500μm厚までの厚膜レジストやポリイミドを非接触で高精度測定。
自動レジスト膜厚測定装置 KV-300/KF-10は従来安定した膜厚測定が困難とされていた超厚膜レジストを非接触で高精度な測定ができます。標準搭載の自動マッピング機能は、高精度自動ステージにより基板の面内膜厚分布をスピーディに表示します。KV-300は、自動R-θステージ採用により、300mm基板に対応しながらもフットプリントを最小限に抑えた設計になっています。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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基本情報
【主な特徴】 ○非接触にて500μm厚まで測定 ○300mmウェーハに対応 ○膜厚分布マッピング標準搭載 ○ウェーハ厚さ測定機能 Si-71 【その他の特徴】 ○300mmウェーハ用自動膜厚測定装置KV-300 →多種類基板、不定形基板から最大φ300mm基板まで対応した、自動ステージ及びマッピング機能搭載装置です。 ○自動膜厚測定装置KF-10 →最大φ200mm基板に対応した、自動ステージ及びマッピングソフト搭載装置です。 その他に、低価格のマニュアルステージモデルを用意しています。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピン塗布コータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。