日本エム・ケー・エスの製品・サービス一覧

半導体やFPD製造を始めとする様々な製造プロセスに用いられるガスの、測定・制御・分析を行う機器・コンポーネンツ・サブシステムの開発・製造・供給、また反応性ガス発生器や電源の開発・製造・供給を行っている日本エム・ケー・エス株式会社のご紹介です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器

半導体やFPD製造を始めとする様々な製造プロセスに用いられるガスの、測定・制御・分析を行う機器・コンポーネンツ・サブシステムの開発・製造・供給、また反応性ガス発生器や電源の開発・製造・供給を行っている日本エム・ケー・エス株式会社のご紹介です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

『MultiGas TFS Monitor』は、19インチラック型、オンライン、 複数ガス対応、微量ガスモニタリング装置です。 高い選択性と安定測定を可能にするTunable Filter分光法技術を使用。 従来の分析手法に代わり、微量炭化水素、水分、CO、CO2、N2Oの 低コストで高性能な分析を可能にします。 さらに、恒久校正機能により高価な校正用基準ガスが不要になります。 【特長】 ■高い分析性能 ■低検出限界、高安定性、広範囲のリニアリティ ■複雑な設定、インストール作業を軽減するintegration-readyシステム ■恒久校正機能により高価な校正用基準ガスが不要 ■低COO(コストオブオーナーシップ)、インストールとメンテナンスが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器
• 分析機器・装置

『Series 355』は、世界最小クラスのイオンゲージと制御 エレクトロニクスを組み合わせた、コンパクト、簡単、高信頼性、 低コストの高真空アプリケーション用真空ゲージです。 6.66Pa～1.33×10-7Paの真空領域で従来のベアード・アルパートゲージより 正確で再現性の高い測定を可能にする多くの機能を搭載しています。 トランスデューサには、アナログ出力、RS485またはDeviceNet インタフェースが搭載されています。 またアナログ出力およびDeviceNetバージョンには、圧力表示デジタル ディスプレイオプションがあります。 【特長】 ■コンパクト、簡単、高信頼性、低コスト真空測定 ■真空圧測定 1.33×10-7Pa (10-9 Tor/10-9mbar) ■デュアルフィラメントにより、装置の稼働時間を延長 ■ウルトラクリーン構造によるポンプダウン時の高速応答 ■CE適合の頑丈なオールメタルパッケージで 　耐RF、耐ノイズ性に優れたトランスデューサ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器

『Type GM51A』は、幅広い用途に適した1.125"（28.6mm）幅メタルシール、 N2換算フルスケール5sccm～50slmのマスフローコントローラです。 実績のある特許取得熱センサとデザインに、デジタルフロー制御 エレクトロニクスを組み合わせました。 MKS制御アルゴリズムを使ったデジタル制御エレクトロニクスにより、流量 セットポイントに対し標準応答時間500msecと高速で再現性の高い応答をします。 多彩なガス種にN2換算フルスケール5sccm～50slmのマルチレンジで使用可能。 100種以上のガスおよび混合ガスのパラメータが既にメモリ登録されています。 電解研磨仕上げメタルシールにより、高純度プロセス用途に適しています。 【特長】 ■特許取得済みのサーマルセンサ設計による優れたゼロ安定性 ■セットポイント1%(校正ガス)の高精度で正確なプロセスコントロール ■ユーザーインタフェース内蔵 ■レンジとガス種を簡単に変更でき在庫を削減 ■in-situで機器監視、データ収集可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• コントローラ
• その他プロセス制御

『高精度圧力測定器』は、キャパシタンス・ダイアフラム・センサ技術と ソリッドステート・エレクトロニクスをベースにしたシステムです。 先端プロセス/計測の現場で求められる機能を搭載し、製造ライン、 計測研究所を問わず高精度計測をサポートします。 製造および研究の現場で、長年にわたり圧力測定の標準モデルとして 実績のあるMKSの高精度バラトロンには、各種圧力レンジ、精度、 オプション、付属品が用意されており、用途に適した仕様を選択可能です。 【特長】 ■非常に低い温度係数により優れた温度安定性を実現 ■同タイプのセンサ中、高精度の圧力測定を提供 ■タイプ670Bシグナルコンディショナとセンサのセットで測定 ■圧力校正の二次標準として好適 ■6桁測定を行うことにより複数センサを一台で測定可能(分解能に制限あり) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器

『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、 高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。 当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや 様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。 またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作 パラメータをプロセスツールや工場ネットワークへほぼリアルタイムに 情報提供することを可能としています。 当製品は、プロセスツールの高稼働率を維持するためのプロセスパラメータの モニターや変更と稼働状況診断 (APC/FDC) アプリケーションをサポートする ための情報をプロセスツールや工場データベースへ流通させることができます。 【特長】 ■チャンバに直接設置できる機能内蔵一体型ユニット ■高密度酸素系プラズマ用石英アプリケータ ■最大6kWの出力 ■高い出力再現性 ■高精度出力コントロール＜1％ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器

『AIRGARD CWA/TIC』は、フーリエ変換赤外分光法を用いた超高感度の ガスアナライザで、有毒ガスを迅速に検出します。 ほとんどのCWAやTICについて、有毒なIDLHレベルを下回る ppbレベルにて20秒以内に検出することが可能です。 低レベルの検出能力と高速レスポンスを備えているため、万一空調システムの シャットダウンや屋内退避もしくは被災域からの避難が必要になった際にも、 適切な対応を行うのに充分な時間が確保されます。 米国国防総省による徹底的な試験が行われており、正当性のない屋外避難や 付随する営業停止、緊急時通報が発生することを防止します。 【特長】 ■数ppbレベルの検出限界‐幅広いレンジの有害物質を識別し警報を発する ■有害化学物質の警報を発し識別するまでの標準時間は20秒未満 ■コンピュータとサンプリングポンプを内蔵する自己完結型 ■連続大気モニタリングが可能（週7日／24時間） ■リモートでトラブルシューティングを行うことが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• ロジックアナライザ

『Type AA07A/Type AA08A』は、優れた価値および性能を有した 高精度の圧力トランスデューサです。 Incoloyを使用した堅固なセンサ筐体による極めて低い熱係数で 幅広い温度範囲にご使用いただけます。 高精度、長期安定性、低熱係数により昨今のガス測定アプリケーションに 必要な測定再現性を実現します。 【特長】 ■優れた価値と性能 ■接ガス部はIncoloyを採用し、腐食性ガスや液体の測定にも対応 ■0-5VDC, 0-10 VDC, 4-20mA 二線式 出力タイプから選択可能 ■高い耐圧仕様でゼロ点再現性および性能の長期安定を保証 ■低い圧力範囲で優れた結果が得られる読み値の％精度 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 変換機・トランスデューサ

『1179C』は、様々なアプリケーションに対応する汎用型の マスフローコントローラです。 10sccm～20simのフルスケールレンジがあり、0.2sccmの低流量まで 高速で再現性の高い流量制御が可能です。 また適合する圧カトランスデューサを接続することで圧力制御装置 としても使用可能。ほとんどの一般的なMFCと直接置換え可能です。 電気コネクタは業界標準品と同じピン配置、信号および機能を備えた Dサブコネクタで、ケーブルやコネクタの変更も不要です。 MKSおよび他社のMFC電源、表示器と互換性があります。 【特長】 ■要求の厳しいプロセスに対応 ■特許1取得済みのセンサ設計により、優れたゼロ安定性 ■フルスケールレンジ10sccm～20simで正確で再現性の高い流量測定、制御 ■アナログはフルスケールのパーセント精度 ■高速ウォームアップでダウンタイム低減 ■他のMKS製MFC、電源リードアウトと互換性あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• コントローラ

『Baratron600シリーズ』は、苛酷なプロセス環境においても正確で 再現性の高い圧力、真空測定が可能なように設計されたRoHS対応の 絶対圧型キャパシタンスマノメータです。 最も安定性の高い低圧測定圧力トランスデューサとして利用されています。 【特長】 ■最小2.66PaF.S.を実現 ■ガスの成分に関係なく、トータル圧力を直接測定 ■読みの％精度で、1×10-4F.S.まで測定 ■最高200℃温度制御タイプからセットポイントリレー付きまで各種ラインナップ ■オールInconel又はIncoloyニッケル合金の耐腐食性構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器

「MultiGas TM Purity」は、高純度バルクプロセスガス中のppbレベルの不純物を検出可能なFTIRベースのアナライザです。 高分解能のアナライザによるバルクガス中の不純物の特定に威力を発揮します。 【特長】 ■NF3、NH3、H2などのガスで、バルクガス製造の品質向上に貢献実績 ■腐食性高純度ガスにも対応する構成 ・サンプルラインとガスセルは316SS溶接タイプ ・水分や大気からの汚染物質を低減する加熱型オプティカルパスを採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

「Paragon（R）」は、量産実績のあるMKS低磁場トロイダルプラズマ源の特性を基に、次世代ナノプロセス開発と製造に、より適したデータ転送と制御性を実現しました。 CVDおよびALD／ALEプロセスチャンバークリーニングに対応し、8slmのNFガス流量および最大10Torrの圧力条件においても高い分析効率（＞98％）が得られます。 【特長】 ■NF最大流量8slm、コンパクトな設計でクリーニング時間短縮 ■PEOコーティングを採用した独自のプラズマブロック設計により、プロセス性能と寿命を向上 ■RoHS適合、CE、S2、F47 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

「DA03A」は、RoHS対応のデジタル高温タイプBaratron（R）キャパシタンスマノメータです。 高温で動作することによりセンサ内部へのプロセス副生成物の堆積を最小限に抑えます。 これにより副生成物堆積によって生じる出力ドリフトをほぼ無くします。 150℃または160℃の動作温度で使用でき、メタルエッチングや絶縁膜CVDのような半導体製造における最も必要とされかつ環境の厳しい真空プロセスでの使用が可能です。 【特長】 ■150℃、160℃高温動作可能 ■オールlnconelのキャパシタンスセンサ ■コンパクト設計による省スペース ■ガス種によらない安定性能 ■EU用RoHS適合 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

■F.S.レンジ：1.33×10<SUP>1</SUP>〜3.33×10<SUP>6</SUP>Pa ■精度：読み値の0.05〜0.12％ ■有効数字：6桁 ■45℃温度制御

• その他半導体製造装置

装置の真空の質（正常／異常）を判別するＲＧＡ装置です。 これまで、シリアルケーブルやLAN（イーサネット）で行っていた距離制限のあるRGA管理制御が、ネット環境のある所であれば、世界中からアクセスでき、距離を越えて制御が行えます。 使い易さの向上のみならず、プロセスモニタリングやe-Diagnostics（診断）に新しい可能性を切り開きます。 【仕様】 ◇マスレンジ：　1-100 / 1-200amu ◇分解能　　：　≦10％valley（マスレンジ内の同じ高さのピーク間） 【特長】 ○低価格＆コンパクト１．９ｋｇ（コントローラ重量） ○簡単なインストールと、最少の保守メンテナンスでご利用できます。 ○10Base-T のEthernetインターフェイスと組込型ウェブサーバーを内蔵し、 　ネット環境を利用したダイレクト操作を実現 ※詳細は資料請求からお問い合わせください。

• その他半導体製造装置

高温制御型の真空計で長年の実績を持つMKSが提供する最新モデル コンパクトな一体型、省電力を実現

• その他半導体製造装置