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測定システム×大塚電子株式会社 - 企業1社の製品一覧

製品一覧

1~6 件を表示 / 全 6 件

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多検体ナノ粒子径測定システム『nanoSAQLA』

日々の測定をかんたん・手軽に!使いやすさにこだわった粒子径測定装置をご紹介

『nanoSAQLA(ナノサクラ)』は、光散乱を利用して粒子径を測定する 動的光散乱法 を採用した、粒子径測定(粒子径0.6nm~10μm)装置です。 オートサンプラーなしで、複数検体の連続測定を実現。各検体の条件を 変えて測定することも可能です。 また、濃厚系から希薄系サンプルまで約1分の高速測定を実現しました。 各セルは独立しているため、コンタミの心配もありません。 【特長】 ■動的光散乱法を採用 ■最大5検体連続測定が可能 ■高速測定 ■コンパクトボディ(装置幅24cm) ■コンタミレス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 食品試験/分析/測定機器

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ゼータ電位・粒子径・分子量測定システム『ELSZneo』

希薄系から濃厚系の高精度な粒子径・ゼータ電位測定 さらに固体表面、分子量の評価まで

『ELSZneo』は、ELSZseriesの最上位機種で希薄溶液から濃厚溶液での粒子径・ゼータ電位測定に加え、 分子量測定を可能にした装置です。また、粒度分布の分離能を向上させるため多角度測定を採用し、 粒子濃度測定やマイクロレオロジー測定、ゲルの網目構造解析も可能にしました。 平板のゼータ電位測定が可能な平板セルユニットは、新開発した高塩濃度対応 コーティングにより、生理食塩水などの生体模擬環境下での測定が可能です。 【特長】 ■希薄から濃厚溶液(~40%)まで幅広い濃度範囲の  粒子径・ゼータ電位測定が可能 ■多角度測定により、分離能の高い粒子径分布の測定が可能 ■平板状サンプルのゼータ電位を講演濃度環境下で測定が可能 ■静的光散乱法を用いて粒子濃度の測定が可能 ■動的光散乱法によりマイクロレオロジー測定が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他計測・記録・測定器

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紫外放射照度測定システム『MCPD series』

紫外域でも高精度な測定を実現!高斜入射特性など用途にあった照度ヘッドを選択可

『MCPD series』は、紫外から可視と幅広い波長範囲をカバーする 紫外放射照度測定システムです。 ソフトウェアでサンプル点灯電源、測定計器を一括制御、 L-I-V測定、パルス点灯測定、サンプル温調測定にも対応可能。 検出器は発光体測定、反射・透過測定、インプロセス測定で 多数の実績がある高性能な分光光度計です。 【特長】 ■装置校正用の標準ランプはJCSS校正事業者登録の自社部門より供給 ■光合成研究に欠かせないPFD、PPFDも測定可能 ■高斜入射特性など用途にあった照度ヘッドを選択可 ■紫外から可視と幅広い波長範囲をカバー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 紫外放射照度測定システム2.png
  • その他電子計測器
  • その他計測・記録・測定器
  • 光源・照明

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分光配光測定システム『GP series』

分光放射強度の角度分布を測定し、配光特性(光度・色度など)を評価!

『GP series』は、最大2400mmのLED照明器具の配光測定に対応した 分光配光測定システムです。 角度ごとの分光分布測定結果から分光全放射束、全光束、色度、 色温度などを計算可能。 また、オプションで紫外域・近赤外域の配光測定にも対応できるほか、 国家基準にトレーサブルな校正サービスを提供(JCSS校正サービス)します。 【ラインアップ】 ■GP-500 ■GP-1100 ■GP-2000 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 分光分析装置

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分光全放射束測定システム『HM/FM series』

IESNAのLM-79とLM-80に準拠した測定システム!分光全放射束測定の様々な要望に対応

当社で取り扱う、分光全放射束測定システム『HM series/FM series』 をご紹介いたします。 積分半球仕様の「HM series」は、 光源の点灯姿勢が変更できるため、 実使用条件下での測定が可能。発光部以外を積分空間より排除、吸収誤差 を解消します。 また、積分球仕様の「FM series」は、積分球に設置した補正用ランプを 使用し、自己吸収を補正するほか、紫外域・近赤外域にも対応します。 【HM seriesの特長】 ■積分空間の半減で明るさ(感度)が2倍 ■面発光光源の分光全放射束測定に好適 ■発光面以外を積分半球の外に配置できるため、サンプルの温調が容易  (高出力光源にも対応) ■サンプル光源自身の影の影響を排除できるため、大型サンプルに好適  (積分球直径の1/3まで対応) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 分光全放射束測定システム2.png
  • 分光全放射束測定システム3.png
  • 分光分析装置

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ロードポート対応膜厚測定システム『GS-300』

半導体工場の膜厚ニーズに合わせたインテグレーションが可能!

『GS-300』は、小フットプリント仕様のロードポート対応膜厚測定 システムです。 φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応。 ウェーハに埋め込んだ配線パターンアライメントを実現します。 また、半導体プロセスの高スループット要求に対応しております。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■φ300mmEFEMユニット予備ポートへのインテグレーションに対応 ■ウェーハに埋め込んだ配線パターンアライメントを実現 ■半導体プロセスの高スループット要求に対応 ■小フットプリント仕様 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • ロードポート対応膜厚測定システム2.png
  • ロードポート対応膜厚測定システム3.png
  • 半導体検査/試験装置
  • 膜厚計

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