・X線源　Ga Kα線　9.25KeV 　- 単色化されたX線 　- 9.25KeVの励起エネルギー 　- 最大250Wのパワー 　- 50μm以下のビームスポット ・高電圧対応、広角アナライザー(EW4000) 　- 10KVの耐電圧 　- 60°の取り込み角度 　- ARPES（角度分解）測定 ・分析チャンバー 　- X,Y,Z,Θの4軸駆動のマニピュレーター 　- 900度加熱対応ステージ 　- 13 mm x 15 mmの標準試料プレート 　- 多彩な試料プレート 　- 多彩なオプション搭載ポート

• 分析機器・装置

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• その他理化学機器
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【ラインアップ】 ■BDL450IR ■BDL600IR ■BDL800IR ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置

The excellent stability of the VUV5000 makes it ideal for measurements such as studies of ultrathin films and nanomaterials, requiring extremely high intensity and long measurement times. In addition, the 1 meV bandwidth allows high resolution gas phase and cluster measurements. ※詳細はお問い合わせください。

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• 分析機器・装置

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• 分析機器・装置

●Detectors for Spin-resolved measurements available ●4, 5, or 6 axis cryo cooled manipulator options ●Highest flux monochromated lab UV source for fast measurements ●True UHV during operation for long lifetime of samples ●Tailored UHV system for high performance ARPES ●Flexible system design for future upgrades and extensions ※詳細はお問い合わせください。

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• その他顕微鏡・マイクロスコープ
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• 分析機器・装置

●Hard X-rays at 9.25 keV opens a window for bulk-sensitive photoemission ●Superior analyser performance in HAXPES by the market leader in the field ●Complete stand-alone home-lab solution ※詳細はお問い合わせください。

• 分析機器・装置

●Exchangeable chamber concept ●High flux monochromated lab X-ray source ●Tailored UHV system for high performance APPES ●Flexible system design for future upgrades and extensions ※詳細はお問い合わせください。

• 分析機器・装置

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• 分析機器・装置

HYDROGEN ATOM BEAM SOURCE HABSの製品情報となります。 ●詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKOの製品情報となります。 ●詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

SILICON SUBLIMATION SOURCE SUSIの製品情報となります。 ●詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

COMPACT EFFUSION CELLS FOR THIN FILM DEPOSITION OR MBE IN RESEARCH UHV SYSTEMSの製品情報となります。 ●詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

Oxygen Atom Beam Source OBSの製品情報となります。 ●詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。

• その他理化学機器
• 分析機器・装置

【ラインナップ】 ○X線源　DAR400 →最大加速電圧：15kV →最大電流：27mA（400W） ○モノクロメータ　XM1000 →モノクロ結晶材質：クォーツ結晶 →アライメント：XYZ調整器付 ○5kV電子銃　EKF300 →フィラメント材質：タングステン →レンズ方式：静電レンズ、固定ビーム ○低速電子銃　SL1000 →フィラメント材質：トリア被覆タングステン →レンズ方式：静電レンズ ○5kV電子銃　EKF1000 →フィラメント材質：LaB6 →レンズ方式：静電レンズ、固定ビーム ○12kV電子銃　SEM250 →フィラメント材質：タングステン →レンズ方式：静電レンズ ○紫外線ソース　HIS 13 →Hell/Hel比：1/3以上 →ビーム分散角：±1°以下 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• その他電子部品
• その他理化学機器

【ラインナップ】 ○小面積用蒸着源　EFM2 →蒸着面積：φ5～φ20mm →温度領域：160～3300℃ ○小面積用蒸着源　EFM3 →蒸着面積：φ5～φ20mm →温度領域：160～3300℃ ○イオンアシスト小面積用蒸着源　EFM3i →蒸着面積：φ5～φ20mm →温度領域：160～3300℃ ○大面積用蒸着源　EFM4 →蒸着面積：φ10～φ50mm →温度領域：160～3300℃ ○3源蒸着源　Triple-EFM →蒸着面積：φ8.5、11、15mm →動作距離：約93±10mm ○大面積用蒸着源　EFM6 →蒸着面積：φ50mm以上 →坩堝容量：最大10ccm ○原子状水素源　EFM-H →加速電圧：0-1keV(100mA) →ビーム照射角：±6～±15°（電力に依存） ○蒸着源用電源　EVC100L/100 ○蒸着源用電源　EVC300/300i ○大面積用蒸着電源　EVC1200 ○各種蒸着器用ルツボ →ルツボ材質：タングステン、タンタルなど他 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• 蒸着装置
• その他実験器具・容器

【ラインナップ】 ○静電半球型エネルギー分析器　EA125シリーズ →分析器半径：125mm →入射スリット：5段階 ○静電半球型エネルギー分析器　SPHERA →分析器半径：125mm →最小分析面積：60μm →入射スリット：5段階 ○高電圧静電型エネルギー分析器　HV-CSA →スキャンエネルギー範囲：最大15,000eV →分析器タイプ：円筒セクター型 ○スピン電子検出器　CSA300/SHA50 with SPLEED →非対称係数：0.2 →検出器：5チャンネルトロン ○同軸型エネルギー分析器　CMA100 →S/N（アナログモード）：1000：1以上（3kV、1μV） →S/N（パルスカウントモード）：900：1以上（3kV、30nV） ○角度分解エネルギー分析器　AR65 →分析器半径：65mm ○光電子顕微鏡　IS-PEEM →空間分解能：40nm（スティグマ付） →ステージ移動距離：±4mm ○光電子顕微鏡用オプション　IS-PEEM MicroAnalyzer ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• 分析機器・装置
• その他顕微鏡・マイクロスコープ

【ラインナップ】 ○角度分解分析用超高真空排気装置　MULTIPROBE ARUPS →AR65、SHA50用超高真空排気装置 ○HREELS用超高真空排気装置　MULTIPROBE HREELS →HREELS用超高真空排気装置 ○MBE用超高真空排気装置　MULTIPROBE MBE →MBE用（最大4インチ）超高真空排気装置 ○複合型分析用超高真空排気装置　MULTISCAN LAB、NanoSAM →SEM/SAM/STM/AFM超高真空排気装置 ○UHV NANOPROBE →UHV中4端子測定法 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• 真空機器
• 分析機器・装置

【ラインナップ】 ○SPM用超高真空排気装置　SPMProbe →各種SPM用超高真空排気装置 ○ボルトオンSPM用超高真空排気装置　MULTIPROBE COMPACT →ボルトオン型SPM用超高真空排気装置 ○ボルトオンSPM用超高真空排気装置　MULTIPROBE S →ボルトオン型SPM用超高真空排気装置　後日前処理室拡張可能 ○ボルトオンSPM用前処理室付超高真空排気装置　MULTIPROBE P/XP/RM →ボルトオン型SPM用超高真空排気装置　試料前処理室付き ○LT-SPM用超高真空排気装置　MULTIPROBE LT S/XP/XA →LT-SPM用超高真空排気装置　試料前処理室拡張可能 ○極低温走査型プローブ顕微鏡排気装置　MULTIPROBE Cryogenic →Cryogenic型SPM用超高真空排気装置 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• その他顕微鏡・マイクロスコープ
• 真空機器

【ラインナップ】 ○探針加熱クリンーニング装置 →取付フランジ：ICF70 →電源：15V/3A DC、+1kV、2mA ○探針作製装置　W-TEK ○スポット溶接機　OM97 →UHV部品などを溶接する際などに使用 →出力：20W →繰り返す数：10回/分 ○劈開装置　Crystal Cleaver →試料片を劈開する装置 →取付フランジ：CF70 →長さ：240mm（長さは指定可能） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• その他顕微鏡・マイクロスコープ

【ラインナップ】 ○超高真空対応走査型トンネル顕微鏡　STM-1（ボルトオン） ○走査型原子間力プローブ顕微鏡　UHV-AFM/STM（ボルトオン） ○温度可変走査型プローブ顕微鏡　VT-STM（ボルトオン） ○温度可変走査型原子間力プローブ顕微鏡　VT-Beam Deflection AFM/STM（ボルトオン） ○超低温走査型プローブ顕微鏡　LT-SPM（ボルトオン） ○大型試料用プローブ顕微鏡　LS-STM、LS-AFM/STM ○4プローブ走査型トンネル顕微鏡　NANOPROBE ○極低温走査型プローブ顕微鏡（強磁場環境）　Cryogenic SFM ○極低温走査型トンネル顕微鏡（強磁場環境）　Cryogenic STM ○SPM制御系　Matrix ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• その他顕微鏡・マイクロスコープ

【仕様】 NanoESCA ○100nmスケールの分解能を有するimaging-ESCA ○対象：XPS（1600eV）、UPS、PEEM ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

• 分光分析装置