集光照射式赤外線真空炉(IVF298W)
真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線加熱による急速昇温、クリーン加熱が簡単にできます。
・円筒上真空チャンバー外周には、8個の真空ポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用。 ・上面が大きく開き、試料の設置・取出し作業が容易にできる。
- 企業:株式会社サーモ理工
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線加熱による急速昇温、クリーン加熱が簡単にできます。
・円筒上真空チャンバー外周には、8個の真空ポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用。 ・上面が大きく開き、試料の設置・取出し作業が容易にできる。
N2ガスパージで光輝処理が可能な真空熱処理炉
『NVPTシリーズ』は、真空パージ後N2ガスを大気圧直下まで封入し 対流加熱を行うため、酸素、水分などの存在がなく光輝処理が可能な 真空パージ雰囲気焼戻し炉です。 本製品はオプションで高真空仕様(油拡散ポンプ装備)、高温仕様を ご用意しております。 【特長】 ■温度分布性能の向上のため、シール性の優れたバンク構造、 ヒータの円周配置、3分割制御 ■セラミックファイバーを使用した円筒形加熱室、対流加熱/冷却ファン、 熱交換器を容器内に配置 ■加熱方式は対流加熱以外に真空加熱も可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
独自開発した気密構造!安定した雰囲気制御が可能な高温・真空ロータリキルン
『電気加熱高温・真空ロータリキルン(特殊雰囲気・大気)』は、高砂の独自開発した気密構造により、安定した雰囲気制御が可能な連続炉です(特許取得済み)。 石英・特殊金属などのレトルトの使用により、金属では出来ない高温処理が可能です。 各種粉体原料、金属系材料、その他の用途に適しています。 【特長】 ○キルンタイプ:外熱式ロータリキルン ○回転攪拌による均一、短時間加熱が可能 ○窒素、水素、酸素、その他各種雰囲気ガスの利用に対応可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
最高で2200℃まで加熱が可能!8、40、100リッターが選べる真空炉・高温熱処理炉
グラファイト、モリブデン、ニ珪化モリブデン発熱体による電気 加熱のチャンバー炉として設計された製品
Max1000℃!石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能です
株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系 RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
超高真空脱ガス炉
【特長】 ハロゲンランプ等の電極の充填、脱ガス等、真空熱処理を行う炉です。 高真空のため排気系としてはターボ分子ポンプを使用しております。 【仕様】 到達圧力:5X10-6Pa 常用圧力:X10-4Pa 最高加熱温度:2400℃ 常用加熱温度:2000℃ 高周波電源:40KW 均熱帯:30パイx30H(2000℃±2%)
真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのUV・加熱などに最適!
「PU-201-V型」は最高温度200℃対応の真空UV照射バッチ炉です。 小型バッチ炉タイプで、真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得(アナログ出力)できます。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利用可能!
『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲:最高450℃ ■到達圧力:10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ:30通り ■試料棚:2段 ■各種オーダーメイドも製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。
「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
1200℃最高温度の真空管状炉 石英・セラミック炉心管対応
• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません • 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易です • 科学研究所や教育機関などで、様々な材料試験や熱処理に使用されています
幅広い冷却ガス圧に対応する真空熱処理炉
『RQシリーズ』は、シンプルな冷却ガス上下切替機構を搭載した 高圧加圧ガス冷却横型真空炉です。 オプションとして対流加熱機能の付加が可能。 循環ファンによる対流加熱は850℃まで昇温でき、真空加熱(放射加熱)の 欠点である低温での昇温遅れを大幅に改善します。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ドアを採用し加圧下での安全性向上 ■圧力損失の少ない流路設計で大きなガス流量 ■冷却ファンに連続定格のモータ採用で、低温域の冷却速度の低下防止 ■可動式ガス流ガイド装置により、ワークへの冷却ガス分布の均一性を向上 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
中間に真空シールドアのある2室型タイプ!油冷とガス冷が可能な焼入れ炉
『TVO』は、中間に真空シールドアのある2室型タイプで、冷却室は油冷とガス冷が可能な真空油焼入れ炉です。 油焼入れにサーボモータ採用で焼入れ品質向上、油への投入時間約1sec及び高速振動を実現しました。 【特長】 ○冷却処理で加熱室を冷やさないので再加熱エネルギーの節約 ○搬入出時に加熱室が大気に触れないので無酸化処理に最適 ○圧力変化の少ない真空加熱で断熱材が長寿命 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【技術資料付き】最大0.4MPaの加圧で、ボイド率を大幅低減。急速冷却でプロセス効率化。フラックスレスはんだ付けにも対応
『VPF300』は、チャンバー内を真空(減圧)状態にできるだけでなく、気圧を0.4MPaまで加圧できるため、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なはんだ付けを実現する真空・加圧リフロー炉です。 チャンバー内の圧力や加熱温度など、ワーク毎にプロセス条件を設定でき、独自の急速冷却機能により、効率的な加熱・冷却が可能。 また、ギ酸還元リフロー、フォーミングガスリフローに対応しており、 フラックスレスのはんだ付けプロセスを構築することもできます。 2023年モデルは冷却機構を改良し、メンテナンス性を向上しました。 【特長】 ■300×300mmとワイドな有効加熱エリア ■最大加熱温度は450℃ ■真空チャンバーは観察用窓を装備 ■直感的に操作できるタッチパネルGUIを採用 ※「PDFダウンロード」より製品資料をご覧いただけます。 テストをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。
金属非鉄の真空熱処理や金属焼結粉末の熱処理などに使用可能!炉型式真空炉
炉型式真空炉は、金属非鉄の真空熱処理や金属焼結粉末の熱処理などに 使用することができます。 横置型、ポット型、ベル型などがあります。なお、横置型には予熱室、 加熱室、冷却室を設置する3室真空炉も設計製作致します。 【特長】 ■横置型には予熱室、加熱室、冷却室を設置する3室真空炉も設計製作可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。