熱レンガ、セラミックファイバー、スーパーボード、シリカボードを 4 層に重ね断熱保温効果を高めています。 発熱体は、世界的に信頼性の高いスウェーデンのカンタルヒーター線を採用し、ヒーターの表面積あたりの負荷を低く抑えていますので丈夫で長寿 命です。またヒーターはスパライル方式で溝に収納されていますので製品 の出し入れや線の交換が容易です。 焼成温度の制御は、プログラム式 PID 制御で、安定した昇温とキープができ、プログラムの変更が簡単なので、自分の焼成パターンを自由に組むことが出来ます。上扉の開閉は三箇所で止まりますので効果的な除湿、冷却ができます。オプションの還元バーナーをセットすれば本格的な還元雰囲気焼成も出来ます。

  • 電気炉
  • 分析機器・装置
  • その他FA機器

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メタル炉<酸素・炭素・水分を徹底排除>

真の高純度酸化物・窒化物材料へ。真空~還元雰囲気まで自在制御、脱ガス・脱炭・高純度化プロセスを一台で実現

当社で取り扱う「メタル炉」は、高精度温度制御(~1800℃)×自動排気制御で 脱ガス挙動を安定再現します。 高温処理時に試料内部から発生する吸着水・CO2・残留有機物を効率的に 除去できない、高純度プロセスを再現性良く実施できるラボスケール装置が 少ないなどの課題を解決。 小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用しております。 【特長】 ■金属製ヒーター・金属製チャンバー構造により、カーボン源の混入を排除 ■高真空(10^-3~10^-5Pa)運転+還元雰囲気(H₂/Ar/N₂)切替に対応 ■高精度温度制御(~1800℃)×自動排気制御で脱ガス挙動を安定再現 ■酸化物・窒化物の高純度化、残留C・O低減に最適化されたヒートプロファイル ■小型ながら大型炉へのスケールアップ可能構造を採用(Thermonik ENG製) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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カーボン炉<極低酸素×3000℃級×真空置換で再現よく>

前処理~本焼成を1台で。研究〜少量量産の温度レシピ出しに好適

当社で取り扱う「カーボン炉」は、“極低酸素×3000℃級×真空置換"で 再現よく高温相転移・結晶化・焼結できます。 相転移・再結晶化の促進/粒成長制御(高温域での相安定化)や セラミックス・難焼結材料の緻密化焼結、表面・界面のエネルギー制御 (低酸素下での表面安定化)などのプロセスに使用可能。 研究〜少量量産の温度レシピ出しに適しています。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧をつくる ・真空引き→Ar/N2置換(必要に応じ希薄H2※)で酸素ポテンシャルを段階低下  ※H2は装置の安全設計範囲(例:4%以下目安)で運用 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存O2を吸収し、副反応を抑制 ■3000℃級の高温安定 ・常用~2800℃/最大~3000℃、緩昇温→保持で相転移・結晶化・焼結を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式(多段5枚カセット) ◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御) ◾️ ヒーター材質: ・C/Cコンポジット:Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気: ・真空(1x10-2Pa)、不活性ガス(Ar, N2) ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転(オプション) ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール(MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御) ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力

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1500℃真空マッフル炉『OSK 93TI102』

管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな電気炉です

・常用温度1350°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバー設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真空の引き、不活性ガスの流し込みと焼結) ・オプションのマスフローコントローラにより、不活性ガスのプリセット(98)ができ、より正確で応答性が高い安定したガス管理が可能。 ・オプションの背圧弁により、チャンバー内の正圧を維持できます。 ・マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。

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真空はんだ付けバッチ炉 「PH-224-S型」

プロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できます。

真空はんだ付けバッチ炉 「PH-224-S型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500℃)、降温1500℃→100℃まで約40分(真空、およびガス置換雰囲気) ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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<電気炉>RHF -シリコンカーバイドヒーター式高温チャンバー炉

RHFシリーズは、シリコンカーバイド製ヒーターを使用したチャンバー炉です

RHFシリーズは、シリコンカーバイド製ヒーターを使用したチャンバー炉で、4種の炉内容積と最高使用温度1400℃、1500℃、1600℃の3種の組合せ(合計12機種)から選択可能です。 堅牢な作りと高速昇温(1400℃到達時間が40分以内)を可能にする高性能ヒーター素子、そして長寿命が特徴です。

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小型塩素炉<金属塩化物の選択揮発による不純物分離>

塩素/塩化水素で不純物を塩化物化!蒸気圧差と段階温度で優先揮発します

「小型塩素炉」は、母材を残して乾式で分離・低汚染、洗浄レスで後処理を 簡素化する製品です。 材料中の金属不純物をCl2/HClによる選択塩素化で揮発性塩化物に変換し、 温度段階と滞留時間の制御で優先的に除去する乾式プロセス。 また、金属塩化物の蒸気圧差・生成自由エネルギー差を利用するため、 母材の組成や結晶相を損なわずに高選択で分離でき、排液がほぼ出ないため 環境負荷とコストを低減できます。 【特長】 ■選択性:塩化物の蒸気圧差を利用し、ターゲット不純物のみ優先揮発 ■段階温度プロファイル:低温→中温で順次分離、母材損傷を抑制 ■乾式・低廃棄:洗浄レスで廃液ほぼゼロ、後処理が簡便 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

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焼鈍炉(焼きなまし炉)

急冷、徐冷時の精密な温度コントロールが可能

設計時に熱計算のシミュレーションや電気容量の計算を行うことで炉内の温度を正確に制御することができ、ご希望通りの製品の出来ばえや特性を得ることができます。サンファーネスでは、AMS規格(米国航空宇宙規格)にも対応可能な技術で、お客様に合わせてオーダーメイドで対応してきました。自動搬送など周辺領域も含めて最適な焼鈍炉を提案いたします。 【特長】 ■ 急冷、徐冷時の精密な温度コントロールが可能 ■ 各種雰囲気ガスを入れることが可能 ■ 焼鈍、焼準兼用炉の製作が可能 【おもな焼鈍炉】 ■ 竪型焼鈍炉 ■ ピット型焼鈍炉 ■ 台車式焼鈍炉 ■ ローラーハース式焼鈍炉 ■ メッシュベルト式焼準炉 ■ ストランド式光輝焼鈍炉 ■ ステンレスパイプ光輝焼鈍炉 ■ 台車式アニール炉 ■ 真空焼鈍炉 ■ アルミ軟化焼鈍炉 小ロット生産 ・ 熱処理試験・ 少量サンプル製造などご相談ください。 ​ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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小型塩素炉<高温腐食評価の新たな実験プラットフォーム>

小型塩素炉の高耐食構造と精密雰囲気制御を活かし、金属・合金・セラミックスなどの腐食メカニズム研究への応用を

当社では、塩素・塩化水素雰囲気での腐食挙動を再現できる「塩素炉」を 取り扱っております。 高温×腐食性雰囲気を安全に再現できる実験炉。塩素ガスによる高温腐食機構の 基礎研究や耐塩素性材料(高合金・被膜材・セラミックス)の耐久評価、腐食防止 コーティングの試験プラットフォームなどへの応用が理論的に期待されます。 また当社では、テスト機もご用意いたしております。 【特長】 ■塩素・塩化水素など腐食性ガス対応 ■減圧・温度の同時制御 ■乾式構造による高純度雰囲気 ■常時減圧雰囲気によるプロセスガスの漏洩リスクを低減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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メタル炉<セラミックス-金属の気密封着を“高純度雰囲気"で>

セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、クリーン雰囲気で強固に封着

当社では、全金属ホットゾーンの「メタル炉」を取り扱っております。 接合(封着・ろう付け・拡散接合)では、微量O2/H2O/炭化水素が 濡れ性・界面反応・気密に直結。メタル炉は真空10^-5Pa級+(Mo/W) ホットゾーンで、炭素・有機由来の汚染源を排除します。 薄膜・電極・光学部材の高純度アニール/封止などに応用可能です。 【特長】 ■高真空(10^-5Pa級)~還元雰囲気運転対応 ■金属炉構造(Mo/W)で清浄雰囲気を維持 ■±1℃以内の温度均一性と長期安定制御 ■金属治具や荷重加圧機構との組合せが容易 ■試料の小型化・局所加熱試験にも対応 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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防爆対応可能 プロセス NMP濃度計 3年保証

NMP(N-メチル-2-ピロリドン: N-Methyl-2-pyrrolidone)濃度を測定。NMP濃度モニター C5H9NO

NMP :消防法危険物第4石油類第3石油類(引火性液体)  測定範囲 :0-100% (分解能0.01% それ以下も対応可能)  ※高い精度が要求される場合は測定レンジを絞ることで実現します。  ※二次電池や電子部品製造など、様々な用途で使用可能です。  ※Oリングなど、センサーの交換部品なし。ノーメンテナンスで3年保証  ※用途や要求仕様に合わせて、音速計、屈折率計、密度音速計など最適な測定原理をご提案いたします。  溶液、混合液の密度・音速・屈折率は、多くの場合濃度に正比例します。したがって、測定した物理値を濃度の測定に利用することができます。様々なサンプルに対する検量線の立ち上げが可能であり、そのために、耐腐食性の接液材質が選択可能です。  小型でコンパクトなデザインのため、簡単に組み込むことができ、製薬、飲料、エタノール、化学、石油業界で使用されています。また、日本国内の防爆対応をはじめ、様々な規格に適応しており、高い精度と安定性が評価されております。  希釈、濃縮、回収と再生・精製など、幅広い実績があります。

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  • その他計測・記録・測定器

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