有機EL基板洗浄に最適！アルカリ対応スピン洗浄装置
本装置はワークを本体に手動でセットし、真空吸着させスピン回転させながら二液体洗浄、超音波洗浄、N2ブロー乾燥を行う装置です。
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基本情報
洗浄ワーク ●PETフィルム及びガラス基板 50～300角 ｔ＝0.7、1.1mm ●8,12インチウエハ 各種ワーク対応（オプション） 洗浄水 ●アルカリ ●純水 ●水素溶解水 ●オゾン水 対応回転数 MAX 3000rpm 純水供給部 0.3Mpa 以上 N2ブロー乾燥 N2ブロー乾形寸法 外形寸法 W1180×D1350×H1610
価格情報
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価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
※受注後4ヶ月
用途／実績例
●PETフィルム及びガラス基板 50～300角 ｔ＝0.7、1.1mm ●8,12インチウエハ 各種ワーク対応（オプション）
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企業情報
2009年7月経済産業省より中小企業ものづくり基盤技術の高度化に関する研究開発計画の認定を受ける。 2010年6月太陽電池用ガラスエッチングについて、産業技術総合研究所と共同開発を開始 2011年2月3次元半導体研究センターに8インチケミカル洗浄装置を受注搬入 2011年7月埼玉県より次世代産業参入支援事業受託 2011年11月アルカリスピンエッチング装置開発。 仕様：大型基盤用（300角） 2012年2月埼玉県次世代産業参入支援事業終了 2012年4月太陽電池用シリコンウエハセパレーター新開発。