当社で取り扱う『EVAD シリーズ』をご紹介いたします。 当製品はPID温度制御された低温蒸着セルによる有機分子成膜の熱蒸着装置。 また、電子ビームや各種抵抗加熱による金属、誘電及び有機膜成膜です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■電子ビームや各種抵抗加熱による金属、誘電及び有機膜成膜 ■PID温度制御された低温蒸着セルによる有機分子成膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社で取り扱う『PLUME シリーズ』をご紹介します。 粉体やインライントリートメント用、リモートプラズマソース/ イマースドプラズマソースとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■多目的用途に対応可能なICP、中性原子、イオンソース ■粉体やインライントリートメント用 ■リモートプラズマソース/イマースドプラズマソース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『MAGNION、FLARION、EVADシリーズ』は、卓上薄膜蒸着及び プラズマ装置です。 マグネトロンスパッタPVD装置は、シングル・マルチカソード対応。 熱蒸着装置は、有機・無機材料向け蒸発ボート・小クヌーセン・ セル(K-セル)で、グローブボックスとのインテグレーションも可能です。 【特長】 ■マグネトロンスパッタPVD装置：シングル・マルチカソード ■熱蒸着装置：有機・無機材料向け蒸発ボート・小クヌーセン・セル(K-セル) ■グローブボックスとのインテグレーションも可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『FLARIONシリーズ』は、プラズマ成膜及びエッチング装置です。 PLUMシリーズのシームレスICPによるプラズマアシストリアクティブ成膜が可能。 また、基板回転機構、バイアス機構やプログラム制御された 軸動作機構の搭載が可能で、カスタマイズやインテグレーション用 オプションに対応しています。 【特長】 ■PLUM シリーズのシームレスICPによる 　プラズマアシストリアクティブ成膜可能 ■基板回転機構、バイアス機構や 　プログラム制御された軸動作機構搭載可能 ■カスタマイズやインテグレーション用オプション対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ATMOS-R2Rシリーズ』は、ロール to ロール装置です。 様々なタイプのフレキシブルなフィルムへの表面トリートメント・成膜し、 同一チャンバーのマルチゾーン化によりクロスコンタミを低減。 各種の成膜用ソースやトリートメント用ソースが 同一チャンバーに搭載可能で、FLOCONシリーズのガス、 蒸気や液体制御システムの統合による高い対応性があります。 【特長】 ■様々なタイプのフレキシブルなフィルムへの 　表面トリートメント・成膜 ■同一チャンバーのマルチゾーン化により 　クロスコンタミ低減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『MIRENIQUEシリーズ』は、マイクロ波プラズマソースです。 PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合など向けで、 リアクター及びプラズマソースは、MWPECVD用R&D装置に好適。 MW-SURFATRONSは常圧又は減圧に対応しています。 【特長】 ■PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合など向け ■MWPECVD用R&D装置に適したリアクター及びプラズマソース ■MW-SURFATRONSは常圧又は減圧対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、カーボンナノチューブ合成装置触媒蒸着を取り扱っております。 ハイブリッドリアクター構成によりPVDやPECVDプロセスに対応。 大気開放せずCNTやグラフェン合成の全てのステップ処理を実現し、 基板表面クリーニング、バッファー層成膜、触媒層を含めた 合成ステップに対応しております。 【特長】 ■MAGNIONシリーズのマグネトロン装置に 　PLUMEシリーズのプラズマソースを搭載可能 ■ハイブリッドリアクター構成により 　PVDやPECVDプロセスに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『GLAZEシリーズ』は、先端の薄膜成膜用パルスレーザー成膜装置です。 ハイブリッドプロセスによる高効率・高品質な成膜が可能。 800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能で、 マグネトロンカソードも搭載が可能です。 【特長】 ■先端の薄膜成膜用パルスレーザー成膜装置 ■ハイブリッドプロセスによる高効率・高品質な成膜が可能 ■800℃以上の基板加熱と反応性成膜が可能 ■マグネトロンカソードも搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『PUPIONシリーズ』は、プラズマイオン注入装置です。 ナノエレクトロニクス・フォトニクスでのShallow depth dopingや β放射線医療のグレードの放射性同位。 放射性同位元素注入時の放射性汚染を最小限に抑制し、 用途に応じたプラズマ励起技術の提案が可能です。 【特長】 ■ナノエレクトロニクス・フォトニクスでの 　Shallow depth dopingやβ放射線医療 ■グレードの放射性同位 ■放射性同位元素注入時の放射性汚染を最小限に抑制 ■用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社では、研究開発や小規模バッチ量産向け装置である、 「CVD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能。 また、FLOCONシリーズのフロー管理システムを搭載しております。 【特長】 ■研究開発や小規模バッチ量産向け装置 ■CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計 ■PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの 　多彩なプラズマソースが搭載可能 ■FLOCONシリーズのフロー管理システムが搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。 【特長】 ■FLOCONシリーズのフロー管理システムが搭載 ■PLUMEシリーズのICPプラズマソースを搭載可能 ■ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能 ■シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。