トルンプの製品・サービス一覧

トルンプの直流電源は、エンドユーザー様のプロセスの最適化と再現性をサポートします。 過酷な環境でも動作するように設計されており、出力精度と異常放電の抑制において妥協を許しません。 モジュール式の直流電源は組み合わせることで、簡単に電力範囲を拡張することができます。 スパッタリング、硬質コーティング、DLCコーティング、HiPIMSなど様々なアプリケーションに対応した製品ラインアップを展開しています。

トルンプのバイポーラ電源およびMF電源は、幅広い出力範囲と高度な異常放電抑制の技術『ArcManagement』により、難度の高い反応性プロセスにおける高い成膜レートと高品質のコーティングの実現をサポートします。 従来MF電源が利用されていた50kW未満の出力範囲では、現在バイポーラ電源が広く代替利用されており、コンパクトなサイズから省スペース化が図れる点も好評です。

トルンプの高周波電源は、半導体製造のエッチングやスパッタリングをはじめ、様々なアプリケーションで幅広く使われています。 独自の技術が生み出す高精度な出力制御、高い出力効率と堅牢な設計によりエンドユーザー様における高いスループットや運用コストの削減、省エネを安定的にサポートします。 トルンプは高周波電源にとって欠かせない整合器（マッチボックス）も揃えており、高度なアルゴリズムとプロセスモニターが可能なデジタル制御プラットフォームによって、迅速なインピーダンス整合が可能です。

トルンプのマイクロ波電源は、ソリッドステート方式による高精度な出力制御により安定した高密度プラズマ発生を実現します。 定期的な消耗部品交換が必要な従来のマグネトロン方式に比べて長寿命のため運転コストが低く、サイズもコンパクトです。

『TruPlasma MF 7000（G2）シリーズ』のジェネレータを使用すれば、 非常に重要なプロセスでも完全にコントロールを握ることができます。 たとえば、建築用ガラスへのSiOxなど難度の高い材料のコーティング、 フラットパネルスクリーンへのAlxOyコーティング、ソーラーガラスへの TCOコーティングなどです。 当社が開発した高度なMF技術により、非常に薄く（nmレベル）、高強度で 完全に均質なレイヤにすることが可能。豊富な周波数ラインアップにより、 様々なプロセスで活用いただけます。 【主な利点】 ■高い反応速度とそれに対応する残留エネルギーの低減により、 　安定したプロセスと最大限のスパッタ率が確保される ■フレキシブルな冷却コンセプト ■独自技術"イグニッションサポート"技術により、効果的なプラズマ点火 ■豊富な周波数ラインアップにより、様々なプロセスで活用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

信頼性が高く堅牢なDC電源・MF電源・RF電源ユニットは、様々な産業・ 用途に対応し、過去数十年にわたってお客様から揺るぎないご支持を 得ております。 力強さが特長の「TruPlasma DC 3000シリーズ（G2）/4000（G2）」を はじめ、アーク放電のスペシャリスト「TruPlasma Arc 3000シリーズ」、 高いピーク出力を有する「TruPlasma Highpulse 4000シリーズ（G2）」 などを掲載。 経験豊富なプロセスエキスパートが好適なソリューションを提供します。 【掲載内容（一部）】 ■プラズマ励起をどのように活用しているか ■お客様の日々の悩みを解決 ■TRUMPF Hüttinger製電源－ニーズに適した電力供給 ■電源以外にも必要なものがある ■ともにプラズマの未来を拓く ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ』は、高出力インパルス マグネトロンスパッタリング向けに専用設計された電力供給装置です。 硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも好適。 当製品が生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング （スパッタリング前処理）や半導体用途（トレンチ充填）にも 利用できます。 【主な利点】 ■飛沫フリーのスパッタリング、薄膜の不具合の低減 ■コンパクトな寸法、容易なシステム統合 ■既存の陰極およびプロセス要件に簡単に適応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ』は、美しい光学コーティングを 可能にするプラズマ電源です。 難度の高い材料の反応性スパッタリングプロセスに役立つように特別に設計。 このジェネレータは、太陽電池の製造、半導体の製造、硬質コーティングなど 重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮します。 【特長】 ■きわめて小さなアークエネルギー ■超高速デジタル制御プラットフォーム ■逆電圧は調整可能 ■幅広く調整可能なパラメータ：波数およびパルスパラメータ ■非常に高度な監視ツール ■完全水冷式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ』は、半導体製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD（PECVD）と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高クラスのアーク制御 ■エネルギー効率と力率 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

弊社は2024年12月に開催される「SEMICON Japan 2024」に出展いたします。 半導体製造装置に最適なプラズマ電源ソリューションの最新製品情報を展示するとともに、お客様のご相談を承ります。ご来場、弊社ブースへのお⽴ち寄りを⼼よりお待ちしております。 【開催概要】 ■日時：2024年12月11⽇（⽔）〜13⽇（⾦） ■会場：東京ビッグサイト ■住所：〒135-0063 東京都江東区有明3丁目11−1 ■ブース番号：3611（東3ホール） ■最寄り駅 ・りんかい線　国際展示場駅下車　徒歩約7分 ・ゆりかもめ　東京ビッグサイト駅下車　徒歩約3分 ■参加費：無料（⼊場登録が必要です）※ご登録は展⽰会主催者サイトから

当社が提供する誘導加熱電源は熱処理における理想的なソリューションです。 『TruHeatシリーズ』は、典型的な誘導加熱からエピタキシャル成長や チョクラルスキー法など特殊なアプリケーションまで幅広くカバー。 速度、安定性、制御とエネルギー効率を巧みに組み合わせることにより、 誘導加熱を的確に使用することで、様々な工業分野と多数の生産プロセスに おいて大きなメリットを得ることができます。 【特長】 ■典型的な誘導加熱からエピタキシャル成長やチョクラルスキー法など 　特殊なアプリケーションまで幅広くカバー ■パワフル、広い適合範囲、優れたプロセス信頼性 ■使用範囲と用途はほぼ無限 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。