キッツエスシーティーの製品・サービス一覧

『IVBH』シリーズは、ベローズの動きに追従するスパイラルヒーターを 内蔵し、弁開・弁閉状態でも弁体及びベローズを加熱できるL型真空バルブです。 当バルブは外部ヒーターだけでなく、ベローズの内部から加熱することにより コールドスポットをなくし、副生成物付着を極力少なくすることが可能。 ＃副生成物対策 内部・外部ヒーターは個別のチャンネルを持ち、それぞれMax180℃まで 任意の温度で加熱することができます。 【特長】 ■長期リーク性能を維持する事が可能 ■可動時の生成物脱落が少なくなり、パーティクル発生が極力減少 ■ベローズの高耐久化を実現 ■接続フランジは「ISO KF」「JIS VF/VG」など各種接続に対応可能 ■オプションとして磁気近接開閉スイッチ・サーモスタットなどをご用意 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『IVBHK』は、「IVBH」シリーズの構造をベースに接ガス部温度を 最高250℃まで昇温可能なL型真空ベローズホットバルブです。 バルブ外側ヒーターの他にベローズ内部のヒーターも装備されおり、 内部ヒーターは弁閉、弁開状態でも弁体とベローズを加熱できるため コールドスポットがなくなり副生成物付着を防ぎます。 ＃副生成物対策 また、エアシリンダ部への熱影響を低減する構造やインコネル製 ベローズの採用により実績100万回以上の耐久性能も確保しています。 【特長】 ■接ガス部の250℃加熱を実現 ■ベローズ内部ヒーターを装備 ■着脱可能な外部ヒーター ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『IVB/IVBL』は、従来同様、ボディにSUS304を採用し耐久性、 低コスト化を考慮したL型真空バルブです。 極限まで部品点数を減らしたシンプルな構造により低コスト化を実現し、 容易なメンテナンスが可能なデザインになっています。 ベローズシール構造により高いリーク性能を持っております。 【特長】 ■ステンレスボディの採用により、耐食性に優れ幅広いガス種に対応可能 ■角型ボディを採用する事により、低コスト化を実現（IVB） ■玉抜きボディを採用する事により、大きなコンダクタンス性能を実現（IVBL） ■ベローズシール構造により高いリーク性能を有する ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

「IVB_X,VX」シリーズは、チャンバー内部で発生するパーティクルの 巻き上げを防止します。 メインバルブとバイパスバルブが一体となっており、大気から真空に 排気する場合、若しくは真空から大気に戻す場合に起こる急激な圧力 変動を抑え、メインバルブ開閉前にバイパスバルブでスロー排気により 圧力コントロールをします。 バイパスバルブには流量の固定と排気スピードが調整可能なタイプの 2種類を用意しており、このバイパスバルブは15Aサイズを除く「IVB」 「IVBL」「IVBH」シリーズ全てに対応可能です。 【特長】 ■従来のスロー排気ラインがメインバルブと一体構造 ■省スペース化が可能 ■排気ラインの低コスト化が可能 ■バイパスバルブは機種によって複数台取り付けることが可能 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『BRWシリーズ』は、分解・洗浄・パッキン類の交換が可能な 真空フランジ ボールバルブです。 手動弁と自動弁をご用意。 ボールシートに耐久性・耐熱性に優れたハイパタイトPTFEを 使用しており、最高流体温度200℃まで使用可能。 フルボア構造は高いコンダクタンスと副生成物の堆積を抑制する 効果があり、CVD装置などの排気ラインに適しています。 ＃副生成物対策 【特長】 ■フルボア構造は高いコンダクタンスと副生成物の堆積を抑制 ■CVD装置などの排気ラインに好適 ■ボールシートに耐久性・耐熱性に優れたハイパタイトPTFEを使用 ■最高流体温度200℃まで使用できる ■分解・洗浄・パッキン類の交換が可能 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『IVBH-C015』は、L型真空ベローズシールホットバルブ用の デジタル温度コントローラーです。 当製品1台で、内部ヒーター・外部ヒーターの2チャンネルの ヒーターを同時に加熱することが可能。 制御温度範囲は室温～Max180℃で、入力電源はAC100V/200V共用 となっています。 【主な仕様（抜粋）】 ■制御温度範囲：室温～Max180℃ ■適用温度センサー：K種熱電対 ■適用ヒーター定格 ・AC100V　内部ヒーター400W/ 外部ヒーター400W ・AC200V　内部ヒーター800W/ 外部ヒーター800W ■入力電源：AC100V/200V 共用 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『IVWFシリーズ』は、半導体真空装置の真空排気ラインに設置できる シンプルな構造を持った遮断弁です。 シンプルな構造により、コンパクト化と軽量化を行ったことを特長とし、 バルブ取り付け作業が容易。 スロットルバルブの構造は、マイクロメーターハンドルの目盛りにより 開度の再現が可能であり、差動ネジ機構による微小調整ができます。 【特長】 ■コンパクト化・軽量化 ■バルブ取り付け作業が容易 ■最小の面間寸法により設置スペースの問題を解決 ■固定ネジにより任意の開度で設定できる ■差動ネジ機構による微小調整ができる ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『PCAシリーズ』は、バルブ開閉、スロー排気、調圧が可能なバルブです。 新開発のシートリング機構が、フラッパーに取り付けられたO-RINGの ねじれや脱落の問題を解消。また、フラッパーシール部がグリスレスのため、 反応室を汚染しにくい構造です。 シートリング機構採用により、Oリングへのストレス低減、高い耐久性能を 実現しました。 【特長】 ■バルブ開閉、スロー排気、調圧が可能 ■低真空から高真空まで圧力調整が可能 ■新開発のシートリング機構を採用 ■高耐久：全開・全閉動作 300万回 ■独自ヒーティングによる内部副生成物の低減 ■副生成物の多いプロセスへ優れた適応性を発揮 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『UXG/LGシリーズ』は、半導体真空装置の反応炉とトランスファーチャンバー 間の仕切りを行うために開発した角型のゲートバルブです。 ボディはアルミニウム製で、複動式エアーアクチュエーターにより作動。 ヒーター付き仕様は固定されたボディに内蔵している外部ヒーターによる 加熱だけでなく、可動部である弁体内部にもヒーターを持ち、外部と内部 の両方から加熱することにより、高い均熱性能を特長としています。 【特長】 ■メンテナンス期間を大幅に延長できる ■内部と外部の温度を個々に設定可能 ■バルブを開閉作動する時に、パーティクルが発生しにくい無摺動構造 ■バルブクローズを保つラッチロック機構を装備 ■ゲートのOリング材質として、フッ素ゴム・KALREZ・Chemraz等を用意 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社が取り扱う『開閉表示用磁気近接スイッチ』をご紹介します。 「IVB」「IVBL」「IVBH」シリーズのエアーシリンダー式バルブ （NC・NO・DA）は、バルブの開閉状態を検知する磁気近接スイッチを 取り付けることが出来ます。 無接点スイッチ「PE33L3」と、有接点スイッチ「PD31L3」をラインアップ。 耐衝撃は294m/s2で、動作時間、復帰時間は1ms以下となっています。 【ラインアップ】 ■無接点スイッチ「PE33L3」 ■有接点スイッチ「PD31L3」 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

AUTO PID制御を搭載したAPCバタフライバルブ [PCVAシリーズ]のご紹介です。 当製品はバルブ、コントローラー 一体型のAPCバタフライバルブで、 半導体製造の真空排気ラインでの使用に好適です。 半導体製造ラインでは温度や圧力の微細な変動が製品の品質に大きな影響を与えるため、 高精度な制御が不可欠です。AUTO PID制御は高精度な制御、迅速な応答、 長期的な安定性、外乱に対する強さに対して利点があり、 半導体製造において、要求されるプロセスの安定化に寄与します。 AUTO PID制御を搭載するAPCバタフライバルブ [PCVAシリーズ]は 自動で指定した目標圧力に到達でき、半導体製造プロセスの最適化と効率化に寄与します。 具体的には次の制御が可能です。 ■ 圧力制御：指定した目標圧力に自動で調整 ■ 目標変更：圧力制御時の目標圧力値の変化にも対応 ■ 流量変動：学習流量以外の流量に対しても圧力制御が可能 ■ 外乱影響：目標圧力制御中に流量が変化しても目標圧力に収束 ■ 位置ずれ検出：生成物付着やメカ部トラブル等による位置ずれの検知が可能