【その他の特長】 ■酸素濃度、炭素濃度測定 ■ロードポート：シングルまたはデュアルカセットロードポート ■高速マッピングステージ ■IR反射率測定ヘッドを使用可能（エピ膜厚用） ■追加の測定ヘッドを使用可能（分光エリプソメーター、4PPなど） ■エッジグリップ（オプション） ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【その他の特長】 ■非破壊、非接触 ■サンプルの前処理不要 ■高速フィードバック ■自動マッピング測定 ■ASTM F76スタンダードに準拠 ■従来の測定方式に比べて、大幅な時間短縮が可能 ■電極形成が不要 ■実際に量産されているウエハを誰にでも簡単に再現性の良い測定が可能 ■磁界制御とソフトウェア処理により、キャップ層がついたままの状態での測定も可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【主な測定・評価項目】 ■比抵抗プロファイル ■Epi層厚み測定 ■PN接合深さ測定 ■キャリア濃度分布 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【主な測定・評価項目】 ■化膜中の電荷の評価（VFB） ■界面準位測定（Dit） ■エピ層の抵抗率測定（ρ） ■低ドースイオン注入の部分的ドース量の評価（PID） ■ライフタイム測定（τｇ） ■高／低誘電材料の誘電率測定（ε） ■絶縁膜の信頼性試験（TZDB、TDDB） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。