スパッタリングターゲット - メーカー・企業13社の製品一覧とランキング

更新日：2025年08月20日集計期間:2025年07月23日～2025年08月19日
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スパッタリングターゲットのメーカー・企業ランキング

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井嶋金銀工業株式会社東京都/製造・加工受託
蝶理株式会社大阪府/化学無機ファイン部
プランゼージャパン株式会社東京都/鉄/非鉄金属
4 USTRON株式会社東京都/化学
5 株式会社協同インターナショナル神奈川県/その他

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スパッタリングターゲットの製品ランキング

更新日：2025年08月20日集計期間:2025年07月23日～2025年08月19日
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スパッタリングターゲット井嶋金銀工業株式会社
タングステン・モリブデン製　スパッタリングターゲットプランゼージャパン株式会社
割れない！削らない！低コストな『スパッタリングターゲット』 USTRON株式会社
韓国製スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO) 蝶理株式会社無機ファイン部
4 韓国製スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ) 蝶理株式会社無機ファイン部

スパッタリングターゲットの製品一覧

1～15 件を表示／全 16 件

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割れない！削らない！低コストな『スパッタリングターゲット』

酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能！熱膨張による割れも抑えたスパッタリングターゲットです。

当社は特殊な製法により割れを低減させたSiターゲットを供給しております。現状、割れが多く発生すると言われているSiターゲットですが、弊社の特殊製法により割れを低減させることが可能です。その他の各種金属材料や酸化物、合金ターゲットなどお客様のご要望により製造・販売しております。バッキングプレートを支給して頂き、新たなターゲット材にボンディング加工も致します。関係会社の中国工場で生産をおこなうため低コストでのご提供ができ、また、日本国内の品質を基準とした生産体制を整えております。お客様のご要望により各種分析も実施可能です。【対応可能材質】金属材料：Si、Nb、Ti、Cr、Ta、Al… 酸化物　：SiO2、Ta2O5、Al2O3、ITO… 合金材料：Cu+Ag、Ni+Cr、Ti+Cl… ※製造工程の紹介資料も進呈しております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

企業：USTRON株式会社
価格：応相談

スパッタリング装置

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スパッタリング　ターゲット

スパッタリング装置に使用される各種ターゲットを提供いたします。円筒形、長方形等あらゆる形状を対応します。

高品質のターゲットを提供いたします Cr ターゲット Ti ターゲット Si ターゲット Nb ターゲット NiCr ターゲット Ta ターゲット Si+Cu　ターゲット

企業：KINGTECH
価格：応相談

そのほか消耗品

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半導体不足、材料が不足している企業様必見。『機能材料』

太陽電池・液晶（G10.5まで対応）・半導体向けや、スパッタリングターゲットはもちろん、金属部品や石英製品の修理も承ります。

当社は、ターゲット材、ヒーター、石英ガラスなどの消耗部品まで、豊富なラインアップでお客様のニーズにお応えいたします。独自設計による熱解析シミュレーション技術を応用し、冷却効率が高くより安定したスパッタリングを実現。様々な加工・溶接などのご相談からご提案、太陽電池・液晶（G10.5まで対応）・半導体向けや、スパッタリングターゲットはもちろんメッキやブラスト等の表面処理、焼鈍、使用後の防着板等の洗浄、材料の超音波検査や引張試験などのサポートも幅広くご対応いたします。まずは何なりとご相談ください。【ラインアップ】 ■FPD用バッキングプレート　■半導体用バッキングプレート ■プレーナー式ターゲット　■石英加工品　■その他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

企業：京浜ラムテック株式会社
価格：応相談

複合材料

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【MEMs デバイス向け】薄膜材料（ターゲット・蒸着材）

既存材料で満足できない少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現

WAVES 株式会社では半導体向けスパッタリングターゲット・蒸着材を幅広いニーズに対応しております。弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com ＜製品例＞ Pt系　Au系　Ti系　Cr系　Al系【特徴】・純度99.9％から99.9999％・小ロットから発注可・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可・エンハンストターゲット対応可・高品質・分析証明書とSDS付属

企業：株式会社WAVES　
価格：応相談

非鉄金属

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スパッタリングターゲット

各種製法による多種類のターゲット材に対応！バッキングプレートも製造可能です

スパッタリング法はイオン化した分子・原子を加速して材料に衝突させ、飛ばされた材料を基板上に薄膜として堆積させる方法で、その材料はターゲットと呼ばれます。ターゲットの形状は装置によって決まり、矩形状・円筒状などがあります。一般には材料をバッキングプレートに貼り付けたボンディング型ターゲットが使われますが、特に円筒ターゲットについてはボンディング品のほか、溶射型、一体型などがあります。当社では、ターゲット材毎に好適なタイプを提供しております。【形状(製法)】 ■円筒(ボンディング) ■円筒(一体型) ■円筒(溶射) ■平面(ボンディング) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

企業：株式会社ソルテック
価格：応相談

その他金属材料
非鉄金属

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スパッタリングターゲット&ボンディング加工

スパッタリングターゲット（プラナー/円筒型）の販売、およびボンディング加工に対応します。

半導体、MRAM、タッチパネル、反射防止膜、太陽電池（PV）、リチウムイオン電池、ディスプレイ等の用途向け・スパッタリングターゲットの少量試作から量産向け供給まで幅広く対応。・永年の経験と知識に基づく確実なボンディング対応およびご予算に合わせたご提案が可能。・プラナー型のみでなく、コストメリットや歩留まりに優れた円筒型ターゲットおよびボンディングに対応。・自社保有の大型UT検査装置（超音波探傷）と品質マネジメントシステムによる品質保証。・自社設備に加え、国内外のネットワークを活用し、多様なニーズに対応可能。・独自開発の高品質なボンディング材料や工法を保有。

企業：株式会社協同インターナショナル
価格：10万円 ~ 50万円

非鉄金属

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高純度スパッタリングターゲット　PRAXAIR製

PRAXAIR社製スパッタリングターゲットの国内総代理店として日本各地に広がったネットワークでお客様の物づくりをサポート致します

高品質を目指して PRAXAIRは広範囲な研究開発、および最高品質のスパッタリングターゲットの製造を通じて、大手サプライヤーとしての評価を得ています。 AdvanTageタンタルターゲット AdvanTageタンタルターゲットは一貫した再現可能なプロセス性能を提供します。厚さの均一性と量産品質による再現性のあるスパッタリング成膜を実現します。高い製造技術により、均一な微細構造が生成され、初期の安定性が向上し、寿命全般にわたって一貫したスパッタ性能が得られます。各スパッタリング装置メーカーの認定品もございます。

企業：株式会社ウエキコーポレーション
価格：応相談

その他金属材料

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タングステン・モリブデン製　スパッタリングターゲット

世界最高品質のタングステン･モリブデンスパッタリングターゲット

プランゼー独自のパウダーメタラジー(粉末冶金法)により、タングステン・モリブデンの純度、結晶構造、密度、ターゲットの形状を最適化し、冷却用支材とのボンディングまで、様々な要望に対応します。開発から量産にいたるまで、幅広くサポート致します。

企業：プランゼージャパン株式会社
価格：応相談

液晶ディスプレイ
タッチパネル
非鉄金属

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スパッタリングターゲット

自社工場にて貴金属スパッタリングターゲットを製造。小ロットから対応致します。

・製造メーカー直販により低コスト、短納期での商品提供が可能。・小ロットから量産品、実験開発用特殊材料などの加工に対応。・高純度、均一組成、高密度、低ガス品質な高品質材料を提供。・ISO9001により、徹底した品質管理、製品の安定供給を行います。・使用済み材料の再利用、回収精製、買取などのアフターフォロー。

企業：井嶋金銀工業株式会社
価格：応相談

非鉄金属

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【次世代通信デバイス向け】薄膜材料（ターゲット・蒸着材）

既存材料で満足できない　少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現

WAVES 株式会社では半導体向け　スパッタリングターゲット・蒸着材　を幅広いニーズに対応しております。弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com ＜製品例＞ AlSc　Ni系　Ti系　Al系【特徴】・純度が99.9％から99.9999％・小ロットから発注可・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可・エンハンストターゲット対応可・高品質・分析証明書とSDS付属

企業：株式会社WAVES　
価格：応相談

非鉄金属

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【Iot ５Gデバイス】向け薄膜材料（ターゲット・蒸着材）

既存材料で満足できない少量多品種のデバイスを開発をされている方に寄り添ったカスタム対応を実現

WAVES 株式会社では半導体向けスパッタリングターゲット・蒸着材を幅広いニーズに対応しております。弊社は米国の薄膜材料業界で、３０年以上の実績を誇るVEM社と日本で唯一の提携企業です。 VEM社HP：https://www.vem-co.com 【特徴】・純度99.9％から99.9999％・小ロットから発注可・特定の形状で任意のカスタムターゲットをリクエスト可・エンハンストターゲット対応可・高品質・分析証明書とSDS付属

企業：株式会社WAVES　
価格：応相談

非鉄金属

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韓国製スパッタリングターゲット(酸化物系ITO, IGZO)

液晶、タッチパネル等透明導電性電極用として実績多数。脱中国のソースとしてご検討ください。

＊大手液晶パネルメーカーの採用実績多数。＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材＊光学デバイス用。＊ITO（酸化インジウムスズ、In2O3＋SnO2）系、　および、IGZO（インジウム・ガリウム・亜鉛・酸素、In-Ga-Zn）系　のターゲット材がございます。＊平板形や円筒型等お好みの形状に合わせご提供可能です。＊高純度・高密度品をご提供できます。＊蒸着中に錯乱粒子が少なく、クラック発生が少なくできます。当社無機ファイン部HPもご覧ください。

企業：蝶理株式会社無機ファイン部
価格：応相談

LEDモジュール
液晶ディスプレイ
タッチパネル

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韓国製スパッタリングターゲット(AZO,ZnO,GZOタイプ)

太陽電池用・ディスプレイ等で採用実績多数の透明導電用スパッタリングターゲット。99.99％以上の高純度品です。

＊TCO（透明導電膜）ターゲット材＊ナノ粒子を用いた緻密なセラミックコート素材＊AZO(ZnO(酸化亜鉛)＋Al2O3(酸化アルミニウム))系、　ZnO(酸化亜鉛)系、GZO(ZnO（酸化亜鉛)＋Ga2O3(酸化ガリウム(III))系　がございます。　AZO・ZnOターゲットは理論密度99.5％以上の高密度。　GZOターゲットは99％以上の高密度＊ターゲット表面抵抗：5ｘ10－3Ω/Square ＊蒸着中の錯乱粒子が少なく、クラック発生を抑制できます。当社無機ファイン部HPもご覧ください。