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半導体熱処理や工業用熱処理まで、各種形状、各種発熱体に対応、高温炉に対応可能な管状炉です
管状炉とは、カンタルワイヤーをコイル状に加工し、断熱材、円筒形の外枠で組み立てたもので、チューブ炉とも呼ばれ、その名の通り管（筒）状の電気炉で工業炉の中でも一角を担う存在です。 【特徴】 ■精密な温度制御や温度勾配が可能 ・炉内が筒状なので温度精度に優れ、均一加熱に適した電気炉でゾーン制御(※)を行うことにより、 精密な温度制御や温度勾配が可能な電気炉となります。 ■御要望の電気炉を一台から製作可能 ・小型精密管状炉に使用している小口径から半導体製造装置（拡散炉）や工業用に使用される大口径 のものまで様々な管状炉を製作しています。 ■カンタル(高温使用できる合金)を耐熱材料や耐熱金具としても加工致します。 (※)ゾーン制御 炉内において部分的に温度を制御する事で温度精度を向上させる技術 【仕様】 ・発熱体 カンタル AF / A-1 / APM ・最高温度 発熱体 約1400℃（炉内最高 約1300℃） ※詳しくはお問い合わせください。
限界使用温度900℃！従来シリーズよりも価格を抑えた、中温用電気管状炉
アサヒ理化製作所の『ARFLCシリーズ』は、使用限界温度が900℃の 中温タイプ管状炉です。 炉体はセラミック成形品で構成されていて、 使用温度範囲は＋50℃～800℃です。 【特長】 ■常用温度800℃/限界使用温度900℃ ■炉体：セラミック成形品 ■中温タイプ管状炉 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
サンプル温度・ガス流量・圧力などの計測が可能！反応メカニズム解析や新規素材の試験条件を最適化
「管状炉」は、円筒状の加熱部(セラミックス反応管)にサンプルを配置し、 様々な雰囲気ガスを流しながら加熱処理を行うコンパクトな炉です。 小型・低コストでありながら、流量・圧力・温度の測定が可能なため、 反応条件の評価や試作研究に適しています。 当社の管状炉はコンパクトかつ高い計測機能を備えており、 ガス流通下での材料反応評価に特化しています。 【特長】 ■各種ガスを流しながら加熱でき、雰囲気条件の自由度が高い 小型・安価で研究開発や試作用途に適する ■熱電対を差し込み、サンプルの実温度を直接測定可能 ■反応管はアルミナ製で、耐食性・耐熱性に優れる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
最高温度1000℃！容易にガス雰囲気を実現する管状炉
『ガス雰囲気炉』は、保護缶採用によってガス雰囲気が容易に実現できる 管状炉です。 3ゾーンでそれぞれのゾーンを個別に制御することで、均熱性の精度を向上 させました。 最高温度は1000℃まで上昇させることが出来ます。 【特長】 ■均熱性の精度が向上 ■ガス雰囲気が容易に実現可能 ■最高温度1000℃ ■オプションで加湿器、MFC付加可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
流量・圧力・物温・排気解析を同期ロギング。焼成“前後だけ"からの卒業
当社では、計装重視の「管状炉」を取り扱っております。 途中データが取れず焼成前後の差分しか分からない、サンプリングポートや 背圧制御が無く圧力・流速の当て込みができないなどといった課題を解決。 お客様との相談により、流量(MFC)、圧力計、物温熱電対、 サンプリングライン等を適切なレンジ・仕様で実装します。 【特長】 ■必要な計装を装備：お客様との相談により、流量(MFC)、圧力計、物温熱電対、 サンプリングライン等を適切なレンジ・仕様で実装 ■同期ロギング：温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで取得 ■プロセスポートの自由度：入口・出口にサンプリングポート、バイパスライン、 ドレン/凝縮トラップを設計可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
"焼成するだけ"から"測って最適化する"へ！必要な計装機器をオプション選定できる
当社で取り扱っている「管状炉」は、お客様の用途に合わせて必要な 計装機器をオプション選定します。 ～1200℃の安定運転で、加熱ゾーンはΦ120mm×500mmL。管サイズは Φ70mm×1000mmLです。 また、N2・Arなどの不活性ガスやH2などの様々なガス種に対応しております。 ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。 【特長】 ■安定運転：～1200℃(更なる高温はご相談可) ■加熱ゾーン：Φ120mm×500mmL ■管サイズ：Φ70mm×1000mmL(サイズ/ゾーン長はカスタム可) ■雰囲気：N2・Arなどの不活性ガスやH2などの様々なガス種に対応 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
