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株式会社三明

設立1928年4月20日
資本金2000万
従業員数120名
住所静岡県静岡市清水区松原町6-16
電話054-353-3271
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2025/07/09
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MEMS製品/露光装置(マスクアライナー) MEMS製品/露光装置(マスクアライナー)
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ステッピングサーボ/高性能アライナー ステッピングサーボ/高性能アライナー
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パレタイズ・デパレタイズ パレタイズ・デパレタイズ
ピッキング ピッキング
パラレルリンクロボ/バリ取りロボ パラレルリンクロボ/バリ取りロボ
MEMS製品/露光装置(マスクアライナー)

MEMS製品/露光装置(マスクアライナー)

MEMS製品・露光装置(マスクアライナー)の製品をご紹介いたします。

三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト(低価格)】

研究開発から、少LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」のローコストな露光装置/マスクアライナーをご提案!

 株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、 両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスの スタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、 少ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマスクアライナー」など、 優れたローコストな露光装置を多数取り揃えております。 *詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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マニュアル両面マスクアライナー『BA100/160/200』

露光光源照度分布は±5%以内!デスクトップ型と自立型のモデルをラインアップ

『BA100/160/200』は、上下両面に高位置精度パターニングするマニュアル型の両面マスクアライナーです。 デスクトップ型でウェハサイズ4inの「BA100」と6inの「BA160」に加え、 自立型でウェハサイズ8inの「BA200」をラインアップ。 また、アライメント精度はTop-sideにて±2μm、Bottom-sideにて±5μm としております。 【仕様(抜粋)】 ■ウェハサイズ:4in/6in/8in ■露光光源照度分布:±5%以内 ■露光解像度  ・ソフトコンタクト:L/S 3μm  ・ハードコンタクト:L/S 1μm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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スプレーコーター

立体レジスト塗布・MEMSデバイス対応!水や低粘度液体から高粘度液体まで微細化

『スプレーコーター』は、低粘度から高粘度の薬液に対応し、 微細な凹凸に塗布ができます。 微細粒子化が可能なスプレーノズルにより、サブストレート上の傾斜面、 キャビティ、トレンチ構造部分など、従来のスピンナーで塗布が困難で あった部分にも均一な膜を形成可能。 反射防止膜などの薬液をガラス材に均一にスプレーする用途にも好適です。 【特長】 ■微細な凹凸に塗布が可能 ■低粘度から高粘度の薬液に対応 ■数μmから数百μmの膜厚に対応 ■立体レジスト塗布・MEMSデバイス対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ムラビューワー

ナノクラスの微細な変化も見逃さない!半自動で欠陥を判別して可視化することが可能

『ムラビューワーシリーズ』は検査の常識を変える 「見えない・見えにくい」欠陥を「くっきり・鮮やかに」に 確認できる新感覚のスコープです。 ガラス・水晶・サファイア等の表面に残るナノサイズの微細な 研磨痕・オレンジピール・スクラッチや内部にある微細な 脈理・結晶欠陥等も、目視による検査・評価が可能になり、表面粗さ の管理・研磨条件の設定、蒸着後の歩留まりが確実に向上します。

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PECプロセス装置

シンプル構造で低価格を実現!GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹介

当社が取り扱う『PECプロセス装置』をご紹介します。 光源・波長はUVA、UVCから選択でき、エッチング溶液加熱により 高速な深堀エッチングが可能。 タッチパネル入力でエッチングリンスをパラメータ設定できます。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■10mm□小片チップからφ6インチウェハ ■GaN 低ダメージエッチングが可能 ■シンプル構造で低価格を実現 ■高速な深堀エッチング可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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UVナノインプリントステッパー

2~8インチウェハ対応!デバイス製作に必要な高精度アライメントを備えています!

当社が取り扱う『UVナノインプリントステッパー』をご紹介します。 大型樹脂モールドを使用したロール転写方式で、一括全面転写が可能。 また、高精度な転写圧力制御で、追加オプションとして加熱機構を ご用意しております。 【特長】 ■2~8インチウェハ対応 ■デバイス製作に必要な高精度アライメント ■高精度な転写圧力制御 ■加熱機構追加オプション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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カスタマイズ対応検査装置『SIM 3000』

300mm×300mmサイズなどの大型ワークに対応!カスタマイズ可能なベースモデル

『SIM 3000』は、お客様のご要望に応じて、様々な機能をカスタマイズする ことが可能な、カスタマイズ対応検査装置のベースモデルです。 1μmサイズの異物、欠損、キズ、ムラなどを自動検出。 ミクロとマクロの検査ユニットを搭載して各種検査への対応や、複合機能で 検査レビューや加工個所の修正確認など、お客様の目的に合わせたシステム 構築ができます。 【特長】 ■300mm×300mmサイズなどの大型ワークに対応 ■1μmサイズの異物、欠損、キズ、ムラなどを自動検出 ■精度の高いマッピングデータと欠陥リストの生成が可能 ■お客様のご要望に応じて、様々な機能をカスタマイズ可能 ■ミクロとマクロの検査ユニットを搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ウェハ・エッジビューワー『SIM-2300EG』

録画機能搭載!貼合せ、バックグラインド、トリミングなど様々なウェハに対応

『SIM-2300EG』は、録画機能搭載のウェハ・エッジビューワーです。 ウェハの薄さが求められる昨今のプロセスで、バックグラインド時の 「チッピング」や「クラック」、貼合せ時の「異物付着」や「位置ずれ」など、 気になるウェハ・エッジ状態を見ることが可能。 高精度なメカニカル・ウェハサイズチェンジャー、調芯機能を搭載し、 エッジ部の上下面と側面の連続録画、寸法測長や2値化表示ができます。 【特長】 ■ウェハサイズは4インチ~12インチに対応 ■高精度なメカニカル・ウェハサイズチェンジャー、調芯機能を搭載 ■貼合せ、バックグラインド、トリミングなど様々なウェハに対応 ■エッジ部の上下面と側面の連続録画、寸法測長や2値化表示が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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量産工程用露光装置『全自動マスクアライナー』

サイズは4inと8inをご用意!〇型□型試料に対応した高い汎用性を有しております

当社が取り扱う量産工程用露光装置『全自動マスクアライナー』を ご紹介します。 シンプル構造で低価格を実現。 〇型□型試料に対応した高い汎用性を有しております。 4inサイズの「ALA410」と、8inサイズの「ALA810」をご用意しています。 【特長】 ■高い汎用性(〇型□型試料対応) ■信頼性の高い球面軸受 平行機構 ■シンプル構造で低価格を実現 ■Φ4in、Φ6in、Φ8in仕様 ■CToC自動搬送 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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半自動露光装置『半自動マスクアライナー』

4inと8inサイズをご用意!アライメント露光が可能な多品種量産用半自動露光装置!

株式会社三明で取り扱っている『半自動マスクアライナー』をご紹介します。 当製品は、露光光源が照度分布±5%以内の多品種量産用半自動露光装置です。 自動ギャップ調整から手動アライメント、自動コンタクト露光、自動搬送の 流れで行うことができます。 詳細については、お気軽にご相談ください。 【仕様】 ■φ4in φ6in φ8in 仕様 ■Top-side アライメント ■Bottom-side アライメント ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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