更新日： 集計期間:2025年11月26日～2025年12月23日
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時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、パーティクル低減、装置稼働時間が大幅アップし、生産性向上！
イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留まり向上と装置稼働時間のアップは半導体製造業者にとって至上命題といえます。最先端の製造ラインに導入された、イオンアシスト蒸着法による保護膜は、ドライエッチング装置部品の保護膜として、また、定期的メンテナンスにおける再生としてご利用いただけます。
低温成膜可能な高硬度薄膜。低表面エネルギー、低粘着性
MiCCはFCVA法によりコーティングしたCrN膜です。 半導体パッケージ用金型や、射出成型用金型の離型膜として好適。 低温でコーティングを行っているため、基板材料の変形、変質がありません。 金属膜（MiCC）だけでなく、水素フリーDLC(TAC)膜のコーティングも可能です。 【MiCCの特長】 ■ 低い表面エネルギー（離型性向上） ■ 低温合成 (＞150℃) ■ 高硬度 (~20GPa) ■ 優れた密着性 (臨界荷重 >80N @ 200um tip) ■ 低い摩擦係数 【適用分野】 ■ 半導体封止パッケージ金型 ■ 射出成型用金型 ■ ゴム成型金型 詳しくは弊社Web siteをご参照下さい。
日本機能材料株式会社は、SiGeのエピタキシャル成長膜を提供します。
日本機能材料株式会社は、米国のローレンス半導体研究所(Lawrence Semiconductor Research Laboratory, inc. 略称LSRL) にエピタキシャル成長を依頼します。 日本機能材料株式会社はお客様とLSRLとの間の適切な橋渡しをします。 LSRLとの密接なやりとりにより仕様を纏めます。 IV族に関するどのようなエピでもまずご相談ください。 ご質問も遠慮なくお寄せください。 御要望があれば訪問し、御説明いたします。 【事業目的】 ○半導体、電子部品材料、新機能材料の開発、販売、輸入 ○コンサルティング業務 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
《最高90℃》での熱水殺菌が可能で、無薬品（殺菌）洗浄が必要なし！医療・医薬品や食品業界など 幅広い分野で活躍中！
『HWSシリーズ』は、食品をはじめとし飲料水、 電気部品及び半導体製造工程、生物医薬、化学品の精製、 医薬、医療などの分野で使用が最適な膜エレメントです。 熱水殺菌洗浄の最大利点を活かして、製造工程の製品品質や産業基準を 満たしているので、無薬品（殺菌）洗浄が可能になっています。 【特長】 ■幅広い分野で使用可能 ■無薬品（殺菌）洗浄が可能 ■最高90℃での熱水殺菌が可能 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
光学部品、電子部品のはんだ接合の下地層に『メタライズ（接合用）』。
■概要 ガラスやセラミックスなどの非金属を、はんだ付けで接合するためのメタライズ層を形成します。
東京大学発のスタートアップ！多能性中間膜を駆使して開発・製造
当社は、中間膜及びエピタキシャルの研究開発・製造・販売を 事業としている会社です。 MEMS、パワーデバイス、LED製品をはじめとする半導体の高付加価値化、 軽薄短小化、低価格化実現に必要不可欠な単結晶膜を、独自の多能性中間膜を 駆使して開発・製造します。 ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。 【事業内容】 ■中間膜及びエピタキシャルの研究開発・製造・販売 【沿革・受賞歴】 ■1990年～ 動的格子マッチング中間膜基礎研究 ■2019年～ 多能性中間膜基礎・応用研究 ■2020年～ 多能性中間膜TM 技術実用化 ■2021年11月 株式会社Gaianixx 設立 ■2022年6月 東京大学エッジキャピタル(UTEC)よりSeriesA資金調達 ■2023年1月 文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ事業の秀でた利用成果 ”最優秀賞”に選定 ■2023年6月 SeriesB資金調達 ■2023年12月 SeriesB 2ndラウンド資金調達 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
幅広く使用されているポリエチレンやナイロンによるフォトケミカル材料ろ過への新たな選択肢とソリューションのご提供を開始します。
Cobetterは新しいラインナップとしてポリイミド膜フィルターをリリースしました。幅広く使用されているポリエチレンやナイロンによるフォトケミカル材料ろ過への新たな選択肢とソリューション提供の開始です。 半導体向けフィルターとして高い薬液耐性と耐熱性を有するポリイミド膜は、清浄度においても極めて優れており、ユニークな多孔構造膜への通液を通してクリティカルなプロセスへの貢献が期待できます。 UPE Sub 1nm/Nylon 1nmをリリースし、POU、カプセルフィルターからカートリッジフィルターの各形状・サイズでの量産を開始。先端プロセス向け精密ろ過のフィルターラインナップも揃えてきました。 新たにリリースするPhotoamiフィルターは、最先端向けの1nm, 2nmをはじめ、粗ろ過や高粘度薬液ろ過のニーズにも応えるべく0.1umの孔径もラインナップに加えています。 高除去率・高流量・極めて高い清浄度を特徴としているため、多くのフォトケミカル材料や有機溶剤のろ過においてパフォーマンスの向上が期待できます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
目詰まりを起こし、透過流量が低下した分離膜に化学的洗浄を行い、ろ過性能を回復！分離膜の種類・メーカーを問わず洗浄可能です！
膜は長く使用し続けると、徐々に目詰まりを起こし、 透過流量が低下して しまいます。目詰まりした各種分離膜(RO膜 UF膜 NF膜 MF膜)を薬品で 化学的洗浄を行い、分離膜のろ過性能を回復させることができます。 膜の種類に区別なく洗浄が可能で、中空糸膜のリーク箇所の補修も可能。 洗浄前後の透過流量・脱塩性能等を確認･ご報告いたします。 【こんなお悩みにオススメです】 ■分離膜の洗浄を試してみたい。 ■現行の外注先のコストが高い為、価格を見直したい。 ■リーク箇所の補修をしたい。 ■分離膜がすぐに目詰まりしてしまう。 ■新品分離膜のブロー洗浄にコストが掛かっている。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高温使用における耐熱性に優れ、薬品での殺菌が不可能な分野における膜エレメントの殺菌を実現！
耐熱膜『HWSシリーズ』にはRO, NF膜エレメントをラインアップし、 熱水洗浄による殺菌を行うことができる膜です。 高温使用における耐熱性に優れ、薬品での殺菌が不可能な分野における 膜エレメントの殺菌を可能にしました。 殺菌温度は低圧殺菌処理の場合、90℃まで可能です。 耐熱仕様『HSROシリーズ』はサニタリー構造に加え、 熱水による殺菌が可能なRO膜です。 フルフィット構造のため水の滞留が最小限で、 衛生的な設計が必要な環境に最適です。 すべての構成部材はFDA基準に準拠しております。 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
迷光、散乱光を紫外、可視、赤外にわたって99％以上除去、吸収いたします（波長依存あり）。
アクター社は紫外、可視、赤外光波長帯で99％以上の光吸収を実現する真空成膜技術を開発いたしました。本技術により、実質的にどんな基板材料にも光吸収膜の成膜が可能となり、プロジェクター、顕微鏡、分光装置、レーザー加工機、赤外線検知素子など様々な光学製品の迷光（散乱光）を除去できます。 また、表面構造をナノスケールで制御することで、太陽熱吸収に最適化されたスペクトル特性と耐熱性を併せ持つ理想的な太陽熱選択吸収材の開発にも成功しました。また輻射熱の吸収にも大変優れており、画期的な輻射熱吸収膜として、様々な熱環境下で利用されております。環境に優しい技術で、光、電気、宇宙、エネルギ—など幅広い分野の企業で使用されています。
迷光、散乱光を紫外、可視、赤外にわたって99％以上除去、吸収いたします（波長依存あり）。
アクター社は紫外、可視、赤外光波長帯で99％以上の光吸収を実現する真空成膜技術を開発いたしました。本技術により、実質的にどんな基板材料にも光吸収膜の成膜が可能となり、プロジェクター、顕微鏡、分光装置、レーザー加工機、赤外線検知素子など様々な光学製品の迷光（散乱光）を除去できます。 また、表面構造をナノスケールで制御することで、太陽熱吸収に最適化されたスペクトル特性と耐熱性を併せ持つ理想的な太陽熱選択吸収材の開発にも成功しました。また輻射熱の吸収にも大変優れており、画期的な輻射熱吸収膜として、様々な熱環境下で利用されております。環境に優しい技術で、光、電気、宇宙、エネルギ―など幅広い分野の企業で使用されています。
Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮できます。透過率特性も優れています。
半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似ウェハを処理して堆積物をコーティングすることによってチャンバ内表面状態を安定させる手法（エージング）が適用されていました。Y5O4 F7膜はY2O3膜に比べてプラズマ処理前後の表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮し、装置稼働時間を上げることに寄与します。
【技術資料を無料進呈】接着・導通・絶縁の3つの機能！ACF実装のメリットなどをご紹介
異方性導電膜（ACF）は、ICなどの電子部品を基板に実装し、回路を 形成するために用いられるフィルム素材です。デクセリアルズの前身である ソニーケミカルが1977年に製品化し、現在ではスマートフォンやタブレットPC、 高精細テレビなどのフラットパネルディスプレイを用いたデジタル機器のほぼ 全てに回路接合のための材料として使われています。 ディスプレイの画面に映像を表示するためには、ICチップとディスプレイの ガラス基板を電気的に接続し、多数の電子回路を形成する必要があります。 その接続に使われるのが、ACFです。 現在ACFは、「COG実装」と呼ばれるガラス基板にICチップを接続する実装工法と 「FOG実装」と呼ばれるガラス基板にフレキシブルプリント回路を接続する際に よく用いられています。 その他にも、CCD（固体撮像素子）やCMOS（相補性金属酸化膜半導体）などの カメラモジュール、非接触ICカードの回路接続部などでACFが活用されています。 ※記事の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
矢野経済研究所の高機能分離膜市場に関するマーケットレポートです。
水素エネルギーにおいては、ロシアによるウクライナ侵略を契機にその利活用が一気に現実味を帯び、世界各国で水素戦略の策定と関連する法整備が進むとともに、研究開発への官民投資が拡大している。水素分離膜はグリーン水素の普及、CO2削減、エネルギー自立に寄与する技術として政策支援や国際協力の対象になっている。 本企画ではCO2分離膜および水素分離膜を調査対象とし、各分離膜の材料別・用途別の市場動向、研究開発トレンド、参入企業の事業戦略を分析する。 ■ポイント ●世界のCCS/CCU関連政策、水素関連政策のポイントを解説 ●CO2分離膜の用途別世界市場を推計（2024年～2032年予測：金額） ※用途：バイオガス精製用、天然ガス精製用、排ガス処理用 ●CO2分離膜の材料別の研究開発動向を分析 ●水素分離膜の用途別世界市場規模を推計（2024年～2032年予測：金額） ※用途：石油・化学分野、半導体分野 ●水素分離膜の材料別の研究開発動向を分析 発刊日：2025/08/29 体裁：A4 / 137頁 価格（税込）：220,000円（本体価格：200,000円）
世界の防水市場が波乱を起こし、新たな高みに到達する
世界の防水市場は成長の潮流に乗り、2022年には628億7000万米ドルの大幅な収益を記録する。前例のない拡大を目指すこの市場は、2031年までに983億米ドルという注目すべき評価額を達成すると専門家は予測している。この予測される進展は、2023年から2031年までの予測期間中に5.1％の安定した複合年間成長率（CAGR）を意味する。 防水ソリューションは、建設やインフラから自動車やエレクトロニクスに至るまで、あらゆる産業で極めて重要な力となっている。これらのソリューションは耐久性の基盤であり、自然の容赦ない力から構造物や製品を守り、それによって寿命を延ばし、性能を向上させる。 応募方法は[PDFダウンロード]ボタンからご確認いただくか、関連リンクから直接ご応募ください。
