真空対応5nmフィードバックステージ 50mm動作
真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
XYステージ(精密) - メーカー・企業と製品の一覧
更新日： 集計期間:2025年11月19日～2025年12月16日
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XYステージの製品一覧
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真空対応5nmフィードバックステージ 40mm動作
真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージ 40mm動作
【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
耐荷重30Kgのパラレルキネマティック・ヘキサポッドH-840
最大30kgの耐荷重と±0.1µm再現性を両立した高精度6軸制御
H-840は、スチュワートプラットフォーム構造を採用した高精度ヘキサポッドで、6本のアクチュエータにより並列駆動されます。 Z軸±25mm、X/Y方向±50mm、回転±30°と柔軟な動作を実現し、光学アライメントやマイクロマニピュレーションなどの高度な位置制御が可能。 最大30kgまでの荷重に対応し、±0.1µmの位置再現性と高い制御精度を兼ね備えています。
- 企業：ピーアイ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
真空対応10nmフィードバックステージシステム
真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
サブミクロンフィードバックステージ FS-3200X/XY
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』または『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-414またはFC-114との組み合わせ
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム
真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動範囲最大100mm
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。 位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。 ■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応サブミクロンフィードバックステージ 40mm動作
【真空で使える】エンコーダ内蔵の高分解能位置決めステージ
内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 真空チャンバー内でアウトガスが発生しづらい部品などを使用しているため、真空チャンバー内にステージを配置することができます。 40mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。（コントローラによって変わります）
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応サブミクロンフィードバックステージ 20mm動作
【真空で使える】サブミクロン分解能のフィードバックステージ
内蔵の光学式リニアエンコーダでステージのテーブルの位置を検出して、コントローラに位置情報をフィードバックしているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 アウトガス対策として潤滑材、線材やモーター等を真空対応品に変更しているため、真空チャンバー内で使用可能です。 20mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。（コントローラによって変わります）
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
フィードバックステージシステム総合カタログ（大気・真空）第5版
リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現！特注製作もOK
当社が設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置および 真空対応高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)の総合カタログです。 フィードバックステージ・フィードバックステージコントローラ、 ケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。 特注品・カスタム品の製作も承っております。お気軽にご相談ください。 【大気用システムの特徴】 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。 半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されています。 【真空対応システムの特徴】 創業以来、特注品の製作で得た真空対応に対するノウハウを元に 真空用途で高分解能及び高精度な再現性をご提供致します。 ※「PDFダウンロード」より総合カタログをご覧いただけます。 ご要望などお問い合わせフォームよりお気軽にご連絡ください。 また、下記リンクではカスタム品の製作例を紹介しております。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
