平行光露光装置
平行光露光装置のラインナップのご案内です。
均一照射光源として、精密パターン露光、半導体素子デバイスのパターン露光、ウェハ露光など、さまざまな用途に使用されます。
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
UV照射装置(半導体) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり
更新日： 集計期間:2026年02月25日～2026年03月24日
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UV照射装置の製品一覧
1～25 件を表示 ／ 全 25 件
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【動画公開中】電子線(EB)照射のあらゆるニーズにお応えできます
照射試験から装置導入まで！ 電子線照射サービスと幅広い製品ラインナップで電子線に関するあらゆるニーズにお応えします。
電子線照射（Electron Beam Irradiation）は、物質に電子線を照射することによって、物質の特性を向上させたり、新しい機能を与えたりする技術です。 電線被覆の耐熱性向上、発泡シートの品質向上、タイヤの軽量化と品質向上や衣類への吸湿発熱性付与、医療器具の殺菌・滅菌処理など身の回りの様々な製品に電子線は利用されています。 また高機能食品包装の製造や半導体の特性改善などにも利用されており食品消費期限の延長や省エネなどを通してSDGSの実現にも貢献しています。 NHVコーポレーションは60年以上にわたり電子線照射装置の開発・販売をしており、低エネルギーから高エネルギー領域まで、お客様の幅広いご要望に対応できる唯一の電子線照射装置のメーカーとして、全世界30か国以上へ電子線照射装置を納入しています。 また弊社では全国3拠点(京都・前橋・鳥栖)の6台の装置にて電子線照射サービスを承っております。研究開発から実験照射、受託加工まで、ご検討の素材に対して、電子線で得られる様々な効果を弊社の知見を基にご提案いたします。
- 企業：株式会社NHVコーポレーション 本社・工場
- 価格：応相談
投影露光装置 『MRSシリーズ』 UV-LED光源を採用
ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用（生産性を落さずランニングコスト削減が可能！）
■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備
- 企業：株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- 価格：応相談
フルパネル量産投影露光装置『CMS-Ck』 ★デモ受付中！
解像力とアライメント精度を高め、量産プロセスに対応可能。UV-LED光源を採用し、ランニングコストを低減します
『CMS（Cerma Micro Stepper）-Ck』は、650×550mmの フルサイズ基板に対応した、微細パターン露光が可能な投影露光装置です。 標準光源として、UV-LED光源を採用。 解像力（L/S）が2μmのインターポーザーをはじめ、 高精細・高精度・高生産性を要求される用途に適しています。 【特長】 ■L/S＝1.4/1.4μmからの量産プロセスに対応 ■ダイバイダイアライメント＆グローバルアライメント方式 ■チップファースト工程にも対応可能 ■ショット毎チルト機構搭載により歩留まり向上 ※詳しくは資料をご覧ください。また、当社では製品を実際に評価いただける クリーンルームも完備。デモをご希望の方はお気軽にご連絡ください。 （ラミネート・塗布、現像の周辺プロセスを含めて対応可能です）
- 企業：株式会社サーマプレシジョン 本社、名古屋営業所
- 価格：応相談
高周波デバイス対応 低誘電フッ素系層間絶縁膜『AL-X』
AL-Xは主に高周波・パワー半導体用材料として、極めて優れた低誘電特性を持った感光性樹脂で、200℃以下の低温硬化可能です。
ポリイミド、エポキシ樹脂より低誘電特性に優れた樹脂です。 【特長】 ●電気的特性 低誘電率・低誘電損失の材料です。 ●機械的特性 高い伸度と低いヤング率を有しております。 ●感光特性 溶媒現像ネガ型の材料で高い解像度を有しております。 ●低温硬化 200℃以下の低温でも硬化可能です。 ●吸水率 他の低誘電性樹脂よりも低い吸水率を有しております。
- 企業：ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー
- 価格：応相談
SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4
最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光装置
ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大８インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。
- 企業：兼松ＰＷＳ株式会社
- 価格：応相談
両面マスクアライナー
両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。
- 企業：ウシオライティング株式会社
- 価格：応相談
マスクアライナー
セミカスタムで最適なシステム構成にできます
汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。
高性能マスクアライナー LAシリーズ
コンパクト微細露光スタンダード機。4/6/8インチ標準マスクアライナー
高性能マスクアライナー LAシリーズは、4/6/8インチ標準マスクアライナーでコンパクトな微細露光のスタンダード機です。半導体素子デバイス等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができる露光装置です。専用にデザインされた双対物2視野CCD顕微鏡を搭載し、対物レンズ間隔最小18mmで小型試料のアライメントまで可能です。ワイプ装置による2視野一括モニター表示可能で、Z軸はエアー圧駆動＋ギャップ微調整レバー方式です。ハードコンタクトソフトコンタクト・プロキシミティー露光に対応。平行機構は信頼性の高い球面軸受を採用したコンパクトで高い汎用性です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- 企業：株式会社ナノテック
- 価格：応相談
紫外線硬化ユニット
スタンダード品からカスタマイズ品までお客様のご要望にお応えします。
ＵＶ硬化技術は、印刷分野から半導体や電子・光学部品などのハイテク分野にも欠かせないプロセスとして広がっています。
- 企業：株式会社たけでん UVシステム G
- 価格：応相談
マスクアライナー
弊社独自の多層膜蒸着マルチミラーランプハウス搭載機
■マルチミラーランプハウス採用により均一性の高い照度分布。 ■各種自動機構部採用により操作性が向上したセミオートでの使用も可能。 ■アライメント顕微鏡は三眼鏡筒を採用。モニターでのアライメントも可能(オプション)。
- 企業：ミカサ株式会社 本社・大阪営業所
- 価格：1000万円 ~ 5000万円
小型電子線照射装置『アイ・コンパクトＥＢ』(低価格/省スペース)
電子の力で開始剤フリーや無溶剤インキも瞬時に硬化など様々な分野で活用 【表面改質/架橋/殺菌・滅菌/樹脂の硬化/脱炭素社会】
『アイ・コンパクトＥＢ』は電子線照射を身近に、手軽にご利用いただくために開発された商品です。 電子線照射は、材料の表面改質/殺菌・滅菌/インク・コーティングの硬化/グラフト重合/架橋など様々な分野の研究開発に利用されています。 従来の大規模な電子線照射装置は、多くのスペースを必要とし設備導入に時間とコストがかかりました。 『アイ・コンパクトＥＢ』は研究・実験に必要十分な機能をパッケージ化する事で、短納期・低価格を実現しています。 世界が脱炭素社会（カーボンニュートラル）を目指してます。 電子線照射は、熱乾燥に比べて大幅にCo２を削減できる新たなツールとして注目を集めています。 ■ コンパクトＥＢ以外にも生産ラインなどの大型装置の生産も対応可能です ■ コンパクトＥＢや大型バッチ式装置、ロールtoロールの生産ラインなどの設備を保有しているのため、 装置の販売のみならず受託生産やテスト目的の照射サービスも対応しております。 ※ ご興味を持たれた方は、お気軽にお問合せください。
- 企業：岩崎電気株式会社 光・環境事業部
- 価格：応相談
光反応用UV照射装置
紫外線の光反応で環境に貢献。薬品、染料、超純水処理等多くの分野で、クリーンな処理が可能なシステムです。
特長 ・2重管構造の水銀ランプを使用し最大50ｋWの電力量で光化学反応を行います。 ・多種多様なランプ・電源を利用し反応槽仕様、生産量に応じ最適な光化学反応システムをご提案致します。 ・防爆検定の取得実績により、設置環境にとらわれない安全かつ効率的な光化学反応プロセスを実現致します。
- 企業：株式会社ジャテック
- 価格：応相談
12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器
卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。照射が可能で、手ごろな価格も魅力です！ ※デモ機貸出可 !
本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"（=効果）をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ（※本製品は、LED照明）もご用意しております！ 【特長】 ■ランプの方向を変えることでUV照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプの寿命は20,000時間をクリア ■液晶画面で操作が簡単 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：日精株式会社 本社
- 価格：応相談
UVフィルム硬化装置｜全自動 LED光源仕様「UVC-300A」
高圧水銀灯やメタルハライド光源と比較しても十分な硬化性能（硬化状態、硬化スピード）を発揮します
テクノビジョンが独自に開発した高出力LEDドライバーを採用し、250mW/cm2（10mm work distance）の照射出力を達成。光源部は、往復スキャンしながらワークを均一に照射します。 LEDの特長である常温照射によるワークへの熱ダメージ低減、低消費電力、長寿命性、光源の交換時に安全等、数多くのメリットが受けられます。
- 企業：株式会社テクノビジョン 本社
- 価格：応相談
簡易型 樹脂硬化収縮率測定装置「EU501」
省スペースでOK！シンプルに収縮率を測定する装置
「EU501」は、特殊測定技術の必要なく、反応の前と後にサンプルをセット台に載せ数値を読みよるだけで、誰でも簡単に測定できる樹脂硬化収縮率測定装置です。 硬化処理はサンプルを装置から取り外した状態で行いますので、ご自由におこなっていただけます。 【特徴】 ○反応前後の硬化収縮率の変化を測定 ○誰でも簡単！3ステップ操作 ○硬化条件の設定は思いのまま ○省スペース設計 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社アクロエッジ
- 価格：応相談
コーティング処理装置、洗浄装置、UV照射装置
《オーダーメイドでご提案します》コーティング処理装置、各種洗浄装置の設計・製作ならJ.P.Cへ
当社は、J.P.C Japan Plastic Coatingの社名のごとく、プラスチックの ハードコーティング関連事業を主体として発足した会社です。 近年ではハードコーティングのみならず、帯電防止、反射防止といった他の 機能性コーティング、また、ナノスケールの薄膜形成分野でも業界トップ クラスの貢献を果たしております。 蓄積した技術と革新的なアイデアを活かし、お客様の多様なニーズにお応えします。 【事業内容】 ■コーティング処理装置 製造販売 ■工業用洗浄装置 製造販売 ■液晶 / 半導体関連処理装置 製造販売 ■UV照射装置、乾燥硬化装置 製造販売 ■フレキソ印刷用 レーザー精密製版装置 製造 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：J.P.C株式会社
- 価格：応相談
洗浄、硬化、水の殺菌に役立つ紫外線装置の無料貸出＆試作
テスト機の無料レンタル＆試作もOK！殺菌や洗浄、硬化に使える紫外線(UV)装置
千代田交易から、基板やウエハ等の洗浄、改質に使える「紫外線洗浄・改質装置」と、ラベル貼付や接着、封止などに便利な「紫外線硬化装置」、純水や工業用水の殺菌ができる「紫外線殺菌装置」のテスト機を無料レンタル中！いまなら試作も受付中です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：千代田交易株式会社
- 価格：応相談
【テクニカルガイド配布中】電子線で素材特性向上「電子線照射装置」
架橋・グラフト・硬化・滅菌などお客様の用途に応じて幅広いラインナップから最適な電子線照射装置を提案いたします
電子線照射装置（EPS：Electron beam Processing System）とは高速の電子線（電子ビーム）を利用して物質の特性向上・機能付加・滅菌などを行う装置です。 電線被覆の耐熱性向上、発泡シートの品質向上、タイヤの軽量化と品質向上や衣類への吸湿発熱性付与、医療器具の殺菌・滅菌処理など身の回りの様々な製品に電子線は利用されています。 また高機能食品包装の製造や半導体の特性改善などにも利用されており食品消費期限の延長や省エネなどを通してSDGSの実現にも貢献しています。 弊社は60年以上にわたり電子線照射装置の開発、販売をしており、全世界30か国以上へ納入実績を持つ電子線照射装置のトップメーカーです。 お客様の製品により必要となる電子線照射装置のエネルギーは異なりますが、当社では低エネルギーから高エネルギーの幅広いラインナップを有しており、お客様の製品に応じて最適な装置を提案いたします。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社NHVコーポレーション 本社・工場
- 価格：応相談
表面改質センサー Caisits（カイシツ）
初めてインラインでの表面改質レベル全数検査を実現したセンサー
接着面の表面状態の検査に。 Caisits（カイシツ）は、 プラズマ処理，コロナ処理，フレーム処理、めっき処理等 の表面改質レベルの判別用途の製品です。 表面改質の改質度合いを リアルタイムに 定量的に可視化。これまで不可能だったインラインでの全数検査を実現し、品質向上と製造効率向上を両立する評価装置です。
- 企業：株式会社アクロエッジ
- 価格：応相談
SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4
最大4インチ角基板対応 手動露光機
ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。
- 企業：兼松ＰＷＳ株式会社
- 価格：応相談
UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー
光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント機能搭載です。
当製品は、UV-LED光源搭載の自動一括等倍露光装置（マスクアライナー）です。 弊社の特徴として、フォトマスクとウエハを完全非接触でステージとマスクの自動平行調整が行えます。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントも正確に行います。 露光方式としてプロキシミティ、ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■i線（365nm)、H線（405nm)に対応！（g線はご相談ください） ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■超精密UVWステージ搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
- 価格：応相談
ラボ／パイロットコーター『VCML』 ※見学＆デモ受付中
機能紙、機能性フィルムやプリンテッドエレクトロニクスの研究開発に適したテストコーター
ロールtoロールパイロットコーター『VCML』は、フレキシブルな材料（フィルム、ロール紙、金属箔など） に対して印刷、コーティング、ラミネートができる多機能テストコーターです。 【特長】 ■ヘッドの交換で12種類以上の印刷/コーティング/ラミネートに対応 ■コンパクトサイズ(制御盤内蔵式) 機械寸法2.5m(L)×1m(W)×1.8m(H) ウェブ幅300mm(max) ■わずか数百ccの材料からサンプル塗工が可能で、数ｍ～数百ｍのサンプルが手軽にとれます ■カラータッチパネルの簡単操作 ■巻出し＆巻取りシャフトは片持ち式交換が手軽 ■ドライヤーオプション（熱風乾燥／IR／UV） ■機械の遠隔診断が可能なインターネットオプションあり カタログダウンロードはこちら▼ https://www.matsuo-sangyo.co.jp/catalogs/ 製品詳細はこちら▼ https://www.matsuo-sangyo.co.jp/products/vcml/
- 企業：松尾産業株式会社 東京支店
- 価格：応相談
卓上型表面処理装置
自分で照度調整ができる汎用タイプの表面処理装置
光源と試料台の間には距離があるため立体的な表面もUV処理することができる装置です。 シャッタータイプと片開扉タイプの2種類がございます。 【特徴】 シャッタータイプ：・光源～試料台までの照射距離が20～80mmまで可能 ・連続照射できるので照度が安定し易い仕様 片開扉タイプ：・光源～試料台までの照射距離が0～80mmまで可能 ・照射距離もシャッタータイプより長いのでより大きい立体物の処理も可能な仕様 照射サイズは160×160mm～350×320ｍｍまでご用意しております。 研究開発だけでなく、少量の生産用としてもご使用頂けます。 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
- 企業：セン特殊光源株式会社
- 価格：応相談
投影露光とは？
微細なパターンを半導体基板上に形成するために使用される技術。
投影露光は、半導体製造プロセスにおいて、微細なパターンを半導体基板上に 形成するために使用される技術の一つです。 半導体基板上にUV(紫外線)光を照射することで、フォトレジストと 呼ばれる光に敏感な材料にパターンを形成します。 フォトレジストは、UV光を当てると化学反応が起こり、露光した箇所が 溶解したり、硬化したりします。その後、露光された箇所をエッチングなどの プロセスで取り除き、残った部分には微細なパターンが形成されます。 【特長】 ■光に敏感な材料にパターンを形成する ■ステッパーが使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：夏目光学株式会社
- 価格：応相談
