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正面部分が全面窓ガラスで広々と使えます
パスボックスを真空ガス置換することが可能な為、内部雰囲気を保ったまま物の出し入れが可能です。 また、スライドテーブルが装備されていますので物の出し入れが簡単に行えます。 内部にコンセントが標準で装備されておりますので、天秤などの機器を簡単に導入できます。 無駄なく広いスペースがありますので、内部への機器導入等が簡単です。 ガス循環精製装置と接続する事により、酸素、水分濃度ともに、１ｐｐｍ以下の環境でお使い頂く事が出来ます。
手動及び自動シャッターは、純度の高いタンタルで製作！
EF40C1はMBE装置に適応した蒸発セルとして開発されました。 モリブデンフリーの材質によって製作されているため、250～1500℃の範囲で蒸発する低融点及び中融点材料に対して使用できます。 詳しくは、カタログをダウンロードしてご覧下さい。
リチウム電池・リチウムイオン電池・OLED・有機EL・PLED・薄膜・蒸着・次世代照明・封止・パッキング
特 徴 ■システムは、アメリカで製造しています ■操作用インターフェースで操作は簡単 ■機器のアクセサリーは豊富で、各種サイズのシステムを供給 ■酸素・水分ともに1ppm以下の不活性ガス雰囲気を維持します ■精製カラムの再生を自動で行ないます ■用途に応じた特殊デザイン ■１９８１年より、グローブボックスの供給を行なってきた実績 ■高品質のガス・真空部品 ■溶媒精製装置を搭載できます ■ガス精製装置を搭載したモバイルスタンドもあります
リチウム電池・リチウムイオン電池・OLED・有機EL・PLED・薄膜・蒸着・次世代照明・封止・パッキング
特 徴 ■システムは、アメリカで製造しています ■操作用インターフェースで操作は簡単 ■機器のアクセサリーは豊富で、各種サイズのシステムを供給 ■酸素・水分ともに1ppm以下の不活性ガス雰囲気を維持します ■精製カラムの再生を自動で行ないます ■用途に応じた特殊デザイン ■１９８１年より、グローブボックスの供給を行なってきた実績 ■高品質のガス・真空部品 ■溶媒精製装置を搭載できます ■ガス精製装置を搭載したモバイルスタンドもあります
リチウム電池・リチウムイオン電池・OLED・有機EL・PLED・薄膜・蒸着・次世代照明・封止・パッキング
特 徴 ■システムは、アメリカで製造しています ■操作用インターフェースで操作は簡単 ■機器のアクセサリーは豊富で、各種サイズのシステムを供給 ■酸素・水分ともに1ppm以下の不活性ガス雰囲気を維持します ■精製カラムの再生を自動で行ないます ■用途に応じた特殊デザイン ■１９８１年より、グローブボックスの供給を行なってきた実績 ■高品質のガス・真空部品 ■溶媒精製装置を搭載できます ■ガス精製装置を搭載したモバイルスタンドもあります
リチウム電池・リチウムイオン電池・OLED・有機EL・PLED・薄膜・蒸着・次世代照明・封止・パッキング
特 徴 ■システムは、アメリカで製造しています ■操作用インターフェースで操作は簡単 ■機器のアクセサリーは豊富で、各種サイズのシステムを供給 ■酸素・水分ともに1ppm以下の不活性ガス雰囲気を維持します ■精製カラムの再生を自動で行ないます ■用途に応じた特殊デザイン ■１９８１年より、グローブボックスの供給を行なってきた実績 ■高品質のガス・真空部品 ■溶媒精製装置を搭載できます ■ガス精製装置を搭載したモバイルスタンドもあります
特に動・静摩擦係数測定器が大好評
動摩擦係数： NEMA、及び IEC規格準拠。 高精度ロードセル。 高精度リニアベアリング。 LCDディスプレー。 RS-232出力付。 ワイヤー直線機・ガイドシステム付き。 テストワイヤーサイズ：０．０５－２．０ｍｍ 静摩擦係数： IEC規格準拠。 モーター可動傾斜付きプラットフォーム。 傾斜プラットフォーム及びスライディングブロックワイヤー張力機構。 テストワイヤーサイズ ０．０５－２．０ｍｍ タンジェント角度 ０－３０度。
【換装なしでESIとMALDIが使用可能】従来の分析に加えイメージング質量分析を可能とする画期的なイオンソース
Spectroglyph社製MALDI/ESIインジェクターはサーモフィッシャーサイエンティフィック社製質量分析計に取り付けることにより、従来の分析に加え、イメージング質量分析を行うことのできる画期的なイオンソースです。 【特長】 ◆換装なしでESIとMALDIが使用可能 MALDIソースと直交するようにESIのイオンソースが接続されており、装置内のパラメーターの変更のみでESI/MALDIの変更が可能です。 ◆ユニークな内部構造 1.トランスレーションステージ 2.スライドガラスマウント 3.High pressure イオンファンネル 4.インレットキャピラリーハウジング 5.スライドバルブ 6.イオンファンネルトラップ 7.ビームエキスパンダー 8.CCDカメラ Injector内にデュアルイオンファンネルが内蔵されており、このことにより中性物質がMS内部に取り込まれることを防ぎ、結果サンプルのS/N比が向上します。またチャンバー内を減圧することにより（6-7torr）、サンプルのイオン化効率も上昇します。
高精度の塩化リチウム式の隔測用露点温度発信器
直接露点温度の測定ができるため気象観測や工事用としてプロセス制御などにも利用されています。
高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッタリング装置です。
特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能 ■用途 ・有機EL, 太陽電池, 光学部品, バイオ, 半導体・電子部品, 自動車・樹脂, 特殊膜, MEMS ■代表的な成膜材料 ・誘電体膜ほか SiN, SiO2, ZrO, TiO2, 重合膜 ・透明導電膜 ITO, ZnO ・金属膜ほか Au, Ag, Cu, Si, Ti, Sn, Cr, Al, Ni, DLC, 電磁波シールド
ALD装置。小型・低価格で、原子レベルの堆積制御で精確な厚さ実現！
ハイテックシステムズは、ALD（Atomic Layer Deposition）装置の世界的リーディングカンパニー、Veeco/CNT社の販売代理店です。 Veeco/CNT社は米国Veeco社のALD（Atomic Layer Deposition）事業部門で 先端のALD（原子層堆積）技術開発を行い、世界の研究機関、大学、企業にて最も使われている開発用、量産試作用、ALD装置のメーカーです。量産用ALD装置、大面積基板ALD装置についても市場にて実績があり、ご要望に対応しております。
高選択性エッチング！ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化
『SI 500』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICP-RIEです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の 高いプラズマ密度により高エッチレートを実現。 また、バイアスパワーによるイオンエネルギーの制御で 低ダメージエッチングとなっております。 【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■バイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ■ICPソースと基板電極間の間隔調整によるラジカル供給の最適化 ■低ダメージエッチング ■高選択性エッチング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
民間の研究所から国営研究施設まで、幅広く対応！半導体・液晶・プラズマディスプレイ・光ディスクなどの薄膜製造工程に活用できます。
70台以上の販売実績を誇る多目的ＰＬＤ装置です。豊富な実績に基づいた設計により安定した動作が可能で、他のスパッタ源や蒸着源を組み合わせることも可能です。
マグネット方式で操作は簡単・半永久的！フルオープンタイプなので視界は広範囲
当製品は、真空容器内の蒸着物等に対するビューイングポート用の 保護シャッターです。 バタフライ方式のフルオープンタイプなので、視界は広範囲。 RHEED・光・ビーム等のカットにも応用できます。 各部品には電解研磨処理を施し、超高真空領域までの使用が可能です。 【特長】 ■シャッター駆動部にKMMR-34Sが取り付けられている ■サイズは、ICF-70・114・152・203と豊富 ■各種ビューイングポートに対応可能 ■ストッパーにより、任意のオープン角度の設定が可能 ■許容リーク量は≦1.33×10-11Pa・m3/sec ■許容加熱温度は≦200℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
