ピーアイ・ジャパンの製品ラインアップ

半導体プロセスや検査装置では、サブミクロンレベルでの位置補正や焦点調整が品質安定化の鍵となります。特に検査工程や微細加工工程では、ナノメートル分解能での高精度位置制御が求められます。P-616 NanoCubeは、各軸100 µmのストロークを備えたコンパクトなXYZピエゾナノポジショナーです。高剛性フレクシャガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、ナノメートル分解能での微細位置調整が可能です。 半導体製造装置内の微動補正ステージや検査装置への組込み用途に適しています。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置の微細位置補正 ・マスク検査工程 ・レーザーアニール装置の焦点調整 ・プロービング装置の微動制御 ・半導体研究開発用途 【導入の効果】 ・ナノメートル分解能による高精度位置補正 ・バックラッシュレス構造による高再現性 ・コンパクト設計で装置組込みが容易 ・微細工程の安定化に貢献

P-616 は、パラレルキネマティクスを採用した XYZ ピエゾナノポジショナです。 高信頼性PICMAピエゾセラミックス、フレクシャーガイド、静電容量センサを各軸に内蔵した、再現性10nm、0.4 nm システム再現性を提供します。 ファイバーの位置決めとアライメント、顕微鏡、ナノ位置決め、フォトニクス、マイクロマニピュレーションなどに最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。 【特長】 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

P-611.3 NanoCubeは、XYZ 3軸制御を可能にする超小型ピエゾナノポジショニングステージです。44×44×44mmのコンパクトサイズながら、最大120µmの移動量と0.2nmの分解能を実現し、ナノレベルの位置決めが求められる研究・産業用途に最適です。 高精度フレクシャーガイド構造によりバックラッシュのない滑らかな動作を実現し、高速スキャンや高精度アライメントに対応します。 さらに、PI独自のPICMA（R）ピエゾアクチュエータを採用し、湿気や漏れ電流による故障を防止。従来のポリマー絶縁型アクチュエータと比べて最大10倍の長寿命を実現しています。

高信頼性のPICMAピエゾセラミック駆動、静電容量センサによるダイレクト計測を行うXYZ軸ナノポジショニングステージです。 XY軸動作量は、30ｘ30µｍと100 × 100 µmタイプで、Z軸は10 µmストロークになります。 開口　50 × 50 mmを持つため透過光アプリケーションにも最適。 高精度顕微鏡、マスク/ウェーハの位置決め、計測技術などに使われます。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

半導体製造分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて極めて高い精度と安定性が求められます。微細化の進展により、ナノレベルの位置決め誤差がデバイス性能や歩留まりに直接影響する時代となっています。特に露光装置や検査装置では、再現性と安定性を兼ね備えた精密制御が不可欠です。 P-733.2は、再現性±1nmの高精度XYナノポジショニングを実現。100µmストロークと高剛性パラレルキネマティクス構造により、半導体製造装置への組込み用途にも適しています。高精度位置決めにより、工程安定化と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・露光装置 ・マスク／ウェーハ位置決め ・検査・計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmによる工程安定化 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・安定動作による装置性能の最大化

光学分野における精密な光軸調整や位置決めは、システム性能を最大化するための重要な要素です。特に高分解能顕微鏡や精密計測装置では、わずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。 高精度パラレルキネマティクス構造を採用した P-733.2 は、再現性±1nm のナノレベル位置決めを実現し、XY軸100µmのストロークで透過光アプリケーションに対応します。研究開発から装置組込みまで、光学系の高精度化や調整作業の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度顕微鏡 ・マスク/ウェーハの位置決め ・干渉計・光学計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmの高精度位置決め ・透過光光学系へのスムーズな組込み ・光軸調整時間の短縮と開発効率向上

高精度計測において、プローブの位置決め精度は測定結果の信頼性を左右します。わずかな振動やクロストークが誤差要因となるため、高剛性かつクローズドループ制御による安定したナノポジショニングが求められます。 P-561・P-562・P-563 PIMars Nanopositioning Stages は、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ多軸ピエゾフレクシャステージです。再現性±2 nm、リニアリティ0.03％を実現し、低クロストークで高精度なプローブ位置決めを可能にします。 高共振周波数と優れた動的特性により、高速スキャン計測や微小変位測定にも対応。半導体検査やナノ材料解析など、精密計測用途に最適です。 【活用シーン】 ・半導体検査 ・超解像顕微鏡 ・フォトニクス調整 【導入の効果】 ・高精度な測定結果の実現 ・測定時間の短縮 ・製品品質の向上

P-561〜563シリーズは、パラレルキネマティクス構造と静電容量式センサを採用したXYZ軸動作ピエゾナノポジショナ。 動作量は、XYZ 各100／200／300 µm（モデル別）で再現性は±2nm、リニアリティ：0.03％をもちます。 開口は、66×66 mmで透過光・レーザ光路を確保します。 ダイレクト駆動タイプは、XY軸45µｍ、Ｚ軸15µｍ動作で、1000Hzの無負荷時共振周波数を持ち、高分解能で高速応答が実現します。 また、PICMAピエゾセラミックスは、オールセラミックスで絶縁されており対湿度性をもち、高信頼性、長寿命を確保します。半導体検査、超解像顕微鏡、フォトニクス調整などに最適です。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。

精密加工分野では、さらなる微細化と高品質化が進み、ナノレベルでの位置決め精度が製品性能を左右する重要な要素となっています。特にレーザ加工やマイクロパターニングでは、振動や摩擦によるわずかな誤差が加工品質に直結します。 P-517／P-527 マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイド一体構造を採用し、バックラッシュや摩耗を排除。PICMAピエゾセラミックと高分解能静電容量センサーにより、ナノレベルの再現性と高ダイナミクスを実現します。安定した高速応答により、微細加工における高精度な位置制御を可能にし、加工品質と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レーザ微細加工装置 ・マイクロパターニング ・ウェーハ加工・検査装置 ・ナノポジショニング用途 ・精密計測・加工システム 【導入の効果】 ・ナノレベルの高精度加工制御 ・安定動作による加工品質向上 ・加工時間短縮と生産性向上 ・歩留まり改善によるコスト削減

計測分野における校正や微細位置調整では、高い再現性と安定した位置決め性能が不可欠です。特にナノスケールでの測定やアライメントでは、わずかなバックラッシュや摩擦が測定結果の信頼性に影響を与えます。 P-517／P-527 マルチ軸ピエゾスキャナは、摩擦ゼロのフレクシャガイドによる一体型構造を採用し、ヒステリシスや機械的遊びを最小化。ナノレベルの分解能と高再現性により、校正作業や精密計測の精度向上に貢献します。安定した動作特性は、長期的な測定信頼性の確保にも寄与します。 【活用シーン】 ・光学検査装置 ・ウェーハ検査・計測装置 ・ナノポジショニング用途 ・精密計測システム ・顕微鏡・走査系装置 【導入の効果】 ・高再現性による校正精度の向上 ・摩擦ゼロ構造による安定した測定環境 ・測定データの信頼性向上と品質管理強化

光学分野における位置決めは、高精度な測定や検査、微細加工において、非常に重要な要素です。特に、レンズやミラーなどの光学部品の位置調整は、システムの性能を左右する重要な課題です。従来の機械的な位置決め方法では、摩擦やバックラッシュによる精度の限界があり、高精度な位置決めが困難な場合がありました。P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、ナノレベルの分解能と再現性により、光学部品の位置決めにおける課題を解決します。 【活用シーン】 ・光学検査 ・ウェハー検査 ・ナノポジショニング ・計測 ・顕微鏡 【導入の効果】 ・サブナノメートルの分解能による高精度な位置決め ・摩擦ゼロのフレクシャガイドによる安定した動作 ・静電容量センサーによる高いリニアリティ ・50 x 50mmの開口による透過光測定への対応

P-517/527マルチ軸ピエゾスキャナは、摩耗ゼロのフレクシャガイドとPICMAピエゾセラミック、静電容量センサーを用いて、ナノレベルの再現性、分解能をもち、動作軸は、XY軸、XYZ軸、XYθz軸のタイプがあります。 XY軸は100µmと200µm、Z軸は20µm、θzは2mradタイがあります。耐荷重50Nあり、光学検査、ウェハー検査、ナノポジショニング、計測、顕微鏡などアプリケーションに最適。 センター開口部は、66×66mm。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。