平行光露光装置
平行光露光装置のラインナップのご案内です。
均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
- 企業:ウシオライティング株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年09月24日~2025年10月21日
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平行光露光装置のラインナップのご案内です。
均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
照射試験から装置導入まで! 電子線照射サービスと幅広い製品ラインナップで電子線に関するあらゆるニーズにお応えします。
電子線照射(Electron Beam Irradiation)は、物質に電子線を照射することによって、物質の特性を向上させたり、新しい機能を与えたりする技術です。 電線被覆の耐熱性向上、発泡シートの品質向上、タイヤの軽量化と品質向上や衣類への吸湿発熱性付与、医療器具の殺菌・滅菌処理など身の回りの様々な製品に電子線は利用されています。 また高機能食品包装の製造や半導体の特性改善などにも利用されており食品消費期限の延長や省エネなどを通してSDGSの実現にも貢献しています。 NHVコーポレーションは60年以上にわたり電子線照射装置の開発・販売をしており、低エネルギーから高エネルギー領域まで、お客様の幅広いご要望に対応できる唯一の電子線照射装置のメーカーとして、全世界30か国以上へ電子線照射装置を納入しています。 また弊社では全国3拠点(京都・前橋・鳥栖)の6台の装置にて電子線照射サービスを承っております。研究開発から実験照射、受託加工まで、ご検討の素材に対して、電子線で得られる様々な効果を弊社の知見を基にご提案いたします。
ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用(生産性を落さずランニングコスト削減が可能!)
■ 8インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ&リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備
解像力とアライメント精度を高め、量産プロセスに対応可能。UV-LED光源を採用し、ランニングコストを低減します
『CMS(Cerma Micro Stepper)-Ck』は、650×550mmの フルサイズ基板に対応した、微細パターン露光が可能な投影露光装置です。 標準光源として、UV-LED光源を採用。 解像力(L/S)が2μmのインターポーザーをはじめ、 高精細・高精度・高生産性を要求される用途に適しています。 【特長】 ■L/S=1.4/1.4μmからの量産プロセスに対応 ■ダイバイダイアライメント&グローバルアライメント方式 ■チップファースト工程にも対応可能 ■ショット毎チルト機構搭載により歩留まり向上 ※詳しくは資料をご覧ください。また、当社では製品を実際に評価いただける クリーンルームも完備。デモをご希望の方はお気軽にご連絡ください。 (ラミネート・塗布、現像の周辺プロセスを含めて対応可能です)
AL-Xは主に高周波・パワー半導体用材料として、極めて優れた低誘電特性を持った感光性樹脂で、200℃以下の低温硬化可能です。
ポリイミド、エポキシ樹脂より低誘電特性に優れた樹脂です。 【特長】 ●電気的特性 低誘電率・低誘電損失の材料です。 ●機械的特性 高い伸度と低いヤング率を有しております。 ●感光特性 溶媒現像ネガ型の材料で高い解像度を有しております。 ●低温硬化 200℃以下の低温でも硬化可能です。 ●吸水率 他の低誘電性樹脂よりも低い吸水率を有しております。
両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。
最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光装置
ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大8インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。
コンパクト微細露光スタンダード機。4/6/8インチ標準マスクアライナー
高性能マスクアライナー LAシリーズは、4/6/8インチ標準マスクアライナーでコンパクトな微細露光のスタンダード機です。半導体素子デバイス等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができる露光装置です。専用にデザインされた双対物2視野CCD顕微鏡を搭載し、対物レンズ間隔最小18mmで小型試料のアライメントまで可能です。ワイプ装置による2視野一括モニター表示可能で、Z軸はエアー圧駆動+ギャップ微調整レバー方式です。ハードコンタクトソフトコンタクト・プロキシミティー露光に対応。平行機構は信頼性の高い球面軸受を採用したコンパクトで高い汎用性です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
セミカスタムで最適なシステム構成にできます
汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。
スタンダード品からカスタマイズ品までお客様のご要望にお応えします。
UV硬化技術は、印刷分野から半導体や電子・光学部品などのハイテク分野にも欠かせないプロセスとして広がっています。
弊社独自の多層膜蒸着マルチミラーランプハウス搭載機
■マルチミラーランプハウス採用により均一性の高い照度分布。 ■各種自動機構部採用により操作性が向上したセミオートでの使用も可能。 ■アライメント顕微鏡は三眼鏡筒を採用。モニターでのアライメントも可能(オプション)。
電子の力で開始剤フリーや無溶剤インキも瞬時に硬化など様々な分野で活用 【表面改質/架橋/殺菌・滅菌/樹脂の硬化/脱炭素社会】
『アイ・コンパクトEB』は電子線照射を身近に、手軽にご利用いただくために開発された商品です。 電子線照射は、材料の表面改質/殺菌・滅菌/インク・コーティングの硬化/グラフト重合/架橋など様々な分野の研究開発に利用されています。 従来の大規模な電子線照射装置は、多くのスペースを必要とし設備導入に時間とコストがかかりました。 『アイ・コンパクトEB』は研究・実験に必要十分な機能をパッケージ化する事で、短納期・低価格を実現しています。 世界が脱炭素社会(カーボンニュートラル)を目指してます。 電子線照射は、熱乾燥に比べて大幅にCo2を削減できる新たなツールとして注目を集めています。 ■ コンパクトEB以外にも生産ラインなどの大型装置の生産も対応可能です ■ コンパクトEBや大型バッチ式装置、ロールtoロールの生産ラインなどの設備を保有しているのため、 装置の販売のみならず受託生産やテスト目的の照射サービスも対応しております。 ※ ご興味を持たれた方は、お気軽にお問合せください。
紫外線の光反応で環境に貢献。薬品、染料、超純水処理等多くの分野で、クリーンな処理が可能なシステムです。
特長 ・2重管構造の水銀ランプを使用し最大50kWの電力量で光化学反応を行います。 ・多種多様なランプ・電源を利用し反応槽仕様、生産量に応じ最適な光化学反応システムをご提案致します。 ・防爆検定の取得実績により、設置環境にとらわれない安全かつ効率的な光化学反応プロセスを実現致します。
卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。照射が可能で、手ごろな価格も魅力です! ※デモ機貸出可
本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることでUV照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプの寿命は20,000時間をクリア ■液晶画面で操作が簡単 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
省スペースでOK!シンプルに収縮率を測定する装置
「EU501」は、特殊測定技術の必要なく、反応の前と後にサンプルをセット台に載せ数値を読みよるだけで、誰でも簡単に測定できる樹脂硬化収縮率測定装置です。 硬化処理はサンプルを装置から取り外した状態で行いますので、ご自由におこなっていただけます。 【特徴】 ○反応前後の硬化収縮率の変化を測定 ○誰でも簡単!3ステップ操作 ○硬化条件の設定は思いのまま ○省スペース設計 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。