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化学材料用加熱炉 ローラハースキルン
ローラコンベアを炉床に有する迅速焼成連続炉 【特徴】 ○三次元でのコンピューター解析データを元に 安定した高精度な温度・雰囲気制御が可能 ○製品の上下により加熱し、均一過熱が可能 ○各ゾーンでの雰囲気及び、吸排気量の調整が可能 ○各種雰囲気ガスも選択でき、短時間焼成によりエネルギーコストを削減 ○クリーンな炉内雰囲気を実現 ○温度は全自動で管理 ○外観がスマート ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
生産量の変動に柔軟に対応可能！製品を焼成台車に積載する焼成炉
『シャトルキルン（ガス燃焼）』は、製品を焼成台車に積載する焼成炉です。 焼成台車が炉から積載／降し場の間を行ったり来たりするところから「シャトル（SHUTTLE）キルン」と呼ばれています。 各種ファインセラミックス成形体、各種粉体原料、その他の用途に適しています。 【特長】 ○燃焼方式：アンダアッパ、コーナジェット、インデックス ○生産量の変動に柔軟に対応可能 ○炉本体、台車の構成材にセラミックファイバを使用 →熱容量が少なくなり、迅速な焼成工程になる →同時に省エネルギーにもなる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
最高温度1,650℃！コーナジェット式で炉内の温度差を小さくする焼成炉
『高温シャトルキルン（ガス燃焼）』は、燃焼方式としてバーナを4隅に配置したコーナジェット式で、炉内の温度差を小さくする焼成炉です。 焼成台車が炉から積載／降し場の間を行ったり来たりするところから「シャトル（SHUTTLE）キルン」と呼ばれています。 各種ファインセラミックス成形体、各種粉体原料、その他の用途に適しています。 【特長】 ○最高温度1,650℃で多種多様な製品の焼成が可能 ○高性能燃焼方式により低温域での制御を行い、均一加熱が可能 ○自動温度制御による安定した温度制御が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
各種雰囲気ガス利用に対応！精度の高い安定した雰囲気制御が可能な焼成炉
『台車昇降式キルン（特殊雰囲気・大気）』は、炉体の密閉度が極めて高く、精度の高い安定した雰囲気制御が可能な焼成炉です。 窒素、水素、その他各種雰囲気ガスの利用に対応可能です。 各種ファインセラミックス成形体、各種粉体原料、その他の用途に適しています。 【特長】 ○O₂濃度をppmレベルまで制御可能 ○循環式冷却による短時間サイクルが可能 ○温度制御ゾーンを分割し、炉内温度差を小さくする 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
ガントリー・軸補正制御を実現した当社独自開発PGS搭載のUSB・PCI Express 対応モーションコントローラ
コスモテックスで独自開発をした「PGS」搭載のRTEX専用コントローラ『PXRP-3216CN』と『CSRC-32CN-RP』。 両製品のソフトウェアは同じ仕様であり、装置側の仕様に合わせUSB制御(ノートPC)、PCI-Express(デスクPC)の選択が可能となります。 機能特長として、ガントリーなどの同期制御や、1pps単位での非対称加減速設定・停止動作時の多段階速度設定など、 複雑な制御から短いサイクルで命令更新が必要な機能など、すべてPGS内で制御するため安定した制御が可能です。 【特長】 ■製品種類：PXRP-3216CN (PCI-Express)、CSRC-32CN-RP (USB) ■制御軸数：32軸(PXRP-3216CNのみパルス列制御4軸あり) ■通信周期：標準500μ (最速0.25μ・制限あり) ■速度設定：最大400Mpps(加減速単位自由設定・1pps単位) ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問合せください。
滅菌用酸化エチレンの濃度管理ができます。
株式会社ジェイ･サイエンス･ラボが開発したＥＯＧ濃度計は、滅菌ガスとして用いられる酸化エチレンガス（ＥＯＧ）の濃度管理用にガスクロマトグラフ（ＧＣ）法を用いた全自動でＥＯＧ濃度の測定が行える装置です。大小関係なく様々なメーカーの滅菌器や滅菌庫と接続することができ、滅菌器(庫)内の濃度が簡単かつ正確に測定することができます。BI法（バイオロジカルインジケータ法）に代わって滅菌管理がリアルタイムで行えます。既設の滅菌器(庫)にも取り付けることができます。 N-GC216は生産性向上特別措置法税制認定品に登録されています。 地方税法において償却資産に係る固定資産税の特例として、減免を受けることができます。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上サイズ 省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分（1500℃）、降温1500℃→100℃まで約40分（真空、およびガス置換雰囲気） ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
研究開発分野向け、各種実験装置を紹介します。 ◉ Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉 Max2000℃ ◉ Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃ ◉ MiniLab-WCF 超高温ウエハー焼成炉 Max2000℃ その他、特注で研究開発用高温炉を設計製作致します。 他
コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉
Max2900℃(カーボン炉）、Max2400℃（メタル炉） ・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。
もっとも手軽で、設置場所を選びません
○優れた断熱性 断熱性に優れており、放熱も少ないので、教室などでは特に安心して使用できます。 ○還元焼成にも対応 プロパンガスか還元装置により、還元焼成も簡単にできます。 ○安定した焼成 高品質の発熱体の採用により、熱効率が高く、また炉内の温度差がムラのない安定した焼成ができます。 ○簡単操作 温度制御装置の採用により、温度調節が誰でもできます。
お客様の新しい価値創造を幅広くサポート！ あらゆるニーズを実現する熱処理設備をご提供
一度にたくさん処理できる大きな炉はないの？→あります！ クリーンな環境で処理できる炉もあるの？→あります！ 高圧雰囲気下で処理ができる焼成炉はないの？→あります！ ホットプレスのテストはできないの？→できます！
ガスパージ・プログラム温度調節が可能！温度ムラを極力抑えた角形焼成炉
「CHP-400-2G型」は、窒素ガスなどのパージを行いながら昇温出来る角形焼成炉です。 焼成炉の構造は、簡易気密構造で、ガスパージ中における外気の進入を抑えます。 焼成炉は4面パネルヒーター加熱方式で、常用1000℃の使用が可能です。さらにプログラム温度調節計により、高精度なプログラム運転が可能です。 また、オプションにて酸素ガスによるパージも可能です。 【特徴】 ○4ゾーン式角形加熱方式 ○焼成炉内部にガスパージ可能 ○プログラム温度調節計による温度制御 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
ガスバージ、プログラム温度調節が可能なガスバージ式角形燃焼炉。焼成炉は４面パネルヒーター加熱方式で、常用１０００℃の使用が可能
「ガスバージ式角形燃焼炉 CHP-400-2G 型」は、窒素ガスなどのパージを行いながら昇温出来る角形焼成炉です。 焼成炉の構造は、簡易気密構造で、ガスパージ中における外気の進入を抑えます。 焼成炉は４面パネルヒーター加熱方式で、常用１０００℃の使用が可能です。さらにプログラム温度調節計により、高精度なプログラム運転が可能です。 また、オプションにて酸素ガスによるパージも可能です。 【特長】 ■４ゾーン式角形加熱方式 ■焼成炉内部にガスパージ可能 ■プログラム温度調節計による温度制御 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
高度なフッ素樹脂加工の技術を持つ当社の設備をご紹介！
日本フッソテクノコートの技術を支えるさまざまな設備をご紹介します。 お客様の課題解決にさらに貢献できるよう主力焼成炉である1号炉の更新に着手しました。 そして、2012年8月新1号炉が完成致しました。 高さが5000L(mm)あり、歪みの心配な長尺ロール等も歪みを軽減させる施工が可能です。 新たな設備とともに、さらに技術力に磨きをかけ課題解決力の向上と、 お客様に信頼される製品づくりに一層邁進していきます。 【設備】 ＜フッ素樹脂焼成炉＞ ■1号炉：W3,700×H4,500×L5,000 （mm） ■2号炉：W2,250×H2,500×L2,600 （mm） ■3号炉：W1,100×H1,200×L1,200 （mm） ■4号炉：W1,100×H1,200×L1,200 （mm） ■5号炉：W1,200×H1,500×L1,200 （mm） ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
ガラス工芸品や炭焼きなど幅広い用途に使用可能な簡易焼成炉！省エネ、高耐熱の断熱・保温材
『アートボックス』は、電子レンジのマイクロ波により内部の温度が 上昇する簡易焼成炉です。 家庭用電子レンジで5～8分加熱することで内部温度が700～800℃まで昇温。 ハンドメイドアクセサリー、ガラス工芸品、炭焼きなど幅広い用途に 使用できます。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■No.8(S) ■No.9(M) ■L ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
設計、製作、据付、メンテナンスやアフターフォローまでトータルでサポートします
サンファーネスは工業炉メーカーで設計、製作、据付、メンテナンスやアフターフォローまでトータルでサポート致します。据付時はもちろん、そのあともお客様が納得されるまで”とことん”お付き合いします！ 設計者が直接工事も行うため、安心してお任せ頂けます。設計者がお客様と直接やり取りさせて頂くことで、意見を設備に反映させやすいと多くのお客様に喜んで頂いております。 多くのお客様から「頼みやすくて安心！」「使い勝手が良くなりました！」と言って頂いております。まじめに、とことん、お客様のことを考えます。工業炉でお困りごとがございましたらいつでもご相談ください。
セラミックなどの酸化物系の熱処理に！温度や時間を自由自在に調整できます
『焼成炉』は、粉末を金型に入れて成形・加熱して焼き固めることで 一定の形状と強度を持たせる炉です。 セラミックなどの酸化物系の熱処理に使用。 予熱・加熱・冷却ゾーンを1台にまとめて構成することができます。 【特長】 ■セラミックなどの酸化物系の熱処理に使用 ■脱脂、雰囲気ガスの純度調整などのカスタマイズが可能 ■予熱・加熱・冷却ゾーンを1台にまとめて構成することができる ■材料の種類や加熱条件に応じて温度や時間を自由自在に調整できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
アルミナ磁器の処理に、当社の台車式燃焼炉を導入いただいた事例をご紹介！
脱脂、雰囲気ガスの純度調整などのカスタマイズも可能です。サンファーネスは 処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も 含めて好適な焼成炉・焼結炉をご提案いたします。 【導入事例】 ■温度：1500～1700℃ ■有効寸法：W1000×L1000×H1000 ■雰囲気：大気 ■用途：焼成 ■処理物：アルミナ磁器 ■処理量：40kg/h、500Kg/回 ■電気容量：800kW ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
炉材を煉瓦からセラミックファイバーに変更し、炉を軽量化することで環境に配慮した低燃費、迅速焼成を実現！
炉材を従来の耐火煉瓦からファイバーに変えることで、軽量化を実現！ また、ファイバーは急な温度変化に強いため急昇温・急冷却にも対応可能。 『シャトルキルン』は、製品を積載した台車を炉内へ装入し、所定の温度で 処理する形式の炉です。 生産量の調整と、焼成温度のパターン変更が容易。 【特長】 ■約100℃から2℃/hの精密な温度コントロールと均一焼成を実現 ■炉内雰囲気（酸素濃度）の再現性を実現 ■荷姿や限られた設置スペースに応じた好適な燃焼方式をご提案 ■セラミックスファイバー等、構成材の軽量化により低燃費・迅速焼成を実現 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【テスト焼成可能】セラミックス成形体の焼成や電子部品材の乾燥に！短時間・内部からの加熱を実現。※他各種電気炉など取り扱い有
『マイクロ波炉』は、ガスや電気に替わる熱源として期待される焼成炉です。 マイクロ波は分子の摩擦熱を利用し、被焼成物を直接加熱することが可能となっており、 一般的なガス・電気炉のような外側から熱を加えるのではなく、内部から温めることで、“短時間”“品質向上”を実現します。 また、材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱も可能。 環境問題が叫ばれる現代において、CO2の排出を削減する事が可能であり、 環境に配慮した焼成ができることも特徴です。 現在、自社工場内の取り扱い炉を増やし、今まで以上に様々なテスト焼成をできる環境を整えております。 マイクロ波以外にも、焼成炉・電気炉など、材料や製品に合った焼成方法に柔軟に対応ができますので、 試作・量産などにご興味のある方はお気軽にお声がけください。 【特長】 ■被加熱物を直接加熱するため、加熱時間が短い ■材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱が可能 ■被加熱物を内部から加熱することができ、品質向上が可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
使いやすさを追求した小型アルミ溶解実験炉！
『HT-K300-CX』は、金属溶解・熱処理実験に適した大きさの 小型アルミ溶解実験炉です。 熔解した温度にセットし、運転スイッチを押すだけの簡単操作。 また、キャスター付きなので移動も容易に行えます。 ブリスター試験や各種熱処理炉など様々な用途にご使用頂けます。 【仕様（一部抜粋）】 ■電源：単相200V 3Kw 15A ■炉内寸法：300φ×350Hmm ■炉外寸法：580W×690D×860Hmm ■形式 ・上蓋片蝶番ハネ上げ開閉式 ・中蓋20mm含む ・本体移動用キャスター付 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
全機種に適用！コントローラ1台で最大50台の換気扇を一括でコントロールできます！
『畜舎用換気扇 専用コントローラ（別売）』は、手動または自動で換気扇の 風量を一括コントロールする製品です。 コントローラ1台で最大50台の換気扇を一括でコントロール可能。 ゆらぎ運転が可能な「GFCT03-Y」をはじめ、「GFCT02」「GFCT04K」の3種類を ラインアップしております。 【ラインアップ】 ■手動 ・GFCT02 ■手動/自動 ・GFCT03-Y（ゆらぎ運転搭載） ・GFCT04K ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
N₂＋H₂還元雰囲気と露点制御で、ESC焼成の再現性と条件出し効率を向上。
静電チャック（ESC）の焼成プロセスに特化したマルチ雰囲気対応の電気炉です。常用1600℃（Max 1650℃）の高温域に対応し、N₂およびN₂＋H₂の還元雰囲気で運転可能。さらにWetterによるInputガス加湿によりDry/Wet切替（オプション）を実現し、露点（pH₂O）制御で表面状態調整の再現性を高めます。 同一チャンバー内で雰囲気を切替できるため、工程分割に伴う待機・搬送・外気曝露を抑制し、パーティクルや水分等の再付着リスクを低減。ESC焼成の条件出し工数削減と品質安定化に貢献します。
滅菌用酸化エチレンの濃度管理ができます。
株式会社ジェイ･サイエンス･ラボが開発したＥＯＧ濃度計は、滅菌ガスとして用いられる酸化エチレンガス（ＥＯＧ）の濃度管理用にガスクロマトグラフ（ＧＣ）法を用いた全自動でＥＯＧ濃度の測定が行える装置です。大小関係なく様々なメーカーの滅菌器や滅菌庫と接続することができ、滅菌器(庫)内の濃度が簡単かつ正確に測定することができます。BI法（バイオロジカルインジケータ法）に代わって滅菌管理がリアルタイムで行えます。既設の滅菌器(庫)にも取り付けることができます。 GC-216は生産性向上特別措置法税制認定品に登録されています。 地方税法において償却資産に係る固定資産税の特例として、減免を受けることができます。
バッチ式アニール焼成炉
［仕 様］ ◆使用温度‥‥‥‥600℃ ◆炉内均一性‥‥‥600℃±3℃ ◆ＰIDプログラム温調 ◆炉内寸法‥‥‥‥ご希望の寸法に対応 ◆外形寸法‥‥‥‥幅900mm×高1650mm×奥行1500mm ◆使用電源‥‥‥‥3相 200V 20KVA
すべてのケーブルとインターフェイスを前面に配置！操作が簡単なコントローラー
『RC90-B』は、すべてのケーブルとインターフェイスを 前面に配置しているため、セットアップやメンテナンス 操作が簡単なLS-Bシリーズ専用コントローラーです。 コントローラーにUSBメモリーを差し込んでボタンを押す だけで、簡単にロボットのエラー履歴や設定情報などを 保存できる機能を搭載しております。 【特長】 ■すべてのケーブルとインターフェイスを前面に配置 ■セットアップやメンテナンス操作が簡単 ■ロボットのエラー履歴や設定情報などを保存できる機能搭載 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1650℃まで対応の高速冷却システム搭載ファーネス
最高温度 1650℃のため、トランスジルコニアの焼成に最適なデンタル用ファーネスです。電機作動の炉床により焼成皿の設置が容易です。 二珪化モリブデン製の発熱体によって、クラウンとブリッジに対する化学汚染からの最適な保護を実現しています。デンタル用コーピングはセラミック製の焼成皿に載せられます。焼成皿は3つまで積み重ねが可能なため、高い生産性が得られます。
本装置で手軽に加圧・減圧を再現性良く効率の良い運転が可能！クラッチドアー方式で簡単開閉・安全設計！
【特徴】 ・手軽に加圧・減圧を再現性良く効率の良い運転が可能 ・クラッチドアー方式で簡単開閉・安全設計 ・最大加圧：0.9Mpa(第2種圧力容器) ・最大温度：1200℃ ・コンピューター通信制御＋PIDプログラムコントロール ・ガス3系統、MFC仕様を標準装備 ※冷却チラー/加圧コンプレッサー/PO2系/記録計はオプション設定
ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
