レジスト現像装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
イプロスは、 製造業 BtoB における情報を集めた国内最大級の技術データベースサイトです。

レジスト現像装置 - メーカー・企業と製品の一覧

レジスト現像装置の製品一覧

1~7 件を表示 / 全 7 件

表示件数

リフトオフ(イメージリバーサル)対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり!低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っているからです

当製品は、枚葉式で現像、前面露光(反転露光)、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■低価格を実現 ■自動サイズ認識 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ■生産量に合わせたラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • レジスト装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状(円形、扇等)、圧力、流量などを自由に選択できます。

1流体スプレー方式の現像装置です。 現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。 大型基板や厚膜の現像に最適です。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■1流体スプレーを搭載(パドルと併用可) ■自動ウエハサイズ認識 ■フットプリントの低減 ■生産量に合わせたラインアップ デモ設備を常設しておりますので、デモのご検討をお願いします!

  • レジスト装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在!2流体スプレーレジスト現像装置。厚膜などの現像時間を短くするのに有効です。

N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式の現像装置です。 N2の圧力を変更することで、スプレーの吐出圧力を変更することができます。 液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なくして霧状にして柔らかく吐出する方法など幅広くスプレーの吐出パターンを選べます。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■2流体スプレーを搭載!(パドル併用も可) ■自動ウエハサイズ認識機能 ■多彩な薬液に実績あり ■コンパクト設計 ■生産量に合わせたラインアップ デモ設備を常設しておりますので、デモのご検討をお願いいたします!

  • レジスト装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

半導体プリント基板水平製造装置 ソルダーレジスト現像(仕上処理)

枚葉基板からRoll to Rollによるフレキシブル基板まで対応!レジスト残渣が残りません

株式会社フジ機工の取り扱う、仕上げ処理用のソルダーレジスト現像を ご紹介します。 枚葉基板からRoll to Rollによるフレキシブル基板まで対応。 また、好適スプレー配置により、レジスト残渣が残りません。 【特長】 ■枚葉基板からRoll to Rollによるフレキシブル基板まで対応 ■好適スプレー配置 ■レジスト残渣が残らない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体製造装置
  • その他表面処理装置
  • 基板加工機

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

半自動フォトレジスト現像装置(セミオートデベロッパー)

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様向けのセミオートデベロッパーです。

当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリングユニットを搭載。 自動機を導入するほど生産量が多くないけどもマニュアル機では 工数の問題で導入できない等でお悩みのお客様におススメです! 御社のニーズに合わせた半自動機を設計・製造いたしますので 新規装置の導入でお困りのお客様はぜひご検討ください! TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■自動搬送機能 ■低価格を実現 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

  • レジスト装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

コンパクト!手動フォトレジスト現像装置(マニュアルデベロッパー)

少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式のため、DIPと違い品質を安定させることができます。

当製品は、枚葉式のマニュアル現像機です。 薬液BOXと処理カップ部分の本体が一緒になったコンパクト仕様です。 マニュアル機をお客様のニーズに合わせて設計から製造・販売しています。 研究開発目的としてだけでなく少量多品種の製品を扱うお客様にご利用いただいております。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■低価格を実現 ■コンパクト! ■パドル、1流体スプレー、2流体スプレーも選択可能 ■多彩な薬液に実績あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • レジスト装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー)

逆テーパー角度を一定に!ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに必要な露光後ベーク(PEB)対応自動レジスト現像装置です。

枚葉式で現像、全面露光(反転露光、イメージリバーサル)、ベーク、クーリング機能を搭載。 リフトオフ用レジストで逆テーパーの角度を決める重要なPEB。 当社独自プログラムで逆テーパー角度を安定させます! また、ネガレジストの露光後ベークに使用することで安定プロセスが得られます。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH、コリン水溶液、Na2CO3等多彩な薬液に実績があります。 また、薄いウエハでの実績も多数あります(ウエハ厚さ150umなど)のでご相談ください。 【特長】 ■PEBによる逆テーパー角の安定 ■自動ウエハサイズ認識機能 ■パドル、1流体スプレー、2流体スプレーの対応可 ■フットプリントの低減 ■生産量に合わせたラインアップ デモ設備も常設しておりますので、デモのご検討をお願いいたします!

  • レジスト装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録