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ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜をスパッタで作成可能。最新型成膜装置
ＵＶ－ＬＥＤの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのＡｌＮテンプレートをスパッタで作成。１００arc／ｓｅｃ以下のＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜を低温（７００℃以下）でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でＵＶ－ＬＥＤの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。
20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド・ニッチプロセスへ個別対応のプロセス＆ハードウェア
標準仕様では対応の困難な各種用途・基板に積極対応。 Ｒ＆Ｄ・ディスクリート・化合物・ＭＥＭＳ・パッケージ・実装工程・マスク・小型ＦＰＤ 多くの基板に専用機構を用意。 基板のトレイ搬送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード（ワイドエロージョン・強磁性体・酸化物・リアクティブ用）に加え特殊基板機構（高温加熱・磁場印加・冷却等）で幅広い用途に対応。社内デモ機によるプロセステストを基に専用装置を個別設計。
化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのアニール装置。高温処理型で急冷機構装備。透明電極膜にも対応
Ｓｉプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。
緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤで形成。新型イオンプレーティング法で厚膜（７μｍ）形成
新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったＰＶＤ法による」ＳｉＣ成膜を実現。 ４００℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたＳｉＣ膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くＣＶＤに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置
小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセスにもウェハプロセス（合金化や電極アニール）にも対応。
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱
高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティングに対応。全自動量産型装置ラインナップ。
独自開発の高密度プラズマスパッタ ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性ＡｌＮを５００℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み出す新薄膜形成装置
神港精機の真空半田付装置に新型登場 優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制御性で金属焼結接合を高品質化 次世代型高信頼性燒結接合装置
パワーデバイスモジュールの生産を支える神港精機の真空半田付装置がアップグレード。昇降温特性と均熱性能を向上させ処理寸法も拡大。従来通りの雰囲気制御性能と処理温度の高温化によって金属ペーストの焼結接合に対応。 低酸素濃度の実現と１００％水素雰囲気による還元力によっての濡ペーストの酸化防止し濡れ性を大きく向上。 オプションの加熱加圧機構の追加でボイドレス接合も実現。 新世代接合材料もバーする神港精機の新型真空半田付装置
最新プラズマ技術で桜島溶岩をコーティング。天然由来の機能性表面処理。あらゆる機材に諸植生・親水性など新たな機能を実現。
マグネトロンスパッタリングにて桜島溶岩をコーティング。天然由来の溶岩を先端表面処理に応用。溶岩の特性をいかした熱的・化学的に安定な薄膜を形成。 各種素材（金属・ガラス・繊維）上に装飾膜（透明・干渉色）親水膜を実現。天然素材のため人体にアレルギーがなく、素材の変質・変色を防止。 食器の表面処理に実用化されており、市場の拡大が期待されています。 また赤外線の及光率にすぐれており繊維のコーティングへの開発も期待されてています。 天然素材を応用した省エネ性能と耐環境性に優れた溶岩被膜を3次元立体形状に均一にコーティング。新時代の表面処理装置。
遠赤外線と熱風のジェット噴射を併用し、ワークを短時間で加熱処理可能です
用途例は印刷の硬化や水分乾燥など、特に板状及びシート状のワークに最適です。
雰囲気温度を一定に管理しながら、遠赤効果も利用できる高効率の装置です。
放射率90％以上の遠赤外線ヒーターと熱風用ファンヒーターを組み合わせました。
ウィケット導入でライン完全の自動化を目指します
プリント基板やシート状印刷物等を、専用治具に立てて搬送し乾燥することができます 印刷機からストッカーまで、ラインの完全自動化が可能となります
真空グローブボックスVG-800型
透明アクリル製で視認性抜群なグローブボックスです。 内部の減圧によって、効率よくガス置換できます。 パスボックス付で作業中の器具試料の出し入れに便利です。
水分・酸素を嫌い、空気中では扱えない材料を真空中で取扱いたい方必見
グローブックス本体部分を真空引き後、ガス置換する事が出来る為短時間で高純度なガス雰囲気を創り出す事が出来ます。 当然、パスボックスも真空ガス置換することが可能です。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 サイズも卓上に置いて使えるコンパクトな仕上がりになっておりますので、大学の研究室などに最適です。 オプションのガス循環精製装置と接続する事により、酸素、水分濃度ともに、１ｐｐｍ以下の環境でお使い頂く事が出来ます。
余裕のある空間内で新規材料開拓を！
グローブックス本体部分を真空引き後、ガス置換する事が出来る為短時間で高純度なガス雰囲気を創り出す事が出来ます。 パスボックスも真空ガス置換することが可能な為、内部雰囲気を保ったまま物の出し入れが可能です。 また、スライドテーブルが装備されていますので物の出し入れが簡単に行えます。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 無駄なく広いスペースがありますので、内部での機器導入が簡単です。 オプションのガス循環精製装置と接続する事により、酸素、水分濃度ともに、１ｐｐｍ以下の環境でお使い頂く事が出来ます。
正面部分が全面窓ガラスで広々と使えます
パスボックスを真空ガス置換することが可能な為、内部雰囲気を保ったまま物の出し入れが可能です。 また、スライドテーブルが装備されていますので物の出し入れが簡単に行えます。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 無駄なく広いスペースがありますので、内部への機器導入等が簡単です。 ガス循環精製装置と接続する事により、酸素、水分濃度ともに、１ｐｐｍ以下の環境でお使い頂く事が出来ます。
