・総所有コストを可能な限りに 低くおさえ、高い信頼性と低メンテナンスに重点を置いています。 ・高品質のコンポーネントを重視しその多くはTOCでの使用に最適化された LFE設計となっています。 ・最小限の工具で簡単に部品にアクセス可能 。 ・HT 反応器 へのアクセスと交換を容易に する設計です。 ・過酷な環境下での長期的な信頼性を高めるバージ可能の電子機器。 ・キャビネットの 低位置に 接液部品 を配置 。 ・酸味剤、スパージャー、 多重部品 用のパネルは壁に取り付けられているので メンテナンスアクセス が容易です 。 ・特に汚れやすい物質やメンテナが必要なコンポーネントはメインキャビネットの外に設置されています。

・水素と 2 種混合貴 ガス と混合ガスの 極めて長期にわたり安定 した分析 、 ・最小範囲で0～5000ppm までの 分析が 可能。 ・99.5 100% までの非常に抑えられたレンジ ・T 90 3 sec の超高速応答 ・塩素、塩酸、二酸化硫黄、水のプロセスガス測定のため、 T CD セルには ・耐腐食性の高い酸化アルミニウム、ガラス、クォーツを使用。 ・相互干渉の低減 のため 、 最大で 3 つの 成分 を 補正

N2中の H2が 0-5000ppmの低い測定範囲で、二元系または準二元系の混合ガスにも優れた仕様 最小測定範囲 0-1000ppmの 特殊 仕様 99.5-100% H2など、非常に高い 制御 範囲 高速応答時間 T90 3 秒 Cl2, HCl, H2S, SO2, H2O等 のプロセスガスに対応したAl2O3, ガラスクォーツ製の高耐食TCD セル エポキシ樹脂不使用 ガス入口部から出口部まで経路全体が高い耐腐食性 下限ppm 範囲における低い検出限界 ガス流量に依存しない応答性 非二元化合物中の 、特殊 な交差補正の為の様々な機能 外部のガス検知器のチャンネルとアナログ入力 またはシリアルインターフェースと連携して、最大3つのガス の干渉補正を実現 熱伝導検知器 (サーモスタット )で50-180℃まで温度制御可能 露点が高い場合や 、 塩析の可能性を避ける為 、 180℃までガス経路をサーモスタットで制御可能 長寿命による運用コストの削減 NAMURに基づく直感的なユーザーインターフェース

N2中の Heが 0-5000ppmの低い測定範囲において、二元系または準二元系の混合ガスにも優れた仕様 最小測定範囲 0-1000ppmの 特殊 仕様 高速応答時間 T90 3 秒 Cl2, HCl, H2S, SO2, H2O等 のプロセスガスに対応したAl2O3, ガラスクォーツ製の高耐食TCD セル エポキシ樹脂不使用 ガス入口部から出口部まで経路全体が高い耐腐食性 下限ppm 範囲における低い検出限界 ガス流量に依存しない応答性 非二元化合物中の 、特殊 な交差補正の為の様々な機能 外部のガス検知器のチャンネルとアナログ入力 またはシリアルインターフェースと連携して、最大3つのガス の干渉補正を実現 熱伝導検知器 (サーモスタット )で50-180℃まで温度制御可能 露点が高い場合や 、 塩析の可能性を避ける為 、 180℃までガス経路をサーモスタットで制御可能 長寿命による運用コストの削減 NAMURに基づく直感的なユーザーインターフェース