金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の 機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする ことができます。 この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、 プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の 探索や開発が続けられていくものと考えられます。 そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を 利用した薄膜製造プロセスの可能性について、検討を行った結果を ご紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を用いた光CVD法の製膜速度 ■おわりに ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 そこで、薄膜形成時の照射雰囲気における酸素濃度の影響や、光子エネルギーに よる結合切断の必要性を調べるために、PHPS溶液を用いたスピンコーティング膜に、 照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質について検討しました。 【掲載内容】 ■緒言 ■実験 ■結果と考察 ■結論 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

1980年代後半に、誘電体バリア放電を利用した強力な真空紫外光源である キセノンエキシマランプが開発されました。 この光源で得られる波長172nmの光は、7.2eVという高いエネルギーを持ち、 様々な分子内結合を効率よく光解離が可能。 このため、ランプは液晶表示パネルに使われるガラス基板の精密光洗浄などに 実用化されているのを始め、様々な応用展開が図られています。 本研究では、汎用樹脂であるが、印刷性・接着性が低いポリエチレンに、 真空紫外光を照射した際の、表面の物理･化学的変化について検討を行い ました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果および考察 ■まとめ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

当資料では、「真空紫外エキシマランプ」の現状とその産業的応用について ご紹介しております。 エキシマとは励起状態の原子または分子1個と基底状態の原子または分子1個が 会合した二量体の総称。 「真空紫外エキシマランプ」は、準単色光、一般的なランプにない短波長の 光を発光できる、瞬時点灯点滅が可能、などの特長を有しています。 また、真空紫外光は短波長で光子エネルギーが高いため、非熱過程で分子の 結合を切断することができます。 【掲載内容】 ■真空紫外エキシマランプとは ■真空紫外エキシマランプの応用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

高分子は軽量、フレキシブルなため、様々な用途で用いられており、近年 着目される手法に真空紫外（VUV）光を用いた表面改質技術があります。 VUV光は短波長で光子エネルギーが高いため、非熱過程で分子の結合を 切断することが可能。 物理的表面処理として代表的なプラズマ処理等と比べ、低コストかつ表面への ダメージが少なく、表面処理ができるという特長を持ちます。 本研究では、真空紫外光をポリマーに照射し、照射に伴う表面の物理、 化学的変化と、照射中の雰囲気ガスによる改質効果の違いについて検討を 行いました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果と考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

耐熱温度の低いプラスチックなどの上に強固で緻密な膜を得るためには、 薄膜形成におけるプロセスの低温化が必要となります。 真空紫外（VUV）光を用いた光量子（フォトン）プロセスは、1光子あたりの エネルギーが、ほとんどの物質における原子の結合エネルギーよりも大きく なります。 また、照射による熱過程をともなわずに光子の作用のみで原子の結合を開裂 できるため、薄膜形成プロセスの低温化に寄与するものと期待できます。 本研究では、工業的に多用されているTiO2について、ゲル膜を熱処理した ときおよび、エキシマランプによるVUV光照射と熱処理を併用したときの 分解過程と結晶構造の変化について比較検討しました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験方法 ■結果と考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

1980年代の終わり頃、エキシマ発光を利用した高輝度な真空紫外光 ランプが開発されました。 例えば、キセノンガスを用いたエキシマランプでは、波長172nmの 真空紫外光を、100W／m2という高い光照度で生み出すことができ、 材料表面の光分解洗浄や光表面改質などに盛んに応用が進んでいます。 本発表では、従来のランプより10～20倍明るい、1～2kW／m2の 光照度の実現を念頭に置いて、高出力化に必要な要素技術の検討を 行いました。 【掲載内容】 ■エキシマランプの原理と研究開発目的 ■放電方式について ■ランプの形状について ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

均一な組成をもつコーティング膜を得る方法として有力なゾル－ゲル法は、 ゲル膜からの水分の除去や有機成分の分解には、通常、数百℃の熱処理を 要するため耐熱温度の低いプラスチック上に強固な膜を得るのは難しいです。 そこで、真空紫外（VUV）光を用いた光量子（フォトン）プロセスは、照射に よる熱過程をともなわずに、光子の作用のみで原子の結合を切断できるため、 薄膜の改質にも応用できると考えられます。 当資料では、ゾル－ゲル法により調整した酸化ニッケル薄膜に、実用的な 光源として開発されてきたエキシマランプを用いてVUV光を照射したときの 状態変化について紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果と考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

真空紫外（VUV）光は、短波長で光子エネルギーが高いため、 非熱過程で分子の結合を切断することができ、洗浄や微細加工、 表面改質などへの応用が進められています。 当資料では、金蒸着した基板にPVA水溶液をスピンコート後、 加熱処理を行い、膜を作製し窒素あるいは乾燥空気雰囲気下で キセノンエキシマランプ（172nm）を照射。 赤外分光器ならびにX線光電子分光分析装置を用い、VUVの 照射に伴うPVA膜の化学状態の変化を観測しました。 【特長】 ■はじめに ■実験 ■結果と考察 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

真空紫外エキシマランプによる材料の光表面処理法には「安価」 「大面積処理が容易」などの特色があります。 その為、光洗浄や光薄膜形成、光改質や光化学修飾など、様々な 産業分野への応用が可能です。 当資料では、光表面処理法の効果を原子間力顕微鏡（AFM）を用いて 調べた結果をご紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

『QEV Series』は、低価格でカスタム性の高いチューブタイプ エキシマランプです。 バッチ照射用ユニットとスキャン照射用ユニットをご用意。 波長は172nm、分布は±15％となっております。 ウェハ洗浄をはじめ、マスク洗浄や実験機にご活用いただけます。 ご用命の際は、当社までお気軽にご相談ください。 【バッチ照射用ユニット 仕様（一部）】 ＜QEV-160＞ ■波長：172nm ■ユーティリティ：N2／冷却水／AC100V ■分布：±15％ ■照射開口：176×176 ■対応ワークサイズ：6inch ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

当社で取り扱う、エキシマUV照射装置『OVL Series』をご紹介します。 高照度・高分布の搬送処理用ユニット。照度モニター機能を搭載しており、 フィードバック制御が可能です。 ガラス基盤洗浄をはじめ、コーティング前処理や張り合わせ前処理、 ポリマ表面改質にご活用いただけます。 【特長】 ■照度モニター機能 ■フィードバック制御 ■搬送処理に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

『SPC Series』は、フラットタイプのエキシマUV照射装置です。 照度分布を従来の±15％から±5％まで向上。高照度一括照射可能な エキシマ照射ユニットとなっております。 ウェハ洗浄をはじめ、露光光源やコータ前処理、レジスト改質などに ご活用いただけます。 【特長】 ■照度モニター機能 ■フィードバック制御 ■真空対応可能 ■照度分布を従来の±15％から±5％まで向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

『エキシマランプ』とは、一般的な放電灯（水銀ランプやキセノンランプ等） と異なる発光原理、構造で、真空紫外光を照射できる光源です。 低温過程で表面処理が可能。ドライ洗浄改質等には不要な可視光、赤外光が 比較的少なく、ワークに対して熱によるダメージを与えません。 また、水銀ランプ（波長185nmと254nm）に比べるとフォトンエネルギーが高い 波長172nmの真空紫外光（VUV）を発生します。 【特長】 ■準単色光 ■低温過程で表面処理が可能 ■波長172nmのエキシマ光を発光 ■瞬時点灯点滅 ■電子部品の実装後の剥がれ防止、密着性など品質向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置

『eVIO』は、紫外線本来のウイルス抑制・除菌能力を保持したまま、人や 動物の体への影響を抑える新しい技術によって、従来の紫外線波長では 不可能だった有人環境下での使用を実現した紫外線ライトです。 外部フィルターを使用しておらず、ライト単体で紫外線222nmだけの波長を 照射可能。 また物体表面の除菌にも効果的で、特に無人環境下であれば連続した照射が 可能なため、除菌効果を最大化することができます。 【特長】 ■空間除菌に優れた効果を発揮 ■物体表面の除菌にも効果的 ■有人環境下で使用できる安全性を確立 ■222nmの紫外線 ■従来の製品では一般的だった外部フィルターを使用していない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 紫外線照射装置
• その他安全・衛生用品

『携帯式接触角計』は、表面処理を行う前後のウェーハ、フォトマスク等の 測定対象物の表面に置くだけで測定できる測定器です。 測定時に検体をカットする必要がなく、表面領域が小さな検体や、 曲面な検体であっても測定することができます。 当計器を使って測定する際、測定対象物である検体は、計器の測定部開口領域が 10mm×16mmより大きいことが必要です。 【特長】 ■測定対象物の表面に置くだけで測定可能 ■検体カットの必要がない ■表面領域が小さくても測定可能 ■表面領域が曲面であっても測定可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他 計測・測定機器

株式会社クォークテクノロジーの照度モニタは、エキシマ紫外線からLED紫外線 まで各種対応しています。 計測波長によって3タイプのモニタがあり、それぞれ異なる波長の計測に 使用します。 低価格で、操作が簡単かつコンパクトサイズなので、是非お求め下さい。 【特長】 ■エキシマ紫外線からLED紫外線まで対応 ■簡単な操作 ■コンパクトサイズ ■低価格 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他 計測・測定機器

株式会社クォークテクノロジーのUV-LED照射装置は、ランプに比べ、寿命が 長く、消費電力が低く、ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理 できる装置です。 照射ムラが軽減され、冷却ユニット内臓により照度が安定し、ワークへの 温度上昇がなく低温硬化が可能です。 また、自由度のある照射装置の設計が可能で、従来のスポットでは不可能な 大型照射面の照射を可能にします。 【特長】 ■照射ムラが軽減 ■冷却ユニット内臓 ■伝送材料を使わない直接光源 ■低電力、長寿命 ■メンテナンスフリー ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 光学部品
• 電子部品
• FPD・タッチパネル

株式会社クォークテクノロジーのエキシマ照射装置は、高光子エネルギー 真空紫外光源のエキシマランプによる有機物洗浄や、表面改質に必要な 励起酸素原子を発生させ、半導体製造装置をはじめ各種フィルム表面改質装置 などに利用されています。 準単色光でエネルギー変換効率が良く、他の放電灯のような不要な可視光、 赤外光が比較的少なく、ワークに対して熱によるダメージを与えません。 また、瞬時の点灯点滅ができ、この際エキシマランプにダメージを与えません。 その他、高効率洗浄により、コンベア搬送中の照射も可能です。 エキシマ照射装置は、特長の異なるフラットタイプも取り扱っておりますので、 用途に合わせてお選び下さい。 【特長】 ■準単色光 ■波長172nm ■瞬時点灯点滅 ■コンベア搬送中照射も可能 ■ランプ本数低減、付帯設備不要 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 半導体・IC
• 光学部品
• 電子部品

当カタログは、主に紫外線照射装置製造販売・露光装置製造販売・その他、 各種石英、セラミック商品の取扱いを行う株式会社クォークテクノロジーの 製品カタログです。 半導体製造装置などの各種フィルム表面改質装置などに利用される「エキシマ 照射装置」をはじめ、「UV-LED照射装置」や各種測定器を掲載しています。 お客様の用途に応じて様々な製品をお選び頂けます。 【掲載内容】 ■会社概要 ■UVスペクトルと用途 ■技術原理 ■エキシマ光の効果 ■エキシマ照射装置 ■UV-LED照射装置 ■各種測定器 ■製品ラインアップ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• LED
• 半導体・IC
• その他 計測・測定機器

UV-LED照射装置は、ランプに比べ、長寿命・低消費電力であり、ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理できることが特徴の装置です。 また、従来のスポットタイプでは不可能な大型照射面の照射を可能にします。 株式会社クォークテクノロジーでは面照射型、インライン照射型、線照射型の3タイプのUV-LED照射装置を取り揃えております。 その他にもお客様の用途に合わせてカスタマイズし、ご希望に合った照射装置をご提供できます。 【UV-LED照射装置の特徴】 ○照射ムラが軽減される ○ワークへの温度上昇がなく低温硬化が可能 ○自由度のある照射装置の設計が可能 ○冷却ユニット内蔵による照度の安定化 ○光ファイバなど伝送材料を使わない直接光源 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 紫外線照射装置

UV-LED照射装置は、ランプに比べ、長寿命・低消費電力であり、ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理できることが特徴の装置です。 また、従来のスポットタイプでは不可能な大型照射面の照射を可能にします。 株式会社クォークテクノロジーでは面照射型、インライン照射型、線照射型の3タイプのUV-LED照射装置を取り揃えております。 その他にもお客様の用途に合わせてカスタマイズし、ご希望に合った照射装置をご提供できます。 【UV-LED照射装置の特徴】 ○照射ムラが軽減される ○ワークへの温度上昇がなく低温硬化が可能 ○自由度のある照射装置の設計が可能 ○冷却ユニット内蔵による照度の安定化 ○光ファイバなど伝送材料を使わない直接光源 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 紫外線照射装置

UV-LED照射装置は、ランプに比べ、長寿命・低消費電力であり、ワークへの熱によるダメージを与えることなく処理できることが特徴の装置です。 また、従来のスポットタイプでは不可能な大型照射面の照射を可能にします。 株式会社クォークテクノロジーでは面照射型、インライン照射型、線照射型の3タイプのUV-LED照射装置を取り揃えております。 その他にもお客様の用途に合わせてカスタマイズし、ご希望に合った照射装置をご提供できます。 【UV-LED照射装置の特徴】 ○照射ムラが軽減される ○ワークへの温度上昇がなく低温硬化が可能 ○自由度のある照射装置の設計が可能 ○冷却ユニット内蔵による照度の安定化 ○光ファイバなど伝送材料を使わない直接光源 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 紫外線照射装置

株式会社クォークテクノロジーは最先端の光応用技術を利用した各種産業用設備機器の製造販売を行っております。 真空紫外及びUV-LED光源の開発により、半導体製造技術を始め、液晶、PDPからフィルム、ELなどの新規ディスプレイ、各種電子材料及び電子機器の製造技術に導入させていただいております。 そのほか、医療や社会的課題であります廃棄物・環境対策機器の需要に対しても研究開発を計画しております。 あらゆる物質は原子、核子そして「クォーク」から成り立っております。 私たちクォークテクノロジーは、光を研究し産業応用技術へのチャレンジを続けてまいります。 【事業内容】 ○紫外線照射装置製造販売 ○UV-LED照射装置製造販売 ○半導体製造装置製造販売 ○その他、各種石英、セラミック商品取扱 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 紫外線照射装置
• その他計測・記録・測定器

水銀ランプやメタルはライドランプなどと比べ、長寿命・低消費電力であり、低温処理が可能です。

• LEDモジュール

高光子エネルギー真空紫外光源のエキシマランプによって有機物洗浄、表面改質を低温で行うことができます。 フラットタイプは面自体が発光する高出力、高密度高分布モデルです。

• その他表面処理装置

エキシマ紫外線からLED紫外線まで各種対応 簡単な操作 コンパクトサイズ 低価格

• その他計測・記録・測定器

ワークへ本体を置くだけで測定できます。 小さなワーク、曲面であっても測定可能です。

• その他計測・記録・測定器