レジスト現像装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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レジスト現像装置 - 企業1社の製品一覧

製品一覧

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リフトオフ(イメージリバーサル)対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり!低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っているからです

当製品は、枚葉式で現像、前面露光(反転露光)、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■低価格を実現 ■自動サイズ認識 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ■生産量に合わせたラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状(円形、扇等)、圧力、流量などを自由に選択できます。

1流体スプレー方式の現像装置です。 現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。 大型基板や厚膜の現像に最適です。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■1流体スプレーを搭載(パドルと併用可) ■自動ウエハサイズ認識 ■フットプリントの低減 ■生産量に合わせたラインアップ デモ設備を常設しておりますので、デモのご検討をお願いします!

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2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在!2流体スプレーレジスト現像装置。厚膜などの現像時間を短くするのに有効です。

N2と現像液を混合して吐出する2流体スプレー方式の現像装置です。 N2の圧力を変更することで、スプレーの吐出圧力を変更することができます。 液の圧力を高め、高圧で吐出す方法や、液量を少なくして霧状にして柔らかく吐出する方法など幅広くスプレーの吐出パターンを選べます。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■2流体スプレーを搭載!(パドル併用も可) ■自動ウエハサイズ認識機能 ■多彩な薬液に実績あり ■コンパクト設計 ■生産量に合わせたラインアップ デモ設備を常設しておりますので、デモのご検討をお願いいたします!

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半自動フォトレジスト現像装置(セミオートデベロッパー)

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様向けのセミオートデベロッパーです。

当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリングユニットを搭載。 自動機を導入するほど生産量が多くないけどもマニュアル機では 工数の問題で導入できない等でお悩みのお客様におススメです! 御社のニーズに合わせた半自動機を設計・製造いたしますので 新規装置の導入でお困りのお客様はぜひご検討ください! TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■自動搬送機能 ■低価格を実現 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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