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小型・軽量化に成功しポータブル性が向上！IoT対応型のガス分析装置です。
『DIK-GT5000』は、同時に最大50成分のガスを分析することができる分析装置です。 旧機種よりもさらに小型軽量の約9.4Kgで、防滴・耐振動性を備え、屋外での 使用も十分にこなします。 測定はわずか2分の高速応答で、校正は1日1回のゼロ校正のみの簡単測定。 年に1度の感度校正をおすすめしており、日常の感度校正は不要です。 【特長】 ■防滴IP54規格 ■低ランニングコスト ■ネットワーク接続可能により、現場に行かず測定が可能 ■タブレットPCに対応した新ソフトで直感的な操作が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
答えはこちら！極微小リーク検査のソリューションと事例をご紹介！
『WATMASS－MPH DAシステム』は、当社の超低ガス放出残留ガス分析計 「WATMASS」の技術と、超低ガス放出真空構造材（0.2% BeCu合金）の 技術を組み合わせた新しい発想のガス分析装置です。 弊社の超微量ガス分析装置『WATMASS－MPH システム』では破壊及び、 リーク量（10＾-15Pa・m3/s 以下）の計測が可能です。 MEMSやライフサイエンスデバイス、あるいは半導体などの封止デバイスに！ ★デバイス評価・材料評価など各種受託ガス分析も承ります★ 【特長】 ■超高感度 0.2%BeCu合金製ガス分析装置 ■産総研殿の測定精度評価を取得 ■破壊及び、リーク量（10＾-15Pa・m3/s 以下）の計測が可能 ■各種受託ガス分析も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
![CVDプロセスガス分析装置 MPQMS]](https://image.mono.ipros.com/public/product/image/abc/2000040392/IPROS6261072901052328000.jpg?w=280&h=280)
CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです。
当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで 使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。
ヘッドスペースガス分析器
Headspace analyzer, headspace, headspace, analyzer Headspace analyzer sealed packaging bags, bottles, cans and oxygen in, carbon dioxide gas content in the headspace of the mixing proportion applied to the analysis.
薄膜の表面吸着ガス、膜中からの脱離ガスを評価可能
Si基板上SiN膜に関するTDS分析結果を示します。 100℃近傍までの低温域では脱ガスが少なく、試料の表面に吸着成分が少なかったことが分かります。 一方、試料の温度が上昇するに従い、m/z 2（H2）、m/z 18（H2O）、m/z 27（C2H3：有機物のフラグメント成分）が脱離しているのが分かります。高真空下（1E-7Pa）で分析を行うTDSは膜表面の吸着ガス成分や膜中の微量ガス成分の評価に有効です。
赤外線が透過する透明な試料でも昇温脱離ガス分析が可能
昇温脱離ガス分析法（TDS）は、試料に赤外線を照射して試料を直接昇温し、発生したガスを温度毎にモニターする質量分析法です。 ガラス基板のような赤外線を吸収できない試料を分析する場合は、試料ステージを透明から黒色のものに変更することで分析が可能となります。黒色ステージが赤外線を吸収して温度が上がり、熱伝導により試料の温度が上がることでガスを発生させます。
真空環境下における有機物の脱ガス成分を評価可能
TDSは真空環境下で試料を昇温し、脱離したガスをモニターする手法です。有機物の測定を行う場合、多量の脱ガスによる装置汚染で測定が困難となる場合がありますが、あらかじめ試料量や分析条件を調整し脱ガス量をコントロールすることにより、分析が可能となります。 以下に有機フィルムについて、TDS分析を行った結果を示します。低温度域で表面吸着水が脱離し、温度の上昇と共に脱ガス強度が上昇する現象を捉えることができました。
TDS：昇温脱離ガス分析法
TDSは高真空中（1E-7 Pa）で試料を昇温させ、脱離したガスを検出する手法です。高真空中で試料を等速昇温するため微量な脱ガス（単原子層レベル）についても温度依存性を確認することができます。また一部の成分については脱離したガスの分子数も算出可能です。 代表的な材料別にTDSを適用した例をご紹介します。
製品に悪影響を及ぼすガスを確認できます
エッチングガス等の腐食性ガスは、半導体や電子部品、装置等の劣化に大きな影響を与えます。 以下に、TDS(昇温脱離ガス分析法)を用いて腐食性ガスを捉えた事例を示します。腐食性ガスであるHClが、試料の昇温に伴って脱離することが確認されました。 TDSは昇温しながらm/z 2～199の脱ガスを捉えられることから、腐食性ガスの種類や量、脱離の温度依存性を調査するのに有効です。
TDS（昇温脱離ガス分析法）で金属中水素の脱離量の評価が可能です
鋼材など多くの金属材料は、常温で結晶格子内を拡散する拡散性水素により劣化（水素脆化）することが知られています。今回は水素を添加したステンレス板（SUS316L）について、TDSで水素の脱離量を評価した例を示します。150℃付近の低温域で拡散性水素と考えられる脱ガスピークが確認されました。
炭素材料中の官能基や不純物などに起因する脱ガスについて評価可能です
グラフェンの電子放出素子への応用や、カーボンナノチューブへの水素貯蔵など、炭素材料は真空中での用途が増えてきています。そのため真空中での炭素材料からの脱ガスを評価することは、今後の炭素材料の応用の上で重要なポイントとなります。 本事例では真空中において試料からの脱ガスが評価できるTDS（昇温脱離ガス分析法）でグラフェンからの脱ガス分析を実施した事例を紹介します。
部材同士を接触させ、実プロセスに近い環境での脱ガス評価が可能
はんだを用いた金属の接合は、エレクトロニクス分野において欠かすことのできない工程のひとつです。 金属とはんだが接触した状態で加熱した際の脱ガスは、ボイドの原因となることが知られています。 以下に、銅板にはんだを乗せた状態でTDS分析(昇温脱離ガス分析)を行った事例を紹介します。TDSは部材の加熱に伴う脱ガスを評価可能です。TDS装置内で銅板とはんだを接触させ同時に加熱することで、実プロセスに近い環境での脱ガスを捉えることができました。
WATMASSの持つポンプ作用を巧みに利用することにより、超高感度・超微量ガス分析が可能です。
超低ガス放出Ｑ‐mass（WATMASS）の技術と超低ガス放出真空構造材の技術を組み合わせた完全封止法による新しい発想のガス分析法です。
長年の経験と先進の技術から生まれた分析機器を幅広くラインアップ！
当カタログは、富士電機社製のガス分析機器シリーズを掲載しています。 環境監視に必要な最大7成分のガス濃度を測定する「赤外線ガス分析装置」 をはじめ、「ジルコニア式酸素計」「ガスサンプリング機器」などを ラインアップ。 お使いの設備、設置条件に応じて好適な分析機器をお選びいただけます。 【掲載製品】 ■赤外線ガス分析装置 ■赤外線ガス分析計 ■熱処理炉用赤外線ガス分析計 ■コンパクトタイプ赤外線ガス分析計 ■レーザ方式ガス分析計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
化合物低減フォトメータを用い気体中の不純物をppbレベルで測定します。
Peak Performer 1は、化合物低減フォトメータ(Reducing Compound Photometer:RCP)を用い気体中の不純物をppbレベルで測定します。 この方式の測定値は広範なレンジにわたりリニアで簡単かつ正確な測定方法です。 PP1の技術は費用効果が高く、また操作が簡単で他社同等品よりも優れています。 これに加えPeak Lab社はこの分野において経験豊富ですので、お客様のアプリケーションに合わせた仕様変更も承ります。 【標準的なアプリケーション】 ○超純バルク プロセスガス(N2/Ar/O2/He)中のH2,COの濃度測定 ○環境監視ステーション等における空気中のCO濃度測定 ○堆積物研究や地下水のH2濃度測定 ○空気中のエチレンC2H4濃度測定 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
