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乾燥炉(加熱) - 企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

製品一覧

1~15 件を表示 / 全 18 件

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スタック式加熱炉 硬化炉・乾燥炉

加熱乾燥工程の自動化に最適!放熱、炉体周辺温度の上昇を抑え、省エネに貢献! オーバーシュートの無い均熱精度の高い加熱装置を提供

当製品は、全自動生産ラインに組み込み可能な、インライン対応加熱炉です。 熱風を使用しない、炉自体を熱源とする加熱炉で、放熱ロス・周辺環境の温度上昇を抑えた 省エネな加熱炉です。 均熱性能に優れオーバーシュートの無い、長時間の加熱が可能。 基板・トレイをローダーから取り込み、枚葉処理にて個別炉室へ搬送し昇温します。 タクトタイムと昇温時間・加熱保持時間から炉室数を設定するため、 ムダの無い省エネな加熱装置です。 トレーサビリティに対応し、ワーク単位にて加熱時間・加熱温度の管理が可能です。 加熱炉の省スペース化に貢献でき、加熱後は次工程へ排出するか、冷却ステージに収納 もしくはマガジンへ収納することも可能な全自動加熱装置を提供いたします。 【特長】 ■優れた均熱性能 ■長時間の加熱が可能 ■炉室毎に時間管理を行う ■加熱炉の省スペース化に貢献 ■加熱工程の省エネに貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • 加熱装置

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IR乾燥炉

処理速度は75mm/s!ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーターで加熱乾燥します

『IR乾燥炉』は、ローラー搬送によるタクト搬送で処理を行う製品です。 洗浄、エアブロー後の基板を加熱することにより、基板上の微水分を 蒸発させ、乾燥を実施。 ガラス基板をクリーン遠赤外線ヒーター(クラス100)で加熱乾燥します。 【主な仕様】 ■被加熱物:TFT用ガラスパネル(2880×3130×0.6t) ■処理方法:ローラー搬送によるタクト搬送(6°傾斜) ■処理速度:75mm/s(Tact Time:56sec) ■加熱条件:ガラス表面温度 70 ℃以上到達 ■パスライン:FL+1800±25mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 乾燥機器
  • 加熱装置

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熱風送風式乾燥炉

熱風送風式乾燥炉

熱風送風式乾燥炉は、内槽から分離して設けられた加熱室の熱風を送風機により槽内に送り込む方式です。ヒーターの直接熱による加熱ムラ等が少なく、炉内温度分布精度が±0.5℃位から製作出来ます。(但し、内槽寸法の大小と送風機の風量も関係します)

  • その他ヒータ
  • その他加工機械

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ワニス処理乾燥炉 ワニス滴下式連続乾燥炉高周波加熱方式

着脱式ロボットに連結します

予熱炉が高周波加熱方式のワニス滴下式連続乾燥炉です。設定温度・タクトタイム・各ステーション数については、ワークの条件に合わせて設計いたします。

  • 焼却炉・焼却装置

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ホットプレート乾燥炉『WD-100シリーズ』

生産工程の多品種小ロット化に。高速加熱&高速搬送に対応したコンパクト型。段取り替えもスムーズ

『WD-100シリーズ』は、熱伝導方式にホットプレートを採用し、 搬送方式にウォーキング機構を取り入れたことで ワークの高速加熱と高速搬送を実現したホットプレート式乾燥炉です。 短い加熱時間でスピーディーに乾燥作業が行えるため、 炉長が短くて済み、設置面積もコンパクト。 少ない滞留ワーク数で、段取り替え時のアイドルタイムも短縮できます。 温度の立ち上がりが早く、設定温度とワークの温度差が少ないのも特長です。 【特長】 ■優れた熱伝導でワークを高速乾燥 ■立ち上がり時間を短縮可能 ■コンパクトな炉で設置面積を節約可能 ■工場ダクト内をクリーンに保つ溶剤回収機構付き ■メッシュベルトレスで低消費電力 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

  • 乾燥機器
  • 電気炉
  • 工業炉

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近赤外線塗装乾燥炉「ハロゲンランプオーダーシステム」

近赤外線ハロゲンランプを使用し高効率な乾燥機を設計!内側から乾燥や効果を促進することで未乾燥・未硬化を低減!省エネ・長寿命です!

近赤外線ハロゲンランプは、 対象物を内側から乾燥や硬化を促進させるので未乾燥・未硬化などの不具合発生を低減します。 また電源ONで瞬時に要求温度に達しますので無駄なく短時間で処理を終えることが可能となります。 よって省エネルギーによるコスト削減や環境エコにも繋がります。 目的、用途、被乾燥物に合わせた乾燥・加熱性能を提供し、様々な材質、目的に合わせ設計いたします。 ■特徴 ・レスポンスの速さ ・ランプ式放射加熱で雰囲気温度に影響されない質の高い赤外線を放射 ・均一な照射で焼きムラ・乾燥ムラを低減 ・コンタミフリーなクリーン加熱で、大気中・真空中など加熱雰囲気不問 ・約3000~5000時間(使用環境や出力により変わります)の長寿命設計 ※詳細はPDFダウンロードいただくかお問合せ下さい。

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  • その他半導体製造装置

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機械の小型化・乾燥の高速化を実現 !ホットプレート乾燥炉

1/3~1/4の小型化で乾燥時間が1/3~1/4に短縮になった事例あり!多品種小ロットの乾燥炉に適した「超小型炉」

『WD-100シリーズ』は、省スペースと段取り替えの良さを追求した乾燥炉です。 対象基板サイズは50mm□~125mm□・厚みは0.2mmt~2mmt ホットプレートの高速加熱を最大限生かす、搬送システムの追求により、 高速搬送とダイレクト加熱を達成しました。 マルチサイズ、高速搬送、高速加熱、低フットプリントに対応しています。 【特長】 ■IR雰囲気炉と比べ、乾燥が最大10倍の早さ ■IR雰囲気炉と比べ、アイドルタイムが最短1/20に低減 ■溶剤回収でクリーン ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 乾燥機器
  • 電気炉
  • 工業炉

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バッチ式乾燥炉

遠赤パネルヒーターと熱風循環方式での同時加熱が可能

本装置は、当社の長年にわたる熱処理装置の経験、技術に基づき、 各需要家の生産性の向上、省エネルギー化、省スペース化、精密温度制御の ご要望にお応えすべく開発、製作された太陽光発電用乾燥装置です。 遠赤パネルヒーター単独での加熱も可能。 また、昇温、降温レートの時間短縮に貢献いたします。 なお、オプションでプロコンの取付が可能です。 【特長】 ■省スペース ■低価格 ■安定した温度プロファイル ■炉内のクリーン化 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 乾燥機器

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高圧熱風乾燥炉

高圧熱風乾燥炉

●装置概要 設定温度の熱風を被乾燥物に強制的に吹き付ける為、高速で均一な温度で短時間に加熱出来る熱風乾燥炉

  • その他塗装機械
  • 電気炉
  • その他環境機器

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真空加熱乾燥炉

スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利用可能!

『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲:最高450℃ ■到達圧力:10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ:30通り ■試料棚:2段 ■各種オーダーメイドも製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • 工業炉
  • 真空機器

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遠赤外線乾燥炉

シンプルな乾燥機をご提案!設計から設置まで一貫したものつくりをさせていただきます

『遠赤外線乾燥炉』は、一般的な電気炉やガス炉とは違い、 遠赤外線ヒーターから照射される遠赤外線によって被加熱物自体を 直接加熱することができます。 そのため、加熱時間の短縮が見込め、製造ラインのコンパクト化や省エネ、 製造ラインのインライン化など、様々なメリットのある熱処理装置です。 当社では、お客様の要望をもとに専属のエンジニアが1から装置を 設計/製造し、装置納入後のアフターサービスまで万全の体制でお応えします。 【特長】 ■高速かつ高品質な熱処理が可能 ■低騒音で作業環境の改善に寄与できる ■インライン化が可能で、作業工数の削減に貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 加熱装置

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ワーク回転機構付乾燥炉『DRB-1』

独自メカニズムで被加熱体の接触部から内部へ電導!乾燥時間短縮の回転機構付乾燥炉

十条ケミカル株式会社で取り扱う高速乾燥システム『DRB-1』について ご紹介します。 独自のメカニズムとして、内部を直接温め電磁波の種類が選べる放射技術。 空気を媒体として熱を伝え、形状を選ばない対流技術ももちます。 被加熱体の接触部から内部へ電導する伝導技術で乾燥時間を、 従来の1/6に短縮します。 【特長】 ■形状を選ばない ■乾燥時間を、従来の1/6に短縮 ■被加熱体の接触部から内部へ電導 ■内部を直接温める ■電磁波の種類が選べる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 乾燥機器

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フリット乾燥炉

ガラスSIZEに合わせ製作!ガラスパネルに塗布されたフリットペーストの乾燥を行います

当社が取り扱う、『フリット乾燥炉』をご紹介します。 ガラスパネルに塗布されたフリットペーストの乾燥を行う乾燥装置で、 ガラスSIZEに合わせ製作が可能。 処理速度は15m/min(36m/min)となっており、乾燥炉及び冷却部で構成され PDP用ガラス42“(964×570)~50“(1150×680)を2列ローラー搬送処理します。 【主な仕様】 ■被加熱物:PDP用ガラスパネルに塗布されたペースト ■処理方法:ローラー搬送によるタクト搬送(1段×2列) ■処理速度:15m/min(36m/min) ■加熱条件:ガラス表面温度95℃±15℃ 44秒以上(保証値) ■パスライン:FL+1150±30mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 乾燥機器

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卓上乾燥炉

PTFEコーティングメッシュベルト採用!上下ヒーター式で優れた作業効率を発揮

当社では、小型・低価格で様々な加熱、硬化、乾燥に対応した 「卓上乾燥炉」を取り扱っております。 高精度PID制御方式により信頼性の高い温度制御、温度分布が可能。 卓上式なので自由にインライン化が可能で、搬送方向が選択できます。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■即熱式 遠赤外線ヒーター QUTヒーター採用で、素早い昇温を実現 ■PTFEコーティングメッシュベルト採用 ■コンベア流れ方向が選択可能(ご注文時に搬送方法を指定) ■上下ヒーター式で優れた作業効率を発揮(搬送速度は使用範囲内) ■高精度PID制御方式により信頼性の高い温度制御、温度分布が可能 ※その他機能や詳細については、お問い合わせください。

  • 乾燥機器

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