株式会社和泉テックでは、装置に関して日本全国納品を行っております。 まずはお気軽にご相談ください。経験豊富なスタッフがお話を伺います。 その後、移設元、移設先、移設ルートの下見を行い、機器、設備の調査致します。 搬出・搬入作業に関しましても、経験、実績のあるスタッフが迅速・ 正確・安全に作業致します。移設先の場所により車両運搬を行います。 まずは当社までお気軽にご相談ください。 【流れ（一部）】 ■ご相談 ■現地調査 ■移設機器（物品）リスト作成/お見積書提出ご契約 ■工程表レイアウト作成/移設チーム編成 ■移設説明会実施 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他受託サービス

本システムは、お客様がお持ちのホール効果測定装置に接続する事により、 4.2K～300Kの温度において試料を冷却制御する事が可能な 『極低温ホール測定システム』です。 又標準装備の温度コントローラーは、GP－IBにより既存装置との データー通信も行える様になっております。 真空中もしくはガス雰囲気中でプレスします。 【特長】 ■4.2K～300Kの温度において試料を冷却制御する事が可能 ■標準装備の温度コントローラーは、GP－IBにより既存装置との 　データー通信も行える様になっている ■真空中もしくはガス雰囲気中でプレス ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器
• 電圧計

当製品は、厚さ約20mmの超伝導ケーブル試料の断面を表裏から CCDカメラで拡大して撮影しながら、任意のケーブルの抵抗を 測定するための『超伝導ケーブル電圧測定装置』です。 一定圧力でプローブを試料に押し当てるためのロードセルを装備。 そのため接触圧を調整できるので様々な試料に対応可能です。 【特長】 ■CCDカメラで拡大して撮影しながら、任意のケーブルの抵抗を測定 ■視認の困難な場所での観測、位置決めに威力を発揮 ■一定圧力でプローブを試料に押し当てるためのロードセルを装備 ■接触圧を調整できるので様々な試料に対応可能 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器
• 電圧計

当製品は、軽量化のため、ベースはアルミ材を使用している、上下に 真空吸着付きの『恒温真空プローバー』です。 温調はサイクル制御2系統。 ステージ部が温調機能があり、真空雰囲気・ガス雰囲気・温度可変といった 環境下で測定ができるシステムとなってます。 【特長】 ■最大4プローブまで増設可能 ■ステージ部が温調機能があり、真空雰囲気・ガス雰囲気・温度可変といった 　環境下で測定ができる ■上下に真空吸着付き ■軽量化のため、ベースはアルミ材を使用 ■温調はサイクル制御2系統 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 真空機器
• その他機械要素

株式会社和泉テックで取り扱う『真空ホットプレス』をご紹介します。 加重MAX 1.5t（油圧式）。 温度はMAX 400℃で上下別制卸可能です。 真空中もしくはガス雰囲気中でプレスします。 空圧プレスの場合は、1tも取り扱いがございます。 【仕様】 ■加重MAX 1.5t（油圧式） ■空圧プレスの場合1tも取り扱いあり ■温度はMAX 400℃で上下別制卸可能 ■試料サイズφ80 ■加圧カロードセル ＋ 表示器付き ■排気系：RP ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他機械要素

当製品は、手動油圧ジャッキで加圧する『小型加圧ホットプレス』です。 温度は最高300℃までかけられます。 上下に真空吸着付き。軽量化のため、ベースはアルミ材を使用しています。 温調はサイクル制御2系統です。 【特長】 ■高分子材料用の簡易なホットプレス ■手動油圧ジャッキで加圧 ■温度は最高300℃までかけられる ■上下に真空吸着付き ■温調はサイクル制御2系統 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他機械要素

本装置は、10mL～30mLの溶媒液に注入された有機ナノ結晶を、 マイクロ波を用い効率よく生成するマイクロ波ナノ結晶生成装置です。 手動注入を除き、自動運転となっております。 又、生成条件をいろいろ変えられる様、マイクロ波電力、昇温温度・ 保持温度時間の設定が出来ます。 【特長】 ■手動注入を除き、自動運転 ■生成条件をいろいろ変えられる様、マイクロ波電力、昇温温度・ 　保持温度時間の設定が可能 ■導波管タイプを用い加熱効率を上げる為のショートプランジャーを 　採用した定在波方式 ■反応槽内部が観測できる様、観測口を設けている ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他機械要素

『lZR-1600』は、室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計されている 水素還元雰囲気炉です。 設置寸法は、700mmW×1800mmH×810mmD、重量は約600Kg。 ガス2系統が入ります。 水素排気に安全性が設計されています 【特長】 ■室内寸法の割にはコンパクトサイズに設計 ■ガス2系統が入る ■素排気に安全性が設計 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 焼却炉・焼却装置
• 電気炉

株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系　RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 焼却炉・焼却装置
• 電気炉

株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR.　分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 焼却炉・焼却装置
• 電気炉

『高温試料急冷試験炉』は、Max1500℃までガス置換昇温した後 試料を下部開閉蓋より落下させ急冷が可能な電気炉です。 電源は3相200V 60Aで、2系統プログラム温度調整器を採用。 また、試料サイズはφ30x60（白金ワイヤー吊り下げ式）です。 【特長】 ■Max1500℃までガス置換昇温した後試料を下部開閉蓋より落下させ急冷が可能 ■電源は3相200V 60A ■2系統プログラム温度調整器 ■試料サイズはφ30x60（白金ワイヤー吊り下げ式） ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 電気炉

『高温ガス雰囲気炉』は、下部から試料挿入可能な実験用炉です。 ヒーター内寸法はφ140mm×300mmHで、重量は200Kg。 デジタルプログラムPID制御を採用しています。 【特長】 ■下部から試料挿入可能な実験用炉 ■ヒーター内寸法はφ140mm×300mmH ■重量は200Kg ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 電気炉

『LPE装置(縦型2段式加熱炉)』は、溶湯に温度差をつけての実験に用いる 電気炉です。 サイズはφ80×300（有効内径）×2段。上下個別温度制御可能です。 また、駆動機構は「炉体上下」と「試料(溶湯)上下」、 「上部ロッド回転機構、上下微動」です。 【特長】 ■溶湯に温度差をつけての実験に用いる ■駆動機構 ・炉体上下 ・試料(溶湯)上下 ・上部ロッド回転機構、上下微動 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。　

• 電気炉

『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 コンピュータコントロールによるプログラム設定により、スピンコーティング、 乾燥、焼成、冷却の各工程の詳細な条件設定並びに、工程の省略、 工程フローの変更、工程の保存が任意に出来るプログラムとなっております。 【特長】 ■スピンコーティング、乾燥、焼成をCPUシステムにより、任意に変更可能 ■各工程は、手動、自動、両操作が出来る ■基板形状は丸、角、両方出来る ■スピンコータに液だれ防止が工夫されている ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。 【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載 ■放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備 ■酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備える ■対応基板は最大φ1インチまで処理が可能 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• スパッタリング装置

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• CVD装置

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプションでチャンバー上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能です。 【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができる ■サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能 ■簡単に試料セットする事ができる ■上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能（オプション） ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• CVD装置

『レーザーCVD装置』は、CO2レーザーをあてながらCVD成膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統　MFC仕様 ■φ300 x 300H　チャンバーサイズ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• CVD装置

『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料の距離を変更できるよう、マイクロ波導波管を 上下できる機構を備えています。 【特長】 ■実験用に極端に簡素化して製作 ■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■試料の取付は、下部よりモーターによる上下機構で交換 ■漏洩マイクロ波検出用も付属 ■内部機構は全てコンパクトに設計されており省スペース化を実現 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• CVD装置

『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、 　又下チャンバーはCF70ポートが6式標準装備されている ■上チャンバーは電動にて上下する機構を有している ■標準で膜厚計を装備するとともに、ガス雰囲気にする事も可能 ■2元の材料を簡単に蒸着出来る ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置

本製品は、理化学機器の販売を主とし、設計、製造を行う 株式会社和泉テックが取り扱っている卓上型高温電気炉です。 制御方式は、プログラム・サイリスタPID方式を採用。 サンプルの出し入れが容易な扉仕様となっております。 その他ご希望の仕様でも承りますので、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高到達温度1800℃(大気) ■急速加熱が可能 ■サンプルの出し入れが容易な扉 ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

• 電気炉