更新日： 集計期間:2025年11月26日～2025年12月23日
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1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し！高温焼成及び溶融、ガス分析に！
『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃（最大1150℃） まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適してます。Oリング部は 強制空冷の為、冷却水循環装置が不要です。 【特長】 ■常用1100℃（最大1150℃）まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応 ■Oリング部は強制空冷の為、冷却水循環装置が不要 ■所要電力：AC100V 2kW ※オプションによりAC200V ■設置スペースはW540×D420×H568mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
炉内圧カプログラム制御システムを装備した特殊炉
電気炉・雰囲気炉／加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『縦型マルチ雰囲気炉』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■炉内寸法：Ф380mm×H600mm ■常用/最高温度：700℃/800℃ ■炉内圧力：最高0.1MPa ■ヒーター：当社製モジュールヒーター（カンタル線エレメント） 縦型3ゾーン制御、真空置換型、 炉内圧カプログラム制御システムを装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様！重量は約4Kg！1200℃まで約2分で昇温可能な高性能ミニチュア管状雰囲気電気炉です
こんなユーザーに朗報！！ ｢精度高い実験がしたい｣ ｢ガスのフローを一方向に綺麗に流し続けたい｣ ｢昇温速度を更に早くしたい｣ ｢1.5kwコンセントで2台使用したい｣ ｢高価な希少性ガスを使用したい為、出来るだけ極小容積のチャンバーにて雰囲気加熱したい｣ 手のひらサイズ電気炉シリーズ第4弾！ 両側マニホールドに最小外径15Φ(内径12Φ)高純度透明石英管を装着！ 長3封筒（定形郵便規格）サイズで重量は約4Kg！ A.C100Vコンセント 0.7Kwの省エネ仕様！ MAX1,200℃まで約2分で昇温可能な高性能ミニチュア管状雰囲気電気炉です！
丸祥電器社が取り扱う『露点制御式高温雰囲気炉』
露点制御式高温雰囲気炉は、セラミックス、電子部品等の様々な研究開発、少量生産 用として、還元雰囲気、露点制御雰囲気などの高度な雰囲気制御下で使用でき、ユー ザーの要望による特別仕様にも対応可能です。 ■□■特徴■□■ ・炉内寸法 W150mm×D150mm×H180mm〜W300mm×D300mm×H300mm ・使用温度 常用1600℃ 最高1700℃ ・真空置換型 ・露点制御システム（ウエッター最高80℃）を装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。
1800℃で気密タイプによる各種ガス雰囲気が出来る高性能スペック電気炉
安定した温度域で各種実験が行える横型管状電気炉です。 オプションを使用する事で、制御は温度だけではなくガス・炉内部圧力をコンピューター通信による管理にてコントロール出来る為、再現性の良い実験が可能なハイパフォーマンス機種です。 ヒーターは信頼性の高いカンタル社の高温発熱体｢カンタルスーパー1900｣を使用しており、上部ドアー開閉方式によるヒーターメンテナンスを容易に出来る構造になってます。 またCAD設計による一体構造で場所のとらないコンパクト設計が実現。 【特徴】 ・低価格・省スペースにて精密焼成が実現 ・プログラムコントローラー・デジタルマスフローメーター装備による精密な温度雰囲気制御が可能 ・100V電源で経済性の優れた1200℃仕様もラインナップ ・標準部品構成による短納期製作が可能 ・その他幅広いオプションが可能
１０００℃以上の耐熱性や耐薬品性が高い特長の『シリカ』の知識が深まる技術資料進呈中！
「ハイシリカ」（精製珪石粉等）を幅広い産業分野に提供している株式会社ニッチツが シリカの分類や特性、石英の特徴などを解説した技術資料です。 そのほか、石英粉末を溶融して製造した「溶融石英ガラス」や「合成石英ガラス」などの 活用例もご紹介しています。 ■シリカの特長 ・耐熱性が高い。１０００℃以上の高温に耐えることができます！ ・耐薬品が高い。酸、アルカリにわずかに溶けるが溶ける速度が極めて低い。 ■用途 半導体工業用、液晶用、光ファイバ、光学用、理化学用、 水銀灯、殺菌灯、赤外線ランプ、光ファイバ、半導体精製容器、シリコン単結晶引き上げ用るつぼなど… ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱できる電気炉
株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが可能な炉体移動式のVGF炉です
『MAT-200VGFHQ』は、石英管式炉体移動型の炉構造であるVGF製造炉です。 ヒ素圧1atm中で育成するので、容易に欠陥(EPD)の少ない結晶を得ることが 可能。常用温度は1200℃、最高温度は1300℃です。 また、育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離します。 さらにPBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能です。 【特長】 ■育成後のGaAsインゴットとPBN坩堝は、液体に浸漬することで分離 ■PBNるつぼと石英アンプルは、再使用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
堆積膜・反応生成物を塩化揮発で選択除去！母材の寸法や表面粗さを維持します
「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度：付着物を塩化物化→低温で揮発、 母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小：酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持：負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応：石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
