スパッタリングターゲットのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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スパッタリングターゲット - 企業8社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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企業ランキング

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  1. 蝶理株式会社 大阪府/化学 無機ファイン部
  2. KINGTECH 台湾/機械要素・部品
  3. 株式会社ウエキコーポレーション 東京都/化学
  4. 4 プランゼージャパン株式会社 東京都/鉄/非鉄金属
  5. 5 井嶋金銀工業株式会社 東京都/製造・加工受託

製品ランキング

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  1. スパッタリング ターゲット KINGTECH
  2. 韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ) 蝶理株式会社 無機ファイン部
  3. 韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO) 蝶理株式会社 無機ファイン部
  4. 4 高純度スパッタリングターゲット PRAXAIR製 株式会社ウエキコーポレーション
  5. 5 スパッタリングターゲット 株式会社ソルテック

製品一覧

1~9 件を表示 / 全 9 件

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スパッタリング ターゲット

スパッタリング装置に使用される各種ターゲットを提供いたします。 円筒形、長方形等あらゆる形状を対応します。

高品質のターゲットを提供いたします Cr ターゲット Ti ターゲット Si ターゲット Nb ターゲット NiCr ターゲット Ta ターゲット Si+Cu ターゲット

  • そのほか消耗品

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スパッタリングターゲット

各種製法による多種類のターゲット材に対応!バッキングプレートも製造可能です

スパッタリング法はイオン化した分子・原子を加速して材料に衝突させ、 飛ばされた材料を基板上に薄膜として堆積させる方法で、その材料は ターゲットと呼ばれます。 ターゲ ットの形状は装置によって決まり、矩形状・円筒状などがあります。 一般には材料をバッキングプレートに貼り付けたボンディング型ターゲッ トが 使われますが、特に円筒ターゲ ットについてはボンディング品のほか、 溶射型、一体型などがあります。 当社では、ターゲット材毎に好適なタイプを提供しております。 【形状(製法)】 ■円筒(ボンディング) ■円筒(一体型) ■円筒(溶射) ■平面(ボンディング) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他金属材料
  • 非鉄金属

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高純度スパッタリングターゲット PRAXAIR製

PRAXAIR社製スパッタリングターゲットの国内総代理店として日本各地に広がったネットワークでお客様の物づくりをサポート致します

高品質を目指して PRAXAIRは広範囲な研究開発、および最高品質のスパッタリングターゲットの製造を通じて、大手サプライヤーとしての評価を得ています。 AdvanTageタンタルターゲット AdvanTageタンタルターゲットは一貫した再現可能なプロセス性能を提供します。 厚さの均一性と量産品質による再現性のあるスパッタリング成膜を実現します。高い製造技術により、均一な微細構造が生成され、初期の安定性が向上し、寿命全般にわたって一貫したスパッタ性能が得られます。 各スパッタリング装置メーカーの認定品もございます。

  • その他金属材料

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タングステン・モリブデン製 スパッタリングターゲット

世界最高品質のタングステン・モリブデン スパッタリングターゲット

プランゼー独自のパウダーメタラジー(粉末冶金法)により、タングステン・モリブデンの純度、結晶構造、密度、ターゲットの形状を最適化し、冷却用支材とのボンディングまで、様々な要望に対応します。開発から量産にいたるまで、幅広くサポート致します。

  • 液晶ディスプレイ
  • タッチパネル
  • 非鉄金属

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スパッタリングターゲット

自社工場にて貴金属スパッタリングターゲットを製造。小ロットから対応致します。

・製造メーカー直販により低コスト、短納期での商品提供が可能。 ・小ロットから量産品、実験開発用特殊材料などの加工に対応。 ・高純度、均一組成、高密度、低ガス品質な高品質材料を提供。 ・ISO9001により、徹底した品質管理、製品の安定供給を行います。 ・使用済み材料の再利用、回収精製、買取などのアフターフォロー。

  • 非鉄金属

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韓国製 スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO)

液晶、タッチパネル等透明導電性電極用として実績多数。 脱中国のソースとしてご検討ください。

*大手液晶パネルメーカーの採用実績多数。 *ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 *光学デバイス用。 *ITO(酸化インジウムスズ、In2O3+SnO2)系、  および、IGZO(インジウム・ガリウム・亜鉛・酸素、In-Ga-Zn)系  のターゲット材がございます。 *平板形や円筒型等お好みの形状に合わせご提供可能です。 *高純度・高密度品をご提供できます。 *蒸着中に錯乱粒子が少なく、クラック発生が少なくできます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。

  • LEDモジュール
  • 液晶ディスプレイ
  • タッチパネル

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韓国製 スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ)

太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングターゲット。99.99%以上の高純度品です。

*TCO(透明導電膜)ターゲット材 *ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材 *AZO(ZnO(酸化亜鉛)+Al2O3(酸化アルミニウム))系、  ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO(酸化亜鉛)+Ga2O3(酸化ガリウム(III))系  がございます。  AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5%以上の高密度。  GZOターゲットは99%以上の高密度 *ターゲット表面抵抗:5x10-3Ω/Square *蒸着中の錯乱粒子が少なく、クラック発生を抑制できます。 当社無機ファイン部HPもご覧ください。

  • 液晶ディスプレイ
  • タッチパネル
  • その他FPD関連

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レアメタル系スパッタリングターゲット

半導体や電子部品に蒸着させる高純度高品質のスパッタリングターゲットをお客様ご指定の合金材料と形状で短納期でお届けします。

主な材質は、タンタル、ジルコニウム、チタン、ニオブ系の純金属と各種の合金類です。形状は円筒形、円板系のいづれにも対応します。お客様のご指定の材質や寸法を詳しく検討し、対応の可否をご連絡いたします。

  • レアメタル

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シリコン側面スパッタリングターゲット

位置決めがかなり求められる加工です。±0.05の保障を維持します。

スパッタリング 瓦状のシリコンを何枚かつなぎ合わせて側面スパッタとして使用します。

  • スパッタリング装置

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