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RFスパッタ装置 Product List and Ranking from 4 Manufacturers, Suppliers and Companies

RFスパッタ装置 Product List

1~7 item / All 7 items

Displayed results

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能!500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能です

『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載。 オペレートタッチ画面を採用しており、初心者でも簡単に排気系の自動操作を 行うことが可能で、誤作動防止のための安全回路を搭載しています。 【特長】 ■3インチ用カソードを3源搭載 ■電源は500Wの高周波電源を1台搭載 ■金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能 ■整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタも可能 ■成膜時の膜厚分布を良くする為に基板回転の機構も標準で搭載 ■オペレートタッチ画面を採用、初心者でも簡単に排気系の自動操作が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • スパッタリング装置

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研究・開発実験用 RFスパッタ装置

実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT <実験目的にあわせたカスタマイズ!!> 1.試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2.カソードサイズは2〜6インチに対応 3.2インチカソードタイプは3源式にも対応 = 薄膜の積層を実現 4.多彩なオプションをご用意   基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.

  • コーター

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研究・開発実験用 RFスパッタ装置

実験目的に合わせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

金属薄膜はもちろん、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置 【特徴】 ○試料サイズに合わせた3種類のチャンバーをご用意 〇カソードサイズは2、4、6インチに対応 〇2インチカソードタイプは3源式にも対応 ⇒ 積層薄膜作製を実現 〇多彩なオプションをご用意   基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.

  • SVC-700RF?.jpg
  • スパッタリング装置

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グローブボックス付 多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境!多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応します!

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 【特長】 ■電池、触媒材料や有機デバイス開発用 ■スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結 ■UHV対応スパッタカソードを4本装着可能 ■酸素や水分を排除したい研究製膜環境 ■多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • スパッタリング装置

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平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!

『MSS600-3』は、矩形カソード W100xH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や 様々な異種積層成膜が可能です。 【特長】 ■自動スパッタ機能により、長時間のスパッタリング作業も省力で可能 ■GenCore社製矩形カソードを使用。ターゲット付近から均一なスパッタ  ガス導入が可能 ■スパッタコンタミの拡散を防ぐためプロセス室3室を回転シャッターで  仕切っている ■基板を定速で移動させながらのスパッタが可能 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 真空機器
  • スパッタリング装置

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デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜の作製も可能

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイズ ■試料サイズ:最大φ2インチ ■膜厚センサー追加可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

  • スパッタリング装置

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4インチ3源RFスパッタ装置

基板寸法は最大3インチで3枚収納可能!加熱機構・逆スパッタ機構を備えています!

当製品は、金属・絶縁材料を対象とした3源RFマグネトロンスパッタ装置です。 基板は、加熱機構・逆スパッタ機構を備えています。 スパッタカソードはφ4インチマグネトロンカソード(3基)で、 基板挿入は上蓋手動開閉仕様となっております。 【特長】 ■基板寸法:最大3インチ(3枚収納可) ■基板ホルダー:基板加熱500℃、基板回転、逆スパッタ機構付き ■スパッタカソード:φ4インチマグネトロンカソード(3基) ■ガス系:Ar,O2 MFC2系統 ■基板挿入:上蓋手動開閉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • スパッタリング装置

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