シエンタ オミクロンの製品・サービス一覧

DA20は、コンパクトな設置面積を維持しながら、XPSとUPSに加え、ARPESも提供します。 DA20は、これまで大型のDA30-Lアナライザーモデルでのみ利用可能だった画期的な偏向技術を搭載し、 サンプルを回転させることなくフルコーンARPES測定を可能にします。 これにより、測定ジオメトリを変更することなく表面ブリルアンゾーンの電子バンド構造マッピングが可能になり、 マトリックス元素の影響を排除し、結果の解釈を大幅に簡素化します。

• 分光分析装置

硬X線を励起源とするラボタイプの光電子分光システムです 硬X線光電子分光法(HArd X-ray PhotoElectron Spectroscopy : HAXPES)は、 多くの放射光施設が既に導入している、次世代の光電子分光(XPS)の一つです。ビームラインより、膜の下地や埋もれた界面、通常のXPSでは届かない深い内殻軌道の情報が得られる手法として注目されています。従来では放射光施設でのみ測定出来たこの手法をお手元のラボにこのシステムを置くことで、表面の情報だけではなく、バルクの情報も得られる次世代の光電子分光測定が可能となります。

• 分析機器・装置

角度分解光電子分光アナライザーとして、お求めやすいサイズと価格でご提供いたします。 ※詳細はPDF資料（英語）をダウンロードしてください。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

光電子分光(PES)の黎明期からその重要性に着目し、世界のトップブランドとして、多くの関連装置を開発し、市場に導入してきました。 その他、超高真空技術を駆使した走査型トンネル顕微鏡(STM)、原子間力顕微鏡(AFM)など、卓越した製品群を通じて市場に提供し続けています。 【紹介製品※一部抜粋】 １) HAXPES Lab ラボ型硬X線光電子分光分析システム（放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に！） ２) HiPP Lab 環境制御型X線光電子分光分析システム（大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置） ３) ARPES XPS観察・測定に使用される装置 ４) MBE Systems 真空蒸着装置 ５) STM/AFM 冷却加熱系を備えた走査トンネル顕微鏡 ※その他詳細はお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてください。

• 分析機器・装置

『LEED』は、OCI社製の低速電子線回折測定が出来る装置です。 当製品の電子銃は直径10mmで、スクリーンの視野が広く、電子銃による 影面積を最小限に抑えてLEEDパターン像を取得することができます。 また、レンズ部分をシリンダー構造にすることで、電子銃内の脱ガスが サイドスリットから効率的に排出されます。 オージェ電子分光測定機能や、MCP付き、直線駆動機構、シャッター、 画像取込装置など、多彩なオプションを測定目的に合わせて選択できます。 【特長】 ■直径10mmの電子銃で、スクリーンの視野が広い ■シリンダー状に、磁場の影響を防ぐためμ-metalを使用 ■デジタル制御電源は、LEED装置に必要な電圧と電流を デジタル制御により供給できる ■取付対応フランジはICF203、ICF152、ICF114の3タイプ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置

輝度の高い紫外光源（真空紫外光源）のご紹介です。 【詳細】※英文 The Scienta VUV5000 is a high intensity, narrow bandwidth extreme UV source. It provides radiation con-centrated to He I (21 eV and 23 eV) and He II (41eV). The flux density per unit wavelength interval is comparable to that obtainable from the best undulator beam lines. The photon flux emitted through a 2 mm aperture is about 500 times higher than that from conventional discharge VUV sources. ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。

• 分析機器・装置

ARPES分析アナライザーのご紹介です。 【特長】※英文 ●30° degrees full cone acceptance without sample rotation ●Spin-resolved MDC without sample rotation ●Patented (WO2013/133739) ●Improved ky accuracy (resolution better than 0.1º) ●Time saving (electronic deflection is faster than rotation) ●Matrix element effects are avoided by keeping sample fixed ●Manipulator requirements are reduced ●Ensures same spot for all k// ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。

• 分析機器・装置

ARPES-Lab（ARPES光電子分光分析システム）、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES system with unchallenged energy and angular resolution ●Intelligent integration and automation ●Revolutionary DA30 deflection mode operation: - Improved ky accuracy - Matrix element effects are avoided by keeping sample fixed - Ensures same sample point for all k// ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。

• 分析機器・装置

VT-STM/AFM　（温度可変型走査トンネル顕微鏡）は、冷却加熱系を備えた走査トンネル顕微鏡をさします。 低温から高温までの幅広い温度帯のSTM測定が可能のため、ナノ領域（低温から高温まで）のSTM観察・測定にご利用いただけます。 ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。

• その他顕微鏡・マイクロスコープ
• 分析機器・装置

○FZ Juelich Cluster -Installed at the HNF (Helmholtz Nanofabrication Facility) Juelich, Germany ○IQC Cluster Tool -Installed at the Institute for Quantum Computing at the University of Waterloo, Canada ○EIT+ Cluster Tool -Installed at the Wroclaw Research Centre EIT+, Wroclaw, Poland ○UTD Cluster Tool -Installed at the University of Texas at Dallas, USA ○FW Dresden Cluster ○ Materials Innovation Platform Materials Innovation Platform ※各装置の詳細はお問い合わせください。

• 分析機器・装置

Virtually unlimited thin film growth techniques. ●Combined UHV SPM / XPS / UPS / MBE system ●Hybrid (PLD) Laser-MBE System (based on a LAB10 MBE System) ●UHV PLD and MULTIPROBE Compact ●Charge & spin transport in graphene layers on 2 inch substrates ●III-V MBE system for film growth on 4 inch wafers ●III-N MBE system for 3 inch substrates with additional in situ VT SPM ●MBE & Catalysis ※各装置の詳細はお問い合わせください。

• 分析機器・装置

今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。 これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により９．２５keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed to allow hard X-ray photoelectron spectroscopy (HAXPES) measurements in standard lab environments. The instrument offers the unique possibility to investigate bulk properties of various materials, analyse buried interfaces and access deep core levels. ※詳細はお問い合わせください。

• 分析機器・装置

HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。 差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり 今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。 【用途】 環境制御下での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The HiPP-Lab brings together the world leading instrumentation for APPES: ●Outstanding performance APPES system with unchallenged energy, spatial and angular resolution ●Intelligent integration and automation ●State of the art HiPP-3 analyser: - Line mode imaging mode - Angular mode - Swift acceleration mode for increased intensity

• 分析機器・装置

LT STM（極低温走査トンネル顕微鏡）とは、極低温環境における走査トンネル顕微鏡をさします。 多数の販売実績のある装置で、5K以下の極低温でのSTM測定が可能な装置です。 【用途】 極低温環境におけるナノ領域のSTM観察・測定 【特長】※英語表記です。 ●Increased hold time to >65h at same performance level „ ●High frequency wiring „ ●Increased spectroscopy resolution „ ●Record proven platform since 1996 with more than 200 devices installed „ ●Reliable design ensuring high up-time „ ●Independent tip and sample temperature „ ●Leading QPlus AFM technology

• 分析機器・装置

The Hydrogen Atom Beam Source HABS is a thermal gas cracker which produces an absolutely ion-free hydrogen gas beam to avoid ion induced damage of the substrate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A maximum total layer thickness of 5 μm C with one filament is reported. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

The Silicon Sublimation Source - SUSI - was developed for growing of thin Si layers, short period Si/Ge superlattices and Si/Sige heterostructures, but it is also an excellent Si dopant source. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

The Oxygen Atom Beam Source OBS is a thermal gas cracker which produces an ion-free oxygen gas beam. The OBS does not cause ion induced damage on the substrate. It exhibits a very compact design and is easy to install and to operate. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

X線源、モノクロメータ、5kV電子銃、低速電子銃、12kV電子銃、紫外線ソースなどをラインナップ。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• その他電子部品
• その他理化学機器

小面積用蒸着源、イオンアシスト小面積用蒸着源、大面積用蒸着源、3源蒸着源、原子状水素源、蒸着源用電源、大面積用蒸着電源、各種蒸着器用ルツボなどをラインナップ。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• 蒸着装置
• その他実験器具・容器

角度分解分析用超高真空排気装置、HREELS用超高真空排気装置、MBE用超高真空排気装置、複合型分析用超高真空排気装置、UHV NANOPROBEなど、様々なタイプの複合型分析装置をラインナップ。 また、大型複合装置として、成膜系から分析計まで超高真空環境で搬送でき、試料の作製・評価・分析までを一貫したコンセプトで設計、円滑で効率的な実験環境を提供いたします。 さらに、SPM装置との接続にも最大限の注意を払い、SPM性能を損なうことなく大型設備の導入が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• 真空機器
• 分析機器・装置

各種SPM用超高真空排気装置、ボルトオン型SPM用超高真空排気装置（後日前処理室拡張可能／試料前処理室付き）、LT-SPM用超高真空排気装置（試料前処理室拡張可能）、Cryogenic型SPM用超高真空排気装置など、様々なタイプの超高真空排気装置をラインナップ。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• その他顕微鏡・マイクロスコープ
• 真空機器

オミクロン社のSPM（走査型プローブ顕微鏡）用の様々なアクセサリをご用意しております。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• その他顕微鏡・マイクロスコープ

オミクロン社の顕微鏡をご選択いただく上で、”温度”と”機能”をご検討ください。 ”温度”は、観察する試料の温度です。観察する際の試料温度が室温で良いかどうか、冷却する必要があるか、加熱する必要があるか、これらのご要求で基本オプションを装備している顕微鏡が分かれます。 ”機能”は、トンネル顕微鏡（STM）だけで良いのか、原子間力顕微鏡（AFM）を含める必要があるかどうかです。この機能は納入後で装置をアップグレード（変更や改造）することはできません。初めの機能を維持することになります。豊富なオプションはご用意しておりますが、基本性能を変更するオプションはご用意しておりませんのでご注意ください。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• その他顕微鏡・マイクロスコープ

X線光電子分光分析装置をご用意しております。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• 分光分析装置