発生装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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発生装置 - メーカー・企業633社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年11月26日~2025年12月23日
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発生装置のメーカー・企業ランキング

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  1. 荒川工業株式会社 愛知県/機械要素・部品
  2. エンバイロ・ビジョン株式会社 東京都/その他
  3. 株式会社ライヴス   東京本社 東京都/その他
  4. 4 株式会社サタコ 東京都/産業用機械
  5. 5 株式会社シバタ ファインバブル事業部 愛知県/機械要素・部品

発生装置の製品ランキング

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  1. ナノバブル生成ノズル【AUFB Ark】 荒川工業株式会社
  2. マイクロ・ナノバブル発生装置「YJノズル」 エンバイロ・ビジョン株式会社
  3. アルミ製蓄圧式粉末ABC消火器『アルテシモ・プラス』 モリタ宮田工業株式会社
  4. 4 雪状ドライアイス簡易発生装置『スノーホーン』 エア・ウォーター・グリーンデザイン株式会社
  5. 5 プラント向け海水電解装置『ダイキハイクロレーター』 カナデビア株式会社 東京本社 脱炭素化事業本部 脱炭素化システムビジネスユニット 営業部

発生装置の製品一覧

511~525 件を表示 / 全 1999 件

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窒素発生装置 Genius 3040

AB Sciex社製LCMS1台,その他メーカーの一般的なLCMS1台に同時にガス供給を行うことができます!!!

本製品はAB Sciex社製のLCMS用のガスアウトプットラインに加え,その他のメーカーの一般的なLCMS用のガスアウトプットラインを独立して持ちます。 機能と特徴としては以下の通りです。 ■二つのアウトプット 独立した二つのアウトプットラインを持ちます。 ■スタンドアローン 外部コンプレッサー不要で,窒素タンクも内部に搭載しています。 ■高静音性 コンプレッサーを遮音板で囲っているため,ノイズを最低限に抑えます。 ■簡単な設置 プラグアンドプレイ方式のシステムなので,誰でも簡単に使用できます。 ■経済的 非常にコストパフォーマンスに優れています。 ■高利便性 要求量に応じたガス供給が可能です。ガスが不要の際には動作が止まります。

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窒素発生装置 Genius 3013

高流量出力が可能なAgilent社のChip Cubeアプリケーション向け窒素発生装置です!!!

本製品はAgilent社のChip Cubeアプリケーション用に開発された製品で,通常の高純度窒素ガスだけではなく,スイッチを切り替えることで,10%の酸素含有窒素ガスも供給することができます。また,64 L/minでの出力が可能なので,高流量のガスを必要とする装置に対応可能です。 機能と特徴としては以下の通りです。 ■Chip Cube対応 フロントパネルのスイッチを使用し,出力ガスに10%の酸素を含有させることができます。 ■スタンドアローン 外部コンプレッサー不要で,窒素タンクも内部に搭載しています。 ■高静音性 コンプレッサーを遮音板で囲っているため,ノイズを最低限に抑えます。 ■簡単な設置 プラグアンドプレイ方式のシステムなので,誰でも簡単に使用できます。 ■経済的 非常にコストパフォーマンスに優れています。 ■高利便性 要求量に応じたガス供給が可能です。ガスが不要の際には動作が止まります。

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高圧窒素ガス発生装置 「SHN-450」

窒素ボンベはもう必要有りません!高圧窒素を空気から供給できます。

高圧窒素ガス発生装置 「SHN-450」は、コンプレッサーエアーを接続するだけで99.%の高圧窒素ガスが得られます。 SATACOは安全・環境・省エネを重要な位置付けとした事業活動を行います。 水・空気・熱・をテーマとした開発・設計・製造・保守を通じベストな提案を行います。 お客様のお役に立つ事は基より、お客様と共に発展・繁栄することを目指します。 【特徴】 ○高圧ガス設備の適用除外設備で使用できる ○高圧レギュレータにて圧力コントロールが容易に出来る ○分離膜方式なのでメンテナンスフリー ○騒音は60dB以下 ○流量コントローラーにより流量調整が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 窒素ガス発生装置

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高圧・ガス空気発生装置 「HAD-4640」

気密試験用・耐圧試験用の空気圧力源や窒素ボンベの代用に最適です!

高圧・ガス空気発生装置 「HAD-4640」は、100V電源があれば高圧のドライ空気が得られます。 簡単に移動ができますので、現場でのボンベの搬送・交換のわずらわしさがありません。 【特長】 ○移動が簡単 ○100V電源があれば高圧ドライ空気が得られる ○窒素ボンベの代用になる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 窒素ガス発生装置

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酸素富化ガス発生装置 「SLO-5000シリーズ」

分離膜の組み合わせで大小流量を吐出します。

酸素富化ガス発生装置 「SLO-5000シリーズ」は、シンプルな構造設計です。 騒音、ダストの発生がなく、分離膜方式なのでメンテナンスフリー。 分離膜の組み合わせで大小流量を吐出。 コンプレッサーエアーの供給のみ、電源不要です。 【仕様】 ○型式 SLO-5000-2 ○サイズ 210W×350D×525H ○重量 約12kg ○コンプレッサー未搭載 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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高圧窒素ガス発生装置 「HND-4640B」

窒素ボンベはもう必要有りません!高圧窒素を空気から供給できます。

SATACOは安全・環境・省エネを重要な位置付けとした事業活動を行います。 水・空気・熱・をテーマとした開発・設計・製造・保守を通じベストな提案を行います。 お客様のお役に立つ事は基より、お客様と共に発展・繁栄することを目指します。 【特徴】 ◆ 100V 電源があれば高圧の窒素ガスが得られます。 ◆ 簡単に移動が出来ますので、現場でのボンベの搬送・交換の わずらわしさがありません。 【使用用途】 ◆ 気密試験用 ◆ 窒素ボンベの代用 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 窒素ガス発生装置

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超小型窒素発生装置 SUF-500

超小型で電源不要!卓上使用や組込用途に適した窒素発生装置

「SUF-500」は、寸法「H 190×W 180×D 150」の超小型窒素発生装置です。 コンプレッサーエアーの供給のみで電源は不要です。 各種装置への組み込み用として、別途ご対応させて頂きます。 専用コンプレッサーもご提供できます。 【特徴】 ○窒素純度が自由に変えられる ○机上でも窒素ガスの発生が可能 ○空気を瞬時に窒素へ変える 〇露点は‐40℃以下 【使用用途例】 〇食品パックシール保存 〇 防爆シール 〇試験サンプリングガス 〇 酸化防止用  〇ハンダ装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 窒素ガス発生装置

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窒素ガス発生装置『SLFシリーズ』

低コストで窒素を製造する窒素ガス発生装置!窒素純度は自由に設定可能

『SLFシリーズ』は、UV硬化装置や酸化防止等で活躍する窒素ガス 発生装置です。 空気を瞬時に窒素へ変換するため消費量の心配は必要なし。 窒素純度は自由に変更できます。 コスト低減に貢献します。 【特長】 ■空気を瞬時に窒素へ変換 ■窒素純度が自由に変更可能 ■手軽に机上で窒素製造が可能 ■コスト低減に貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 窒素ガス発生装置

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高圧窒素富化ガス発生装置『HND-4640D』※事例進呈

【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要。気密試験の省力化やパージ品質向上に

『HND-4640D』は、100V電源で使える高圧窒素富化ガス発生装置です。 ボンベを用いずに露点-40℃以下、濃度85%の窒素ガスを吐出・供給でき、 煩わしいボンベの搬送・交換作業が不要に。現場の省力化が可能です。 3種類の吐出圧力範囲に対応し、ロー付け部に負荷をかけない配管気密試験や スケールの少ないパージ作業など、様々な用途に使用できます。 【特長】 ■100V電源で使用可能 ■0~1.0、0~2.4、4.5(MPa)の3種類の吐出圧力に対応 ■予備用高圧タンク、専用消音BOXのオプションあり ■現場への持ち運びが簡単で、省力化に貢献 ■露点温度-40℃(吐出流量・50NL/min) ■専用窒素ユニット追加で窒素濃度99.0%以上(オプション) ★事例資料と製品紹介資料を進呈中!  詳しくは「PDFダウンロード」よりご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 ※デモ機の貸出相談可能です。ご希望の方はお問い合わせ下さい。 ※数に限りがあり、お断りするケースもございますのでその際はご了承下さい。

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高圧窒素富化ガス発生装置『HND-RA』※作業事例も紹介中

【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要。気密試験の省力化やパージ品質向上に

『HND-RA』は、100V電源で使える高圧窒素富化ガス発生装置です。 ボンベを用いずに露点-40℃以下、濃度85%の窒素ガスを吐出・供給でき、 煩わしいボンベの搬送・交換作業が不要に。現場の省力化が可能です。 3種類の吐出圧力範囲に対応し、ロー付け部に負荷をかけない配管気密試験や スケールの少ないパージ作業など、様々な用途に使用できます。 【特長】 ■100V電源で使用可能 ■0~1.0、0~2.4、4.5(MPa)の3種類の吐出圧力に対応 ■予備用高圧タンク、専用消音BOXのオプションあり ■現場への持ち運びが簡単で、省力化に貢献 ■露点温度-40℃(吐出流量・40NL/min) ■専用窒素ユニット追加で窒素濃度99.0%以上(オプション) ★作業事例も載った製品紹介資料を進呈中!  詳しくは「PDFダウンロード」よりご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 ※デモ機の貸出相談可能です。ご希望の方はお問い合わせ下さい。 ※数に限りがあり、お断りするケースもございますのでその際はご了承下さい。

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スタンド一体型超音波発生機『UDS-200』

こんな超音波ホモジナイザー見たことがない!本体スタンド一体型 超音波ホモジナイザー

超音波発生機 UDS-200は、本体とスタンドが一体化したボディーに便利機能を充実した新モデルです。 タッチパネル機能付カラー液晶ディスプレイとスピーディーな昇降機付きリフトスタンドの採用により、高い操作性と新感覚のデザイン性を両立しています。 【特長】 ○直感的な操作を可能にした発振スイッチ付昇降レバー。片手で簡単に高さ調整が可能。 〇タッチパネル機能付カラー液晶ディスプレイ採用。 ○サンプルの負荷変動があっても常に一定の振幅に自動調整する「定振幅制御」機能を搭載。 ○アンプ&スタンドの一体型設計により、ワークスペースは従来製品の約半分 ○熱に弱いサンプルの処理に適した間欠タイマを装備。 ○オプションでアクリル製消音ケースをご用意。 〇高周波利用設備型式指定取得済み 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 分散・乳化装置・ホモジナイザー

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超音波発生機『UD-100』

コンパクト・軽量ボディ!破砕により負荷がかわっても常に安定した発振が得られます

『UD-100』は、低発熱かつ強力破砕で微量から大量サンプルまで 対応可能な超音波発生機です。 チップ先端の状態をセンシングすることにより、負荷変動があっても 常に一定の振幅を保つように自動的に出力を調整。チップの磨耗や 経年変化にも対応し、調整範囲を外れた場合はエラー表示します。 定期的な周波数サーチを行い、破砕により負荷がかわっても常に 安定した発振が得られます。 【特長】 ■周波数自動追尾機能・定振幅制御機能 ■デジタル表示と優れたインターフェイスを採用 ■サンプルやアプリケーションに合わせて出力を  20~99%まで80段階で調整可能 ■一度設定した設定値は電源を切っても記憶され、  再現性の良い超音波発振を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 分散・乳化装置・ホモジナイザー

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PIAB『piCOMPACT 23』高速電磁弁搭載真空発生器

【省エネ・長寿命】従来のエジェクターよりも、30%~50%消費エアーの削減が可能!様々な真空システムに対応したエジェクター!

Piab(ピアブ)の『piCOMPACT 23』は、様々な真空システムに対応したエジェクターです。高い信頼性、柔軟性、高真空流量、高速サイクルタイムのために最適化された設計を実現しました。他社同等製品と比較し、より高速な反応速度と高真空流量を提供することができます。従来のエジェクターと比較し、30%~50%の消費エアーの削減が可能です。 【特長】 ■サイクルタイムが大幅に向上します。 ■他社同等製品と比較し、より高速な反応速度と高真空流量を提供。 ■生産ラインの高速化が可能となります。 ■従来のエジェクターと比較し、30%~50%の消費エアーの削減が可能。 ■真空漏れが無いワーク(例:鉄板、ガラスなど)の場合は、  更に90%~95%の消費エアーの削減が可能。 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい。 (ピアブ・ジャパン株式会社)

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逆止弁搭載真空発生器 piSECURE 30分間以上の真空保持

吸着搬送時のワーク落下を阻止!30分以上の真空圧力を保持!従来システム比90%以上の圧縮空気使用量を削減可能!

piSECUREは、強力な逆支弁を搭載した真空発生器です。 真空圧を30分間以上保持するので、重量物の搬送時の安全性向上に寄与します。 ガラス、鉄などの重量物を扱うユーザーにて実績多数あり。 <特長> ・強力逆支弁搭載の真空発生器 ・従来システム比90%以上の圧縮空気使用量を削減します ・停電などのトラブル時にワークの落下を防止します

  • piSECURE_ES.jpg
  • 多関節ロボット
  • コンベヤ

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【開発事例】タイミング発生装置

紫外線露光装置2台を同時に、高速高精度に制御できる装置を開発した事例をご紹介

協立電機株式会社 技術開発部の『タイミング発生装置』の開発事例を ご紹介いたします。 当社では、「半導体生産設備用の紫外線露光装置2台を同時に、 高速高精度に制御できる基板が欲しい」との依頼を受けました。 そこで、紫外線発生装置2台へ与えるシグナルパルス発生装置を開発しました。 【事例概要】 ■要求  ・半導体生産設備用の紫外線露光装置2台を同時に、高速高精度に  制御できる基板が欲しい ■開発した装置  ・紫外線発生装置2台へ与えるシグナルパルス発生装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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