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EJD-6BY-CMP

最終更新日:2017年09月22日

日本エンギス株式会社
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多機能コンパクトCMP対応の両面ポリッシング装置誕生!

“Trinity-Y” シリーズから6Bサイズのコンパクトで多機能なCMP対応両面ポリッシング装置が誕生しました。 フルステンレス防塵カバーと細部に渡り徹底的に耐腐食性材料を使用し製作しているため、あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。 また他のTrinity-Yと組み合わせることで省スペース化を実現し、無駄のない高機能な加工システムを構築することができます。

    ウエハ加工/研磨装置
図2.png

両面ポリッシングシステム『EJD-6BY』

図2.png
図2.png
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基本情報

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価格帯

500万円 ~ 1000万円

納期

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用途/実績例

パワーデバイス基板(GaN,SiC等)両面ポリッシング サファイア基板、スマートフォン部品、HDD基板等

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この製品に関するニュース(1)

展示会 『SEMICON JAPAN 2017』 に出展します(開催日程:2017年12月13日~12月15日)

  • セミナー・イベント

日本エンギスは、2017年12月13日(水)~12月15日(金) 東京ビッグサイト(東京国際展示場) にて開催されます 「SEMICON JAPAN 2017」 に出展いたします。 今回の展示会におきましては主力製品 ラッピング装置のニューモデル 『高速&高圧研磨機 EJW-400HSP』 を展示しておりますので、弊社の技術力の一端をご高覧いただければ幸甚に存じます。 当日は、研磨(主に平面研磨)のご相談も受け付けておりますので、お気軽に弊社ブースを訪問していただければ幸いです。 多くの皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。

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当社は、米国及びヨーロッパ各国のエンギス姉妹会社が長年蓄積してきた ダイヤモンド・ラッピングのノウハウを基礎とし、常に斬新適確な最先端の ラップ・テクノロジーをお客様に提供することをモットーにしております。 私共全スタッフは、より高精度、高品質のラッピング・プロセス技術をお求めのお客様を心よりお待ちしております。

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